一种用于精密掩模板对准的微型装置制造方法
一种用于精密掩模板对准的微型装置制造方法
【专利摘要】本发明提供了一种用于精密掩模板对准的微型装置，包括底盘，其特征在于：还包括一独立的正方形的工作平台，所述工作平台的四个侧边均设有滑轨一，所述每个滑轨一上咬合有滑块一，每个滑块一的下部套在滑轨二上，所述滑轨二与底盘固定，所述工作平台的上方连接有手动旋转平台，所述旋转平台的周围还设有一竖直方向的高度调节机构，所述高度调节机构固定在底盘上。本发明与现有技术相比，其显著优点为：体积小巧，特别是厚度，定位精确，操作简单，结构简单，实现成本低廉，有利于生产安装和维护。
【专利说明】一种用于精密掩模板对准的微型装置
【技术领域】
[0001] 本发明涉及了一种用于精密掩模板对准的微型装置，属于半导体加工领域。
【背景技术】
[0002] 目前较为复杂的电子器件（包括计算机CPU，电器芯片）的电极蒸镀，刻蚀，离子 注入等加工步骤通常都是用光刻工艺制作的，但是光刻工艺价格昂贵，步骤繁多，模板制作 也非常复杂。通常是大型公司在规模生产时采用。而金属（或其它易精密刻蚀材料）通 孔掩模板蒸镀技术步骤少，成本低，设计灵活，是科研单位和中小公司普遍采用的另一个方 法。目前常见的采用湿法刻蚀的金属通孔掩模版可以达到20微米的线宽，而采用干法刻蚀 的高端通孔掩模版甚至可以达到亚微米的精度。国家近年来对集成电路芯片自主研发的支 持，也造成了高精度通孔掩膜版的大量需求，但是高精度掩通孔模板和样品之间的对准，目 前还没有一个完美的解决办法。
[0003] 在通孔掩模板和样品不需要对准的情况下，通常采用直接固定（胶带，夹具）的方 式，而在通孔掩模板需要和样品已有图形对准的情况下，通常先使用光刻机精密移动平台 对准以后再夹具固定的方式。但是这种方式存在种种缺点，譬如由于固定后机械应力的存 在，随着时间的增加两者容易偏离原有的对准位置，所以不适合高精度的对准。另外光刻机 价格昂贵，假如单纯为了用于掩模板对准很不经济，而且本身结构复杂，不利于检修维护。 这些都造成了高精度通孔掩模板广泛应用的局限性。
[0004] 而在进行半导体加工过程中，如要将对准基座整体直接放入蒸镀腔，其体积必须 缩小；如使用普通光学显微镜来进行对准，样品台和显微镜目镜之间的可调节距离有限，所 以，在这样有限的三维空间内，需要能够完成X，Y，Z和旋转共四个自由度的调节，是非常困 难的。
[0005] 通常的精密移动平台，如图1所示，X方向和y方向的调节平面是独立的，所以叠 加后的厚度通常都在5厘米以上。假如为了控制厚度而简单的将此种移动平台按比例缩小 尺寸，这样的方案会造成零件加工难度的增加，造成了制造成本大幅增加，而且对准的精度 也会下降。
【发明内容】
[0006] 为了解决现有设备技术的不足，本发明提供了一种用于精密掩模板对准的微型装 置，包括底盘，其特征在于：还包括一独立的正方形的工作平台，所述工作平台的四个侧边 均设有滑轨一，所述每个滑轨一上咬合有滑块一，每个滑块一的下部套在滑轨二上，所述滑 轨二与底盘固定，所述工作平台的上方连接有手动旋转平台，所述旋转平台的周围还设有 一坚直方向的高度调节机构，所述高度调节机构固定在底盘上。
[0007] 在任意两个相邻的滑轨二的外侧各设有一调节旋钮。
[0008] 所述高度调节机构包括滑轨三和滑块二，所述滑轨三与底盘固定，所述滑块二套 在滑轨三上，所述滑块二的上方设有高度调节旋钮，所述滑块二的内侧固定有压板，所述压 板的另一端正好位于所述旋转平台的上方。
