一种透明导电膜的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种透明导电膜，包括基材，并在基材表面依次镀覆底层、黑色层、导电层和保护层，然后对黑色层、导电层和保护层进行图案蚀刻，形成网格线图案，网格线沿着第一方向和第二方向布设，网格线之间形成的网格单元为透明区，透明区的形状为四边形。导电层为金属网格，阻抗低，适用于中大屏幕触摸屏，并且具有较高的透光率和抗干扰能力，减小设备的耗电；并且金属网格与现有技术中ITO导电膜相比，成本大大降低。
【专利说明】—种透明导电膜【技术领域】
[0001]本发明涉及导电层【技术领域】，特别涉及一种金属网格的透明导电膜。
【背景技术】
[0002]透明导电膜广泛应用于触摸屏、平板显示、光伏器件、电磁屏蔽等领域，特别在电容式触摸屏领域的应用快速增长。触摸屏是可接收触摸等输入信号的感应装置。触摸屏赋予了信息交互崭新的面貌，是极富吸引力的全新信息交互设备。触摸屏技术的发展引起了国内外的普遍关注，已成为光电行业异军突起的朝阳高新技术产业。
[0003]透明导电膜作为触摸屏中至关重要的组成部分，目前，触摸屏的导电膜主要是以ITO (氧化铟锡)通过真空镀膜、图形化蚀刻的工艺形成于绝缘基材上。但是ITO材料昂贵，生产成本很高；并且受镀膜温度限制，ITO镀在基材上不能够做到低阻抗，不利于做成大面积的触摸屏，阻抗高了电容式触摸屏会降低性能，甚至驱动集成电路将无法驱动其正常工作。
[0004]另外，ITO制成的导电膜的透光率不是很高，通常只有80%-88%左右，这样影响到了显示的亮度、对比度以及色彩等，当透光率较低时，如果想看清屏幕就必须调高亮度，设备的耗电必然会增加，同时对眼睛的刺激也会增加。
【发明内容】
[0005]本发明目的是:提供一种透明导电膜，用多层复合结构的网格层替代ΙΤ0，降低阻抗，减少成本，并且具有良好的透光率(透光率可达88%-90%)。
[0006]本发明的技术方案是:
一种透明导电膜包括基材和网格线层。基材包括第一表面和第二表面，第一表面和第二表面相对设置。网格线层镀覆在第二表面，网格线层中的网格线之间形成的网格单元为透明区，网格线层包括黑色层、导电层和保护层，黑色层成形于第二表面，其为金属氧化物层；导电层为金属层；保护层为金属合金层，用于防止导电层氧化。
[0007]优选的，所述网格线层中的网格线分别沿着第一方向和第二方向布设，第一方向和第二方向相交，透明区为四边形。
[0008]优选的，所述第二表面和黑色层之间还成形有底层，底层为Si02层。
[0009]优选的，所述黑色层可以代替所述保护层。
[0010]优选的，所述导电层中的金属为铜。
[0011]优选的，所述导电层的厚度为0.5_5um。
[0012]优选的，所述黑色层中的金属氧化物为氧化铬、氧化镍的混合物，黑色层的厚度为40nm-100nmo
[0013]优选的，所述保护层中的金属合金为铜镍合金或不锈钢，保护层的厚度为20nm-500nmo
[0014]优选的， 所述基材为玻璃或者透明塑料膜。[0015]本发明中导电膜的透光率、阻抗与网格线的线宽以及线距有关。网格线距离越大，线宽越小，透光率就越高；而网格线的距离越小，线宽越大，导电性能就越高，阻抗就越低。
[0016]所述的透明导电膜，利用真空溅射镀膜或蒸发镀膜的方法依次将各层镀覆于基材之上，形成各个镀层，然后再利用蚀刻的方法制得网格线。
[0017]本发明的优点是:
1.用金属网格线代替ITO导电膜，阻抗明显变小，能够稳定适用于中大屏幕触摸屏；相比ITO导电膜具有更高的透光率，在相同的显示亮度情况下，使用本发明的导电膜时的耗电量更低，对眼睛的刺激也更小；并且，金属网格的价格大大低于ITO导电膜，降低了触摸屏的成本。
[0018]2.黑色层利用光学干涉得到表面为黑色，可以减少可见反射光，使得网格线不易被肉眼看见。
[0019]3.当基材的第二表面喷涂一些油墨图案之后，不易于进行镀膜，然而在第二表面和黑色层之间加设Si02的底层后，较易进行镀膜，使得各层能够牢固镀覆在基材的第二表面，不易脱落。
【专利附图】
【附图说明】
[0020]下面结合附图及实施例对本发明作进一步描述:
