电极结构及其制作方法、触控元件及触控显示器的制造方法_2

文档序号:8395602阅读:来源:国知局
6000rpm,涂布时间约15~30秒,并在加热板上加热约40~60秒,温度为约70~90°C;接 着进行曝光,随之在基板上镀上5nm的Cr及300nm的Ag材料,最后再将镀完Ag材料的基 板浸泡在丙酮(acetone)或三氯乙烯(TCE)中60~120秒,进行结构显影,可得如表1的 比较例1~比较例4的图案化导电层220。本案实施例的叠纹现象以数字相机拍摄观察。
[0054] 比较例5~比较例10是以一般凹板印刷制作方式以制作图案化导电层220。一 般凹板印刷制作方式是先以黄光光刻方式在不锈钢滚筒上制作出所需的导电线路图案,然 后在第一不锈钢滚筒上刻蚀出所需的导电线路凹糟结构作为模具,形成在第一不锈钢滚筒 上的导电线路凹糟结构的深宽比约为〇. 25~0. 3。之后,将10g的导电浆料以刮刀填入 导电线路凹糟结构中,其中导电浆料的含银量约为60~90wt%,约lwt%的流变剂及助 齐II,约5wt%高分子材料及约4wt%的溶剂。接着与第二滚筒(表面具有娃橡胶(Silicone rubber)包覆)接触,将导电线路凹糟结构中的导电浆料转印至第二滚筒上,转动条件为 1~5rpm,接着将具有导电浆料图案的第二滚筒与玻璃基板接触,将导电浆料图案转印到 玻璃基板上,再置于140°C烘箱20分钟,得到如表1中比较例5~比较例10的图案化导电 层220,如图8~图13的上图所示。
[0055] 表1的实施例1、2,是采用精密凹板转印方式制作金属导线,其中实施例1、实施例 2的制作方式可套用图1A~图1F的制作步骤。详细而言,实施例1、2的制作步骤是先以飞 秒激光在第一不锈钢滚筒上制作出所需的导电线路图案,其激光功率约为2W,扫描速度约 为5~10mm / s,其结构深宽比为1~3,在第一滚筒上制作出所需的导电线路凹糟结构作 为模具。例如将l〇g的导电浆料以刮刀填入导电线路凹糟结构中,其中导电浆料的含银量 约为60~90wt%,约lwt%的流变剂及助剂,约5wt%高分子材料及约4wt%的溶剂。接着 与第二滚筒(表面具有娃橡胶(Silicone rubber)包覆)接触,将导电线路凹糟结构中的 导电浆料转印至第二滚筒上,转动条件为1~5rpm,接着将具有导电浆料图案的第二滚筒 与玻璃基板接触,将导电浆料图案转印到玻璃基板上,再置于140°C烘箱20分钟,得到如表 1的实施例1、2的图案化导电层220,如图14、15的上图所示。
[0056] 下表1为电极结构应用在触控显示器的多个比较例与实施例1、2的比较表格,且 搭配各个比较例的附图加以说明。由比较例1,此电极结构的图案化导电层2201是由4条 曲线2221从同一个接合点2241往不同方向延伸而成(如图4A所示),且此图案化导电层 2201是由黄光光刻的方式制作而成,其中线宽d为15iim、边长D为600 iim,而图案化导电 层2201的表面粗糙度h2为3. 6nm,因此色泽为亮银色,触控元件350 (标示于图2A)的透 光度为83. 6%,且d2 / h2为62500,而当使用此触控显示器500 (标示于图2A)时,仍是会 有金属反光以及叠纹的现象(如7B所示),这是由于黄光光刻所制作出来的图案化导电层 2201的表面粗糙度低(较为平滑),所以比较容易反光。
[0057] 将比较例1与比较例3相比可得知,比较例3与比较例1不同之处仅在于:比较 例3中的图案化导电层2203是由3条曲线2223从同一个接合点2243往不同方向延伸而 成(如图6A所示),而比较例1中的图案化导电层2201是由4条曲线2221从同一个接合 点2241往不同方向延伸而成(如图4A所示)。而比较例3相比于比较例1只有形状的改 变,可以将透光度提升至86. 8%,但是仍是会有金属反光且看得到明显的叠纹。
[0058] 将比较例1与比较例4相比即可得知,比较例4与比较例1不同之处仅在于:比较 例4中的图案化导电层2204是由3条曲线2224从同一个接合点2244往不同方向延伸而成 (如图7A所示),而比较例1中的图案化导电层2201是由4条曲线2221从同一个接合点 2241往不同方向延伸而成(如图4A所示),并且比较例1的曲线2224的边长D为600 iim 较比较例4的曲线2224的边长D为1000 iim小,所以使用比较例1的电极结构的触控显示 器500较容易看到叠纹。
[0059] 将比较例1与比较例2相比,其中只有边长D的变化,比较例2的边长D为 1000μm,大于比较例1的边长D为600μm,使得触控显示器500的透光度提升为86. 9 %, 且由于边长D变大(如图5A所示),因此可以减少与显示面板400的结构周期相合的机会, 进而降低了叠纹产生的可能性(如图5B所示)。
[0060] 比较例5至比较例8为利用凹版印刷的方式形成图案化导电层。在这些比较例中, 线宽d为50μm,边长D为600μm或1000μm,且利用表面粗糙度h2约介于44~169nm使 图案化导电层220的色泽为黑色。通过图案化导电层220所表现出来的色泽为黑色,可以改 善金属反光的现象;但受限于凹版印刷的精度,图案化导电层220的线宽d只能做到50 y m 而无法再更小,因此并无法有效改善叠纹被使用者看到的情形,如图8~图11所示。
