杂质过滤装置和装有该装置的半导体设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种过滤装置，特别涉及一种杂质过滤装置和装有该装置的半导体设备，属于过滤设备领域。
【背景技术】
[0002]半导体工艺由许多单个工艺组成，其中包括可产生杂质的干蚀刻工艺，干蚀刻工艺进行时，由于部分气体不能完全反应，通常会将未反应的气体会通过干泵进入到工艺气体处理器内，并在工艺气体处理器内完成净化的过程。
[0003]如图1所示，干蚀刻工艺中未反应的气体和蚀刻过程中产生的杂质通过排气管3进入到干泵6中，在此过程中未反应的气体受到温度的影响会形成更多的块状杂质6A进入到干泵6中，当大量的杂质进入到干泵6内，使干泵6瞬间的超负荷运行导致干泵6的电流值上升，引起干泵6的驱动停止运行，还会对设备和工艺中的晶片造成严重损坏；此外，由于安装在干泵6内部的转子和定子之间夹杂有杂质，会使干泵6内的转子无法旋转，导致工艺腔体I由真空状态转变成大气压状态，由于受到气压回流的影响，不仅腔体内部晶片会受到污染，还会对晶片造成损坏，严重影响工艺效率及质量。
【发明内容】
[0004]针对上述现有技术存在的问题，本实用新型提供一种杂质过滤装置和装有该装置的半导体设备，可有效阻止杂质进入到干泵内，避免晶片受污染、损坏及设备运行率降低的问题，同时能防止干泵突发性终止运行及设备损坏。
[0005]为了实现上述目的，本实用新型采用的一种杂质过滤装置，包括可安装在排气管上的存储箱，存储箱的两端分别设有用于联通排气管的进入口、排出口 ；
[0006]所述的存储箱内靠近进入口的一端设有沿侧壁由上而下倾斜延长的隔板I，靠近排出口的一端设有由下而上倾斜延长的隔板II，隔板I与隔板II配合便于气流在存储箱内部流通循环；
[0007]所述的存储箱外侧靠近排出口的一端设有若干用于排出杂质的清理口，清理口采用可拆卸的方式安装在存储箱上；
[0008]排气管内的气流从进入口流入杂质过滤装置内，依次流经隔板1、隔板II后，从排出口流出，气流流动过程中，杂质沉积在存储箱底部，经清理口排出。
[0009]作为本实用新型的进一步改进，清理口为两个，分别设置在隔板1、隔板II的末端下侧，便于流经隔板后沉积的杂质从清理口排出。
[0010]作为本实用新型的进一步改进，清理口采用螺纹连接安装在存储箱上。
[0011]本实用新型还提供了一种装有上述杂质过滤装置的半导体设备，包括工艺腔体、安装在工艺腔体上的压力控制器，压力控制器的一端通过排气管依次连接有分子泵、干泵，所述的分子泵两侧的排气管上分别装有用于控制气流速度的主阀门，分子泵与干泵间的排气管上装有控制该段排气管开闭的贯通阀；
[0012]所述的分子泵与干泵间的排气管上外接有若干杂质过滤装置，每个过滤装置的两端分别装有控制气流进出过滤装置的关闭阀；
[0013]当关闭分子泵与干泵间排气管上的贯通阀，打开杂质过滤装置上的关闭阀时，气流经杂质过滤装置的过滤除杂后流入干泵内。
[0014]作为本实用新型的进一步改进，分子泵与干泵间的排气管上外接有两个杂质过滤
目.ο
[0015]与传统的半导体设备相比，本实用新型的有益效果是:通过在半导体设备中加装杂质过滤装置，并通过贯通阀与关闭阀的配合使用，使从分子泵内流出的未反应气体和产物杂质从进入口流入过滤装置内，在沿装置内的隔板的循环流动过程中，杂质沉积在过滤装置底部，可经清理口排出；除杂后的气体在隔板间流动后从排出口进入干泵内，避免了杂质进入干泵内，有效避免了晶片受污染或损坏，避免了设备运行率降低的问题，同时能防止干泵突发性终止运行及设备损坏，切实保障了工艺效率及质量。