[0009] 本发明与现有技术相比，其显著优点为：体积小巧，特别是厚度，定位精确，操作简 单，结构简单，实现成本低廉，有利于生产安装和维护。
【专利附图】
【附图说明】
[0010] 图1是与本发明相关的现有技术的结构示意图；
[0011] 图2是本发明的机构示意图；
[0012]
【专利附图】
【附图说明】：1、底盘，2、工作平台，3、滑轨一，4、滑块一，5、滑轨二，6、调节旋钮，7、手 动旋转平台，8、滑轨三，9、滑块二，10、高度调节旋钮，11、压板。
【具体实施方式】
[0013] 以下是通过附图详细说明本发明的技术方案。
[0014] 如图2所示，本发明提供了一种用于精密掩模板对准的微型装置，包括底盘1，还 包括一独立的正方形的工作平台2,所述工作平台2的四个侧边均设有滑轨一 3,所述每个 滑轨一 3上咬合有滑块一 4,这样能够使得工作平台2在其X方向和Y方向上的移动互不干 扰：每个滑块一 4的下部套在滑轨二5上，在任意两个相邻的滑轨二5的外侧各设有一调节 旋钮6,可以在同一平面内调节各自所属滑块的移动，即在工作平台2的X方向和Y方向上 的任一个滑轨二5的外侧各设一调节旋钮6,这样一个方向（X或Y)上的两个滑块一 4可以 通过调节旋钮6的控制在滑轨二5上滑动，滑动时带动中间的工作平台2 -起在相同的方 向移动，而另外一个方向的两个滑块一4则保持不动。所述滑轨二5与底盘1固定，所述工 作平台2的上方通过弹簧连接有手动旋转平台7,所述旋转平台7的周围还设有一高度调节 机构，所述高度调节机构固定在底盘1上。所述高度调节机构包括滑轨三8和滑块二9,所 述滑轨三8与底盘1固定，所述滑块二9套在滑轨三8上，所述滑块二9的上方设有高度调 节旋钮10,所述滑块二9的内侧固定有压板11，所述压板11的另一端正好位于所述旋转平 台7的上方，该压板11是用于固定掩模板的。
[0015] 以上示意性的对本发明及其实施方式进行了描述，该描述没有限制性，附图中所 示的也只是本发明的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。所以，如果本领域的普通技 术人员受其启示，在不脱离本发明创造宗旨的情况下，不经创造性的设计出与该技术方案 相似的结构方式及实施例，均应属于本发明的保护范围。
【权利要求】
1. 一种用于精密掩模板对准的微型装置，包括底盘，其特征在于：还包括一独立的正 方形的工作平台，所述工作平台的四个侧边均设有滑轨一，所述每个滑轨一上咬合有滑块 一，每个滑块一的下部套在滑轨二上，所述滑轨二与底盘固定，所述工作平台的上方连接有 手动旋转平台，所述旋转平台的周围还设有一坚直方向的高度调节机构，所述高度调节机 构固定在底盘上。
2. 根据权利要求1所述的一种用于精密掩模板对准的微型装置，其特征在于：在任意 两个相邻的滑轨二的外侧各设有一调节旋钮。
3. 根据权利要求1所述的一种用于精密掩模板对准的微型装置，其特征在于：所述高 度调节机构包括滑轨三和滑块二，所述滑轨三与底盘固定，所述滑块二套在滑轨三上，所述 滑块二的上方设有高度调节旋钮，所述滑块二的内侧固定有压板，所述压板的另一端正好 位于所述旋转平台的上方。
【文档编号】H01L21/68GK104064505SQ201410319889
【公开日】2014年9月24日 申请日期:2014年7月7日 优先权日:2014年7月7日
【发明者】包文中, 胡荣民, 陈慧芬 申请人:南通威倍量子科技有限公司
