光学面板及其制备方法
【专利摘要】本案揭示一种用于电子装置的光学面板的制备方法，该制备方法包括选取透光面板，于透光面板的其中一侧涂覆光阻；于光罩设计多个透光孔图案；以及透过光罩对光阻曝光后显影，以形成遮蔽层，且该些透光孔图案转移至遮蔽层，并于遮蔽层形成多个透光孔。
【专利说明】光学面板及其制备方法
【技术领域】
[0001]本案关于一种光学面板，特别是关于用于电子装置的光学面板。
【背景技术】
[0002]目前的电子装置，尤其是可携式电子装置，除了追求效能提高及更加轻薄以外，更趋于电子装置整体的设计及美观发展。就以笔记本电脑、平板电脑或智能型手机的面板来说，为达美观的需求，目前电子装置边框与面板一体成型，而无隙缝，并以面板通称之，而原先边框的位置，于面板背面，即电子装置的内部涂覆一层油墨，以遮蔽电子装置内部的结构。
[0003]另外，目前的笔记本电脑或平板计算机会在面板内置入光传感器以感应外界环境的光，或是置入LED (Light Emitting Diode)灯或其他光源作为相机模块的闪光灯组件或指示灯组件等。若将前述之光学组件置入面板后面，则需另外在面板上冲孔形成透光孔，使光线进入或射出，否则无法呈现其功能。然，此设计会造成笔记本电脑或平板计算机的面板上有一个或数个透明的透光孔，令使用者能直接从透光孔看到机体内部的传感器或LED灯，进而影响到笔记本电脑或平板计算机整体的美观。而习知面板的制造方法，并未对此做任何改善，即将一个或数个得透光孔留于面板上。
【发明内容】
[0004]本案揭示一种用于电子装置的光学面板的制备方法，该制备方法包括选取透光面板，于透光面板的其中一侧涂覆光阻；于光罩设计多个透光孔图案；以及透过光罩对光阻曝光后显影，以形成遮蔽层，且该些透光孔图案转移至遮蔽层，并于遮蔽层形成多个透光孔。
[0005]本案另揭示一种用于电子装置的光学面板，包括透光面板、遮光层以及光学组件。遮光层设置于透光面板的一侧，遮光层具有多个透光孔。光学组件对应透光孔邻设于透光面板具有遮光层的一侧。
[0006]承上所述，本案之用于电子装置的光学面板及其制备方法，基于微影制程的方法，并直接以涂布光阻的步骤，取代习知面板的边框部分需另外涂覆油墨的过程。另更以光罩的设计及其对光阻曝光后显影的步骤，于遮蔽层上产生多个透光孔，以维持透光面板整体的美观，解决习知技术直接于面板上冲孔而有不美观的情形。
[0007]另外，遮蔽层包括黑色矩阵层，令透光面板呈现不透光，用以遮蔽电子装置内部的组件，以维持电子装置外观上的美感。同样的，由密集的光孔所构成之透光孔图样，不但可使光源直接通透光学面板，更可使透光孔图样隐藏于光学面板的整体外观，亦达美观之功效。
【专利附图】
【附图说明】
[0008]图1A为依据本案一实施例之一种光学面板应用于电子装置的不意图。[0009]图1B为图1A所示之光学面板的部分放大图。
[0010]图2为图1A所示之光学面板的A-A线剖面示意图。
[0011]图3A为图1A所示之透光孔图样的放大示意图。
[0012]图3B为图1A所示透光孔图样的另一实施态样的放大示意图。
[0013]图4为依据本案一实施例之一种光学面板的制备方法的流程方块图。
[0014]图5为图4所示之光学面板的制备方法的流程示意图。
[0015]图6为图4所示之步骤S20的光罩图案示意图。
【具体实施方式】
[0016]以下将参照相关图式，说明依本发明较佳实施例之一种电子装置的光学面板及其制备方法，其中相同的组件将以相同的参照符号加以说明。
[0017]图1A为依据本案一实施例之一种光学面板应用于电子装置的不意图，图1B为图1A所示之光学面板的部分放大图，图2为图1A所示之光学面板的A-A线剖面示意图。如图1A所示，本发明较佳实施例之一种光学面板1，其主要应用于一电子装置E。而以下先说明光学面板I的组件及结构，再详究光学面板I的制备方法。请同时参考图1B及图2所示，光学面板I包括一透光面板11、一遮光层12以及一光学组件13，透光面板11可例如但不限于玻璃、压克力或透明薄膜，仅须符合透光材质之特性。遮光层12设置于透光面板11的一侧，遮光层12具有多个透光孔121。光学组件13邻设于透光面板11且具有遮光层12的一侧。