【附图说明】
[0016]图1为现有半导体设备与干泵连接结构示意图；
[0017]图2为本实用新型的结构示意图；
[0018]图3为本实用新型中杂质过滤装置的结构示意图；
[0019]图中:1、工艺腔体，2、压力控制器，3、排气管，4、主阀门，5、分子泵，6、干泵，6A、块状杂质，7、关闭阀，8、贯通阀，9、杂质过滤装置，9A、隔板I，9B、隔板II，9C、杂质，9D、清理口，10、气流，11、存储箱，12、进入口，13、排出口。
【具体实施方式】
[0020]下面结合附图对本实用新型作进一步说明。
[0021]如图2和图3所示，一种杂质过滤装置，包括可安装在排气管3上的存储箱11，存储箱11的两端分别设有用于联通排气管3的进入口 12、排出口 13 ；
[0022]所述的存储箱11内靠近进入口 12的一端设有沿侧壁由上而下倾斜延长的隔板I 9A，靠近排出口 13的一端设有由下而上倾斜延长的隔板II 9B，隔板I 9A与隔板II 9B配合便于气流10在存储箱11内部流通循环，隔板的具体结构可以采用能增加气流10流动循环距离的形状，因为在存储箱11内的气流10流动距离越大，越能使杂质9C有效沉积；
[0023]所述的存储箱11外侧靠近排出口 13的一端设有若干用于排出杂质9C的清理口9D，清理口 9D采用可拆卸的方式安装在存储箱11上；
[0024]排气管3内的气流10从进入口 12流入杂质过滤装置9内，依次流经隔板I 9A、隔板II 9B后，从排出口 13流出，气流10流动过程中，杂质9C沉积在存储箱11底部，经清理P 9D排出。
[0025]清理口 9D为两个，分别设置在隔板I 9A、隔板II 9B的末端下侧，便于流经隔板后沉积的杂质9C从清理口 9D排出，清理口 9D的上方正对隔板的末端，能有效保证气流10中的杂质9C沉积在存储箱11底部，具体是沉积在清理口 9D内，便于通过清理口 9D排出。
[0026]清理口 9D采用螺纹连接安装在存储箱11上，拆卸安装方便，便于及时将沉积的杂质9C排出，有效保证本实用新型装置的正常使用，且能保证工艺的正常进行。
[0027]本实用新型还提供了一种装有上述杂质过滤装置的半导体设备，包括工艺腔体1、安装在工艺腔体I上的压力控制器2，压力控制器2的一端通过排气管3依次连接有分子泵5、干泵6，所述的分子泵5两侧的排气管3上分别装有用于控制气流速度的主阀门4，分子泵5与干泵6间的排气管3上装有控制该段排气管3开闭的贯通阀8 ;
[0028]所述的分子泵5与干泵6间的排气管3上外接有若干杂质过滤装置9，每个过滤装置的两端分别装有控制气流10进出过滤装置的关闭阀7 ;
[0029]当关闭分子泵5与干泵6间排气管3上的贯通阀8，打开杂质过滤装置9上的关闭阀7时，气流10经杂质过滤装置9的过滤除杂后流入干泵6内。
[0030]分子泵5与干泵6间的排气管3上外接有两个杂质过滤装置9，使连接在干泵6上方的排气管3能够交替作业，在设备运行状态下也可以对杂质过滤装置9进行清理，具体操作是先在干泵6上方位置的排气管3的左侧和右侧各安装一套杂质过滤装置9，当需对左侧的杂质过滤装置9进行清理时，先将安装在右侧的杂质过滤装置9的前方和后方的关闭阀7打开，在变换气体的流经方向后，再将左侧过滤装置的两端关闭阀7关掉，待气流10完全通过右侧的杂质过滤装置9进行作业时，将左侧的杂质过滤装置9拆卸下来进行清理，如此一来设备即使在运行的状态下也可以对杂质处理装置9进行清理。
