1.一种金属微型管材定向电铸法，其特征在于：包括制备步骤：
步骤1）：在基片上通过一次掩模光刻制备第一光刻胶层；
步骤2）：在第一光刻胶层间隔部分电铸制备第一微型管材图形；
步骤3）：在第一光刻胶层上进行二次掩模光刻制备第二光刻胶层；
步骤4）：在第二光刻胶层间隔部分继续电铸制备第二微型管材图形；
步骤5）：在第二微型管材图形上进行定向电铸装置制备加长微型管材。
2.根据权利要求1所述的一种金属微型管材定向电铸法，其特征在于：所述第一光刻胶层厚度与第二光刻胶层厚度之和大于500μm，所述第二光刻胶层厚度不大于第一光刻胶层的厚度；所述第一光刻胶层厚度与第一微型管材图形的高度相同，所述第二光刻胶层厚度与第二微型管材图形的高度相同。
3.根据权利要求1所述的一种金属微型管材定向电铸法，其特征在于：步骤1）中所述的第一光刻胶层，通过如下步骤制得：
步骤1）：匀胶，通过匀胶机将负性光刻胶甩涂到基片上；
步骤2）：曝光，负性光刻胶甩涂完毕后，利用热板对负性光刻胶进行前烘热处理，并在热板上缓慢冷却，最后将遮盖有掩膜版的负性光刻胶基片进行紫外线曝光；
步骤3）：显影，对紫外线曝光后的负性光刻胶在热板上进行后烘热处理，然后通过超声显影制得光刻胶微结构，并在热板上进行固化得到第一光刻胶层；
所述的第二光刻胶层，通过如下步骤制得：
步骤1）：匀胶，通过匀胶机将负性光刻胶甩涂到第一光刻胶层上；
步骤2）：曝光，负性光刻胶甩涂完毕后，利用热板对负性光刻胶进行前烘热处理，并在热板上缓慢冷却，最后将遮盖有掩膜版的负性光刻胶基片再次进行紫外线曝光；
步骤3）：显影，对紫外线曝光后的负性光刻胶在热板上进行后烘热处理，然后通过超声显影制得光刻胶微结构，并在热板上进行固化得到第二光刻胶层。
4.根据权利要求1所述的一种金属微型管材定向电铸法，其特征在于：步骤5）中所述的定向电铸装置，包括渡槽和电源，所述渡槽内设有金属镀液，所述镀液内设有阳极，所述镀液上方设有阴极，所述阴极上方设有步进电机，所述电源负极通过导线与阴极相连接，所述电源正极通过导线与阳极相连接。
5.根据权利要求1所述的一种金属微型管材定向电铸法，其特征在于：所述第一微型管材图形和第二微型管材图形，其截面为三角形、四边形、圆形、异形中的一种或几种。
6.根据权利要求1所述的一种金属微型管材定向电铸法，其特征在于：步骤5）中所述加长微型管材，管材壁厚为5μm～1000μm，长度为3mm～10mm，管材材料选自铜、镍、钛、铁中的任意一种。
7.根据权利要求1所述的一种金属微型管材定向电铸法，其特征在于：步骤1）中所述基片，其材质选自304不锈钢、45号钢、铝中的任意一种。
8.根据权利要求3所述的一种金属微型管材定向电铸法，其特征在于：所述负性光刻胶选自Su 875、AZ 10XT、AZ PLP60、AZ P4903系列光刻胶中的任意一种。
9.根据权利要求3所述的一种金属微型管材定向电铸法，其特征在于：
在一次掩模光刻制备光刻胶层的步骤中，步骤1）所述匀胶机的甩胶转速为700～1000rpm、甩胶时间为30s；步骤2）中所述的前烘热处理的条件为95～110℃、90s～200min；步骤3）中所述的后烘热处理的条件为90～120℃、60s～40min；
在二次掩模光刻制备光刻胶层的步骤中，步骤1）所述匀胶机的甩胶转速为1000～1100rpm、甩胶时间为30s；步骤2）中所述的前烘热处理的条件为95～110℃、90s～90min；步骤3）中所述的后烘热处理的条件为90～120℃、60s～30min。
10.根据权利要求4所述的一种金属微型管材定向电铸法，其特征在于：所述步进电机，其提拉速度为0.4μm/min～1.7μm/min；提拉时间为2014min～6823min。