图1为本发明蚀刻前的结构示意图，
图2为本发明的结构示意图。
[0021]其中:1.基材，2.底层，3.黑色层，4.导电层，5.保护层。
【具体实施方式】
[0022]实施例1:
本发明实施例1提供了一种透明导电膜，如图1所示，本发明涉及的透明导电膜从下至上依次包括有基材1、底层2、黑色层3、导电层4、保护层5，基材I为玻璃或者为透明塑料膜，其包括相对设置的第一表面和第二表面，在基材I的第二表面首先用真空溅射镀膜或蒸发镀膜的方法镀覆底层2，底层2为透明的Si02层，第二表面上可以喷涂油墨，形成油墨图案；然后在底层2上依次镀覆黑色层3、导电层4和保护层5，其中，黑色层3为氧化铬和氧化镍的混合物，其厚度为40nm-100nm，利用光学干涉的方法能够使得肉眼看到的为黑色表面；导电层4为金属层，优选为铜，其厚度为0.5-5um ;保护层5为金属合金层，优选为铜镍合金或不锈钢，其厚度为20nm-500nm，保护层5用来防止导电层4氧化。覆膜完成之后，然后对黑色层3、导电层4和保护层5进行蚀刻，形成网格线，网格线分为两个方向，分为第一方向和第二方向，网格线之间相交，网格线之间的间隙形成网格单元为透明区，网格单元为四边形。当本实施例中的透明导电膜与显示屏配合使用时，显示屏在保护层5的外侧，肉眼从第一表面朝向第二表面观察，在透光方向上，导电层4和保护层5的投影均投射到黑色层3上，肉眼将看不到导电层4和保护层5的网格状图案。当本实施例中将导电层4的厚度设定为2um，金属网格线的线宽为4-5um，线距为300_500um，此时的面电阻的数值在10欧姆左右，当基材I使用的是1.1mm厚的普通玻璃时，透光率能够达到90%左右。
[0023]实施例2: 本发明实施例2提供了另一种透明导电膜，本实施例与实施例1相比，将保护层5换成黑色层3，黑色层3也能起到防止氧化的功能，这样，肉眼也能够从另一侧进行观察。
[0024]本领域的技术人员容易理解，以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种透明导电膜，其特征在于，包括: 基材，包括第一表面和第二表面，第一表面和第二表面相对设置； 所述第二表面镀覆有网格线层，网格线层中的网格线之间形成的网格单元为透明区，网格线层包括: 黑色层，成形于第二表面，其为金属氧化物层， 导电层，其为金属层， 保护层，其为金属合金层，防止导电层氧化。
2.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述网格线层中的网格线分别沿着第一方向和第二方向布设，第一方向和第二方向相交，透明区为四边形。
3.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述第二表面和黑色层之间还成形有底层，底层为SiO2层。
4.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述黑色层可以代替所述保护层。
5.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述导电层中的金属为铜。
6.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述导电层的厚度为0.5-5um。
7.根据权利要求1或4所述的透明导电膜，其特征在于，所述黑色层中的金属氧化物为氧化铬、氧化镍的混合物，黑色层的厚度为40nm-100nm。
8.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述保护层中的金属合金为铜镍合金或不锈钢，保护层的厚度为20nm-500nm。
9.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述基材为玻璃或者透明塑料膜。
【文档编号】H01B5/14GK103474133SQ201310444660
【公开日】2013年12月25日 申请日期:2013年9月26日 优先权日:2013年9月26日
【发明者】王立新 申请人:苏州胜利光学玻璃有限公司