[0031]使用时，先将杂质过滤装置9安装在半导体设备上，即安装在分子泵5和干泵6之间的排气管3的两侧，同时该段的排气管3上需提前安装能控制气流10流动的贯通阀8 ;安装的杂质过滤装置9与排气管3之间通过安装关闭阀7来控制气流10通过。从分子泵5流出的未反应气体及产物杂质9C在存储箱11内流动，气体中的杂质9C会沉积在箱底，除去杂质9C的气体最终经存储箱11的排出口 13进入干泵6内，用于后续处理。
【主权项】
1.一种杂质过滤装置，其特征在于，包括可安装在排气管(3)上的存储箱(11)，存储箱(11)的两端分别设有用于联通排气管⑶的进入口(12)、排出口(13); 所述的存储箱(11)内靠近进入口(12)的一端设有沿侧壁由上而下倾斜延长的隔板I (9A)，靠近排出口(13)的一端设有由下而上倾斜延长的隔板II (9B)，隔板I (9A)与隔板II (9B)配合便于气流(10)在存储箱(11)内部流通循环； 所述的存储箱(11)外侧靠近排出口(13)的一端设有若干用于排出杂质(9C)的清理口(9D)，清理口(9D)采用可拆卸的方式安装在存储箱(11)上； 排气管(3)内的气流(10)从进入口(12)流入杂质过滤装置(9)内，依次流经隔板I (9A)、隔板II (9B)后，从排出口(13)流出，气流(10)流动过程中，杂质(9C)沉积在存储箱(11)底部，经清理口(9D)排出。
2.根据权利要求1所述的一种杂质过滤装置，其特征在于，所述的清理口(9D)为两个，分别设置在隔板I (9A)、隔板II (9B)的末端下侧，便于流经隔板后沉积的杂质(9C)从清理口(9D)排出。
3.根据权利要求1所述的一种杂质过滤装置，其特征在于，所述的清理口(9D)采用螺纹连接安装在存储箱(11)上。
4.一种装有权利要求1-3任一项所述的杂质过滤装置的半导体设备，其特征在于，包括工艺腔体(I)、安装在工艺腔体(I)上的压力控制器(2)，压力控制器(2)的一端通过排气管(3)依次连接有分子泵(5)、干泵￠)，所述的分子泵(5)两侧的排气管(3)上分别装有用于控制气流速度的主阀门(4)，分子泵(5)与干泵(6)间的排气管(3)上装有控制该段排气管⑶开闭的贯通阀⑶； 所述的分子泵(5)与干泵(6)间的排气管(3)上外接有若干杂质过滤装置(9)，每个过滤装置的两端分别装有控制气流(10)进出过滤装置的关闭阀(7); 当关闭分子泵(5)与干泵(6)间排气管(3)上的贯通阀(8)，打开杂质过滤装置(9)上的关闭阀(7)时，气流(10)经杂质过滤装置(9)的过滤除杂后流入干泵(6)内。
5.根据权利要求4所述的一种装有杂质过滤装置的半导体设备，其特征在于，所述的分子泵(5)与干泵(6)间的排气管(3)上外接有两个杂质过滤装置(9)。
【专利摘要】本实用新型公开一种杂质过滤装置和装有该装置的半导体设备，属于过滤设备领域，该装置包括可安装在排气管(3)上的存储箱(11)，存储箱的两端设有进入口(12)、排出口(13)；存储箱内设有隔板Ⅰ、隔板Ⅱ，隔板Ⅰ与隔板Ⅱ配合便于气流(10)在存储箱内部流通循环；存储箱外侧靠近排出口的一端设有清理口，清理口可拆卸的安装在存储箱上；排气管内的气流在杂质过滤装置内经隔板Ⅰ、隔板Ⅱ，从排出口流出，杂质沉积在存储箱底部，经清理口排出。从分子泵内流出的未反应气体和杂质流经过滤装置后，杂质沉积在装置底部，可从清理口排出；除杂气体进入干泵内，有效避免了晶片受污染或损坏、设备运行率降低，防止干泵突发性终止运行及设备损坏。
【IPC分类】H01L21-67, B01D45-06
【公开号】CN204428975
【申请号】CN201520035999
【发明人】崔相玉, 魏明德, 金惠东, 金度亨
【申请人】徐州同鑫光电科技有限公司
【公开日】2015年7月1日
【申请日】2015年1月19日