【专利摘要】本发明提供了一种用于精密掩模板对准的微型装置，包括底盘，其特征在于：还包括一独立的正方形的工作平台，所述工作平台的四个侧边均设有滑轨一，所述每个滑轨一上咬合有滑块一，每个滑块一的下部套在滑轨二上，所述滑轨二与底盘固定，所述工作平台的上方连接有手动旋转平台，所述旋转平台的周围还设有一竖直方向的高度调节机构，所述高度调节机构固定在底盘上。本发明与现有技术相比，其显著优点为：体积小巧，特别是厚度，定位精确，操作简单，结构简单，实现成本低廉，有利于生产安装和维护。
【专利说明】一种用于精密掩模板对准的微型装置
【技术领域】
[0001] 本发明涉及了一种用于精密掩模板对准的微型装置，属于半导体加工领域。
【背景技术】
[0002] 目前较为复杂的电子器件（包括计算机CPU，电器芯片）的电极蒸镀，刻蚀，离子 注入等加工步骤通常都是用光刻工艺制作的，但是光刻工艺价格昂贵，步骤繁多，模板制作 也非常复杂。通常是大型公司在规模生产时采用。而金属（或其它易精密刻蚀材料）通 孔掩模板蒸镀技术步骤少，成本低，设计灵活，是科研单位和中小公司普遍采用的另一个方 法。目前常见的采用湿法刻蚀的金属通孔掩模版可以达到20微米的线宽，而采用干法刻蚀 的高端通孔掩模版甚至可以达到亚微米的精度。国家近年来对集成电路芯片自主研发的支 持，也造成了高精度通孔掩膜版的大量需求，但是高精度掩通孔模板和样品之间的对准，目 前还没有一个完美的解决办法。
[0003] 在通孔掩模板和样品不需要对准的情况下，通常采用直接固定（胶带，夹具）的方 式，而在通孔掩模板需要和样品已有图形对准的情况下，通常先使用光刻机精密移动平台 对准以后再夹具固定的方式。但是这种方式存在种种缺点，譬如由于固定后机械应力的存 在，随着时间的增加两者容易偏离原有的对准位置，所以不适合高精度的对准。另外光刻机 价格昂贵，假如单纯为了用于掩模板对准很不经济，而且本身结构复杂，不利于检修维护。 这些都造成了高精度通孔掩模板广泛应用的局限性。
[0004] 而在进行半导体加工过程中，如要将对准基座整体直接放入蒸镀腔，其体积必须 缩小；如使用普通光学显微镜来进行对准，样品台和显微镜目镜之间的可调节距离有限，所 以，在这样有限的三维空间内，需要能够完成X，Y，Z和旋转共四个自由度的调节，是非常困 难的。
[0005] 通常的精密移动平台，如图1所示，X方向和y方向的调节平面是独立的，所以叠 加后的厚度通常都在5厘米以上。假如为了控制厚度而简单的将此种移动平台按比例缩小 尺寸，这样的方案会造成零件加工难度的增加，造成了制造成本大幅增加，而且对准的精度 也会下降。
【发明内容】
[0006] 为了解决现有设备技术的不足，本发明提供了一种用于精密掩模板对准的微型装 置，包括底盘，其特征在于：还包括一独立的正方形的工作平台，所述工作平台的四个侧边 均设有滑轨一，所述每个滑轨一上咬合有滑块一，每个滑块一的下部套在滑轨二上，所述滑 轨二与底盘固定，所述工作平台的上方连接有手动旋转平台，所述旋转平台的周围还设有 一坚直方向的高度调节机构，所述高度调节机构固定在底盘上。
[0007] 在任意两个相邻的滑轨二的外侧各设有一调节旋钮。
[0008] 所述高度调节机构包括滑轨三和滑块二，所述滑轨三与底盘固定，所述滑块二套 在滑轨三上，所述滑块二的上方设有高度调节旋钮，所述滑块二的内侧固定有压板，所述压 板的另一端正好位于所述旋转平台的上方。
[0009] 本发明与现有技术相比，其显著优点为：体积小巧，特别是厚度，定位精确，操作简 单，结构简单，实现成本低廉，有利于生产安装和维护。