[0018]其中，使用遮光层12可使透光面板11呈现不透光，用以遮蔽电子装置E内部的组件。而遮光层12例如但不限于黑色矩阵层、金属铬黑色矩阵层、树脂型黑色矩阵层、石墨黑色矩阵层、或无电解电镀镍黑色矩阵层。
[0019]如图2所示，光学组件13可以为相机模块的光传感器用以感应及接收外界环境的光源，或是作为相机模块的闪光灯组件或指示灯组件，但不限于此。光学组件13对应透光孔121，并邻设于透光面板11具有遮光层12的一侧，而外界的光源或光学组件13本身的散发的光源皆可藉由透光孔121进入或射出透光面板11。多个透光孔121 (如图2所示)可构成一透光孔图样122 (如图1A及图1B所示)。较佳的，由透光孔121所构成之透光孔图样122，其透光率大于百分之十。
[0020]需特别注明的是，图1A及图1B所显示之透光孔121，为设置于透光面板11靠近电子装置E内部一侧的中空结构，故本案之相关图式皆以细线表示。然，实际应用上，透光孔121因为密集且细微之中空结构，故实际上并无法以肉眼轻易察觉透光孔121的存在。
[0021]于实际操作上，先测得相机模块之光传感器的感光照度，及闪光灯组件或指示灯组件的发光照度，以确定透光孔图样122需达到何种程度透光率才可被光传感器所感测，或发散闪光灯组件、指示灯组件的光源，较佳的，以透光率大于百分之十为基准。确定所需之透光率后，再进一步设计透光孔121的直径及间距，以及透光孔图样122的图形及大小。
[0022]图3A为图1A所示之透光孔图样的放大示意图。请参考图3A所示,透光孔121包括直径d为40μπι至70μπι的圆形孔洞。透光孔的间距S为0.1mm至0.3mm。然，透光孔121可以为其他任意形状之孔洞，且透光孔121的直径d与间距S亦可随机调整，同样的，仅需配合透光孔图样122的构型以达到所需的透光率。[0023]如图3A所示，本案实施例之透光孔121以同心圆排列的方式构成透光孔图样122，且透光孔图样122为圆形结构。而透光孔121同样可以例如但不限于放射状排列、同心圆排列、错位排列、蜂巢状排列、六角状排列、或螺旋状排列构成透光孔图样122。复参考图2所示，较佳的，透光孔图样122两侧边的中心123对应于光学组件13的中心131，而透光孔图样122的直径D可为2至3cm，但本案不以此为限，仅须使透光率大于百分之十或其他适当的透光率。
[0024]另外，透光孔图样122更不以圆形结构为限，较佳的，如图3B所示，图3B为图1A所示透光孔图样的另一实施态样的放大示意图，透光孔图样122a亦可为两侧平行而底侧为弧形的碗形结构，其中，两侧平行的距离L例如但不限于2至3cm。当然，本案不以上述之二实施例为限，仅需达到适当的透光率，即令相机模块的传感器能侦测到的程度，或闪光灯组件、指示灯组件的光源能够通透的程度。
[0025]本案一实施例之光学面板I的制备方法基于微影制程的方式，以下搭配图式进一步说明之，其中，相同组件的材质或构型已详述于前，于此不加赘述。图4为依据本案一实施例之一种光学面板的制备方法的流程方块图，而图5为图4所示之光学面板的制备方法的流程示意图。请参考图4及图5所示，本发明之光学面板I的制备方法包括下列步骤，选取一透光面板，于透光面板的其中一侧涂覆一光阻(SlO);于一光罩设计多个透光孔图案(S20);透过光罩对光阻曝光后显影，以形成一遮蔽层，且该些透光孔图案转移至遮蔽层，并于遮蔽层形成多个透光孔(S30 )。
[0026]于步骤SlO中，选取一透光面板11，并于透光面板11的其中一侧涂覆一层光阻14，其中，光阻14为具有黏合剂及感光剂的混合物，其中还包括碳黑粒子或其他不透光的材料。较佳的，光阻14更可由例如但不限于金属铬、树脂或电镀镍与碳黑粒子混合后所得之黑色矩阵光阻剂，并涂覆于透光面板11上，使透光面板11呈现不透光，以遮蔽电子装置E内部的组件。