[0061] 而比较例9和比较例10以及实施例1和实施例2中的图案化导电层220是由精 密凹版印刷的方式制作,因此可以使线宽d为15 y m,但是从比较例9及比较例10可以看 出,在边长D为600 的情形下,仍是可以看到明显的叠纹(如图12、13所示);然而在实 施例1及实施例2中,使边长D提高至lOOOym时,可以使叠纹不明显,对于使用者的视觉 观感来说,即是有效地消除叠纹(如图14、图15所示),且透光度还可维持在86%以上。
[0062]
【主权项】
1. 一种电极结构,其特征在于,包括: 一基板;以及 一图案化导电层,设置于该基板上,具有一平均高度hi以及一表面粗糙度h2,其中该 平均高度hi包含该表面粗糙度h2,且0.01 <h2 /hi<0.2,该图案化导电层包括多条曲 线以及多个接合点,其中至少三条该些曲线从同一该接合点分别朝向不同方向延伸,且每 一曲线是由边长D所形成的正多边形的外切圆的1 /n圆弧所形成,其中外切圆的半径r 由下列公式定义: r=(D/ 2)sin(180 /n), 而曲线长S= 23ir/n且 500彡d2 /h2彡5000,其中d为每一该些曲线的线宽,n为该正多边形的边数。
2. 根据权利要求1所述的电极结构,其中0. 01 <h2 /hl< 0. 1。
3. 根据权利要求1所述的电极结构,其中1500彡d2 /h2彡5000。
4. 根据权利要求1所述的电极结构,其中该边长D的范围为0? 8mm彡D彡3mm。
5. 根据权利要求4所述的电极结构,其中陔边长D的范围为0.8mm<D< 1.2mm。
6. 根据权利要求1所述的电极结构,其中该正多边形为正三角形、正四边形、正五边 形、正六边形、正八边形、正十边形及正十二边形中的任一个。
7. 根据权利要求1所述的电极结构,其中该些曲线的线宽d的范围为 10Um<d< 50um。
8. 根据权利要求1所述的电极结构,其中该些曲线的线宽d的范围为 12ym<d< 20ym。
9. 根据权利要求1所述的电极结构,其中该表面粗糙度h2的范围为 50nm<h2 < 260nm。
10. -种触控元件,其特征在于,包括: 根据权利要求1~9中任一项所述的一电极结构;以及 一覆盖板,覆盖于该电极结构上。
11. 一种触控显示器,其特征在于,包括: 一显示面板;以及 根据权利要求10所述的一触控元件,设置于该显示面板上。
12. 根据权利要求11所述的触控显示器,其中该显示面板为液晶显示面板、电泳显示 面板、发光二极管显示面板、等离子体显示面板、场发射显示面板或有机发光二极管显示面 板。
13. -种电极结构的制作方法,其特征在于,包括: 提供一基板;以及 在该基板上以凹版印刷的方式形成一图案化导电层,其中使该图案化导电层具有一平 均高度hi以及包含于该平均高度hi中的一表面粗糙度h2,且0. 01 <h2 /hi< 0. 2,该 图案化导电层包括多条曲线以及多个接合点,其中至少三条该些曲线从同一该接合点分别 朝向不同方向延伸,且每一曲线是由边长D所形成的正多边形的外切圆的1 /n圆弧所形 成,其中外切圆的半径r由下列公式定义: r=(D/ 2)sin(180 /n), 而曲线长S= 23ir/n,且 500彡d2 / h2彡5000,其中d为每一该些曲线的线宽,n为该正多边形的边数。
14. 根据权利要求13所述的电极结构的制作方法,其中0.0 K h2 / hl< 0. 1。
15. 根据权利要求13所述的电极结构的制作方法,其中1500 < d2 / h2 < 5000。
16. 根据权利要求13所述的电极结构的制作方法,其中该边长D的范围为 0. 8mm < D < 3mm。
17. 根据权利要求16所述的电极结构的制作方法,其中该边长D的范围为 0. 8mm < D < 1. 2mm。
18. 根据权利要求13所述的电极结构的制作方法,其中该正多边形为正三角形、正四 边形、正五边形、正六边形、正八边形、正十边形及正十二边形中的任一个。
19. 根据权利要求13所述的电极结构的制作方法,包括使该些曲线的线宽d的范围为 10 y m < d < 50 y m。
20. 根据权利要求19所述的电极结构的制作方法,其中该些曲线的线宽d的范围为 12 u m < d < 20 u m。
21. 根据权利要求13所述的电极结构的制作方法,包括使该表面粗糙度h2的范围为 50nm < h2 < 260nm。
【专利摘要】本发明提供了一种电极结构及其制作方法、使用此电极结构的触控元件及触控显示器。该电极结构包括基板以及设置于基板上的图案化导电层。图案化导电层具有平均高度h1以及表面粗糙度h2,其中平均高度h1包含表面粗糙度h2,且0.01≤h2/hl≤0.2。图案化导电层包括曲线以及接合点,其中至少三条曲线从同一个接合点分别朝向不同方向延伸,且每一曲线是由边长为D的正多边形的外切圆的1/n圆弧所形成,其中外切圆的半径r由公式r=(D/2)sin(180/n)定义,曲线长S=2πr/n,且500≤d2/h2≤5000,其中d为每一曲线的线宽,n为正多边形的边数。
【IPC分类】G06F3-041
【公开号】CN104714681
【申请号】CN201410043291
【发明人】张高德, 王裕铭, 陈銮英, 陈于堂
【申请人】财团法人工业技术研究院
【公开日】2015年6月17日
【申请日】2014年1月29日
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