一种清洗液喷嘴的制作方法

本发明属于喷嘴制造领域，尤其涉及一种清洗液喷嘴。

背景技术：

制造半导体元件或LCD,PDP,OLED等平板显示元件时，通常需要反复执行photoLithography工程等蚀刻工程。另外，进行photoLithography工程及蚀刻工程时必然会残留蚀刻副产物等不纯物质。为了除掉此类蚀刻不纯物，在半导体元件、平板显示元件制造上必须进行清洗工程。

一般清洗工程分为，利用清洗溶液的化学型清洗方法和利用机械设备的物理型清洗方法。将上述化学型清洗方法加以详细说明的话，就是在所定清洗设备内安装半导体基板或玻璃基板等清洗对象后，利用清洗液供应装置，向上述清洗对象喷射清洗溶液进行清洗的方法。

此类通常的清洗液喷嘴，由喷射口喷射出来的清洗液只能直线运动，因此，导致清洗对象的部位是限定的位置。

技术实现要素：

本发明所要解决的技术问题是，是为了解决上述问题而提出来的，在通过喷嘴的清洗液里，形成涡流，扩大喷射出来的清洗液的喷射角度，最终保证更宽广的清洗对象部位。

为解决上述问题，本发明的技术方案是：一种清洗液喷嘴，包括喷嘴管、喷射口和设置在喷嘴管内部的涡流形成工具；所述喷射口设置在喷嘴管的下端。

进一步的，所述涡流形成工具包括旋转体和扇；旋转体设置在喷嘴管的内部；扇连接并固定到上述旋转体的下部；扇跟随旋转体的旋转而旋转。

进一步的，所述清洗液喷嘴的一侧设有驱动工具，通过调节驱动工具的驱动力，可选择性地调节由喷射口喷射出来的清洗液的压力。

本发明的有益效果：在半导体基板或平板显示器件的基板等清洗对象上，起喷射清洗液的作用的清洗液喷嘴内，设置涡流形成工具，使清洗液喷嘴内的清洗液里形成涡流，将其喷射到清洗对象物上，能使清洗范围更宽广，通过涡流的物理作用，能有效除掉清洗对象物上的异物。

附图说明

图1为清洗液喷嘴结构图；

图2为别的实例上的清洗液喷嘴结构图；

具体实施方式

下面结合附图和具体的实施例对本发明作进一步的阐述。

如图1所示，提出的清洗液喷嘴(200)大致由喷嘴管(201)、喷射口(202)以及涡流形成工具(203)组成。上述喷嘴管(201)的作用为，当所定的清洗液供应腔(图上未表示)供应清洗液到上述喷射口(202)时，起连接作用，上述喷嘴管(201)的横截面积设计成比上述喷射口(202)的横截面积大为好。上述喷射口(202)的作用为，当清洗液通过上述喷嘴管(201)，最终通过喷射口(202)喷射到半导体基板或平板显示器件的基板等清洗对象物的作用，上述喷射口(202)的横截面积可表现出多样性，作为一个例子，可以由圆形、板型等构成。

上述涡流形成工具(203)是本实例中的关键部位，可细分为旋转体(203a)和扇(fan)(203b)。上述旋转体(203a)在上述喷嘴管(201)内部，可根据由上述驱动工具提供的驱动力旋转。上述扇(203b)连接并固定到上述旋转体(203a)的一侧，跟随上述旋转体(203a)的旋转而相应旋转，在上述喷嘴管(201)内的清洗流液上，起到形成涡流的作用。

而且，上述驱动工具(204)可配备在清洗液喷嘴的一侧，通过调节驱动工具(204)的驱动力，可选择性地调节由喷射口(202)喷射出来的清洗液的压力。

除了如上述结构的清洗液喷嘴以外，本实例还提案如图2所示结构的清洗液喷嘴。如图2所示，作为本实例的另一个实例的清洗液喷嘴，除掉了旋转体(203a)，此旋转体的作用为传达从上述驱动工具(204)产生的驱动力到上述扇(203b)，此喷嘴只由驱动工具(204)和扇(203b)来体现涡流形成工具(203)。由此，从上述驱动工具(204)产生的驱动力直接传达到上述扇(203b)，随着上述扇(203b)的旋转，流在上述喷嘴管(201)内的清洗液上，会形成涡流。

本领域的普通技术人员将会意识到，这里所述的实施例是为了帮助读者理解本发明的原理，应被理解为本发明的保护范围并不局限于这样的特别陈述和实施例。本领域的普通技术人员可以根据本发明公开的这些技术启示做出各种不脱离本发明实质的其它各种具体变形和组合，这些变形和组合仍然在本发明的保护范围内。