【专利附图】
【附图说明】
[0010] 图1是与本发明相关的现有技术的结构示意图；
[0011] 图2是本发明的机构示意图；
[0012]
【专利附图】
【附图说明】：1、底盘，2、工作平台，3、滑轨一，4、滑块一，5、滑轨二，6、调节旋钮，7、手 动旋转平台，8、滑轨三，9、滑块二，10、高度调节旋钮，11、压板。
【具体实施方式】
[0013] 以下是通过附图详细说明本发明的技术方案。
[0014] 如图2所示，本发明提供了一种用于精密掩模板对准的微型装置，包括底盘1，还 包括一独立的正方形的工作平台2,所述工作平台2的四个侧边均设有滑轨一 3,所述每个 滑轨一 3上咬合有滑块一 4,这样能够使得工作平台2在其X方向和Y方向上的移动互不干 扰：每个滑块一 4的下部套在滑轨二5上，在任意两个相邻的滑轨二5的外侧各设有一调节 旋钮6,可以在同一平面内调节各自所属滑块的移动，即在工作平台2的X方向和Y方向上 的任一个滑轨二5的外侧各设一调节旋钮6,这样一个方向（X或Y)上的两个滑块一 4可以 通过调节旋钮6的控制在滑轨二5上滑动，滑动时带动中间的工作平台2 -起在相同的方 向移动，而另外一个方向的两个滑块一4则保持不动。所述滑轨二5与底盘1固定，所述工 作平台2的上方通过弹簧连接有手动旋转平台7,所述旋转平台7的周围还设有一高度调节 机构，所述高度调节机构固定在底盘1上。所述高度调节机构包括滑轨三8和滑块二9,所 述滑轨三8与底盘1固定，所述滑块二9套在滑轨三8上，所述滑块二9的上方设有高度调 节旋钮10,所述滑块二9的内侧固定有压板11，所述压板11的另一端正好位于所述旋转平 台7的上方，该压板11是用于固定掩模板的。
[0015] 以上示意性的对本发明及其实施方式进行了描述，该描述没有限制性，附图中所 示的也只是本发明的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。所以，如果本领域的普通技 术人员受其启示，在不脱离本发明创造宗旨的情况下，不经创造性的设计出与该技术方案 相似的结构方式及实施例，均应属于本发明的保护范围。
【权利要求】
1. 一种用于精密掩模板对准的微型装置，包括底盘，其特征在于：还包括一独立的正 方形的工作平台，所述工作平台的四个侧边均设有滑轨一，所述每个滑轨一上咬合有滑块 一，每个滑块一的下部套在滑轨二上，所述滑轨二与底盘固定，所述工作平台的上方连接有 手动旋转平台，所述旋转平台的周围还设有一坚直方向的高度调节机构，所述高度调节机 构固定在底盘上。
2. 根据权利要求1所述的一种用于精密掩模板对准的微型装置，其特征在于：在任意 两个相邻的滑轨二的外侧各设有一调节旋钮。
3. 根据权利要求1所述的一种用于精密掩模板对准的微型装置，其特征在于：所述高 度调节机构包括滑轨三和滑块二，所述滑轨三与底盘固定，所述滑块二套在滑轨三上，所述 滑块二的上方设有高度调节旋钮，所述滑块二的内侧固定有压板，所述压板的另一端正好 位于所述旋转平台的上方。
【文档编号】H01L21/68GK104064505SQ201410319889
【公开日】2014年9月24日 申请日期:2014年7月7日 优先权日:2014年7月7日
【发明者】包文中, 胡荣民, 陈慧芬 申请人:南通威倍量子科技有限公司
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