[0027]于步骤S20中，于一光罩2设计多个透光孔图案21，如图6所示，图6为图4所示之步骤S20的光罩图案示意图。另外，光罩2还包括一中空图案22。其中，透光孔图案21依据前述之透光孔121设计，于此不赘述，而中空图案22的构型则是对应电子装置E的屏幕C设计(如图1A所示)。
[0028]请同时参考图5及图6所示，于步骤S30中，光罩2对应光阻14设置，并以例如但不限于紫外光UV照射光罩2，使紫外光线透过光罩2对光阻14曝光后显影，以形成一遮光层12。惟需注意的是，透光孔图案21及中空图案22的设计，必须依据光阻14所包含的感光剂类型，即光阻14为正光阻或负光阻而决定。举例来说，本案实施例之光阻14为遇光之后会解离成一种容于显影剂的正光阻，故透光孔图案21及中空图案22必须为中空结构。
[0029]如图5所示，当紫外光UV经由光罩2照射于光阻14，藉由对具有感光剂的光阻14曝光，光阻14本身的交连结构会因光照而被破坏，并于显影的过程中，受到光照的光阻14，即透光孔图案21及中空图案22，便会被显影剂侵蚀而溶解于显影剂中。显影后，未受到紫外光UV照射的部分形成一遮光层12，而透光孔图案21形成中空的透光孔121结构。换言之，透光孔图案21转移至遮蔽层12，并于遮蔽层12形成多个透光孔121，其他关于透光孔121的构型及特征已详述于前，于此不加赘述。除此之外，中空图案22亦形成中空结构可对应屏幕C设置。[0030]另外，若光阻14为遇光后会产生链结而强化结构的负光阻，则透光孔图案21及中空图案22必须为实心结构，使紫外光UV无法照射光阻14，而于显影时溶解于显影剂进而形成中空结构。
[0031]虽然本发明已以实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何所属【技术领域】中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，故本发明的保护范围当视权利要求书所界定者为准。
【权利要求】
1.一种用于电子装置的光学面板的制备方法，其特征在于，包括下列步骤: 选取透光面板，于上述透光面板的其中一侧涂覆光阻； 于光罩设计多个透光孔图案；以及 透过上述光罩对上述光阻曝光后显影，以形成遮蔽层，且上述这些透光孔图案转移至上述遮蔽层，并于上述遮蔽层形成多个透光孔。
2.根据权利要求1所述的光学面板的制备方法，其特征在于，其中上述这些透光孔构成透光孔图样。
3.根据权利要求1所述的光学面板的制备方法，其特征在于，其中上述这些透光孔的半径为40 μ m至70 μ m。
4.根据权利要求1所述的光学面板的制备方法，其特征在于，其中上述这些透光孔的间距为0.1臟至0.3臟。
5.根据权利要求1所述的光学面板的制备方法，其特征在于，其中上述透光孔图样的透光率大于百分之十。
6.根据权利要求1所述的光学面板的制备方法，其特征在于，其中上述遮光层包括黑色矩阵层。
7.一种用于电子装置的光学面板，其特征在于，包括: 透光面板； 遮光层，设置于上述透光面板的一侧，上述遮光层具有多个透光孔；以及 光学组件，对应上述这些透光孔邻设于上述透光面板具有遮光层的一侧。
8.根据权利要求7所述的光学面板，其特征在于，其中上述这些透光孔构成透光孔图样。
9.根据权利要求7所述的光学面板，其特征在于，其中上述这些透光孔的半径为40μ m至 70 μ m。
10.根据权利要求7所述的光学面板，其特征在于，其中上述这些透光孔的间距为0.1mm 至 0.3mmο
11.根据权利要求7所述的光学面板，其特征在于，其中上述透光孔图样的透光率大于百分之十。
12.根据权利要求7所述的光学面板，其特征在于，其中上述遮光层包括黑色矩阵层。
【文档编号】G06F1/16GK103455099SQ201310118719
【公开日】2013年12月18日 申请日期:2013年4月8日 优先权日:2012年5月30日
【发明者】陈彦勋, 骆佑玮, 黄筱霈, 洪宗铭 申请人:华硕电脑股份有限公司