清洗装置以及清洗方法与流程

本发明涉及收纳半导体晶片等的容器的清洗。

背景技术：

在半导体工厂中，将收纳半导体晶片的盒利用桥式吊车系统在处理装置的装载口间搬送。作为桥式吊车系统和装载口之间的暂时保管装置，申请人提出过在装载口与桥式吊车的行走轨道之间设置本地台车及其行走轨道以及暂存区的方案(专利文献1：JP5229363B)。在该装置中，盒在本地台车的行走轨道之间能够沿上下方向自由通过，在本地台车的行走轨道的下方设置暂存区，并使得桥式吊车和本地台车均能够访问该暂存区。因此，桥式吊车和本地台车均能够访问装载口和暂存区。

与此不同，公知有在对盒进行保管的储料器中设置清洗装置、利用N₂气体等对盒进行清洗的技术。然而，在储料器以外的场所无法进行清洗。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:JP5229363B

技术实现要素：

发明所要解决的课题

在从处理装置朝下一处理装置搬送的过程中，若利用N₂气体等对容器进行清洗，则能够抑制晶片表面的氧化等。由此，针对朝下一处理装置的搬送时间的容许宽度增加。然而，若在处理装置内设置清洗装置，则将导致处理装置的较大程度的改造，因此这是不现实的。因此，在处理装置的附近需要盒的清洗装置。

本发明的课题在于提供一种能够在装载口等交接场所的附近对容器进行清洗的装置。

用于解决课题的手段

本发明的清洗装置在桥式吊车与容器交接目的地之间利用清洗气体对容器进行清洗，具备：

本地台车，行走自如且具备使容器升降的升降机；

本地台车的行走轨道，设置在桥式吊车的行走轨道的下方、且为容器交接目的地的上方；

清洗台，设置在本地台车的行走轨道的下方，且以不堵塞容器交接目的地的正上部的方式设置，能够自由地载置容器；以及

清洗气体供给装置，朝被载置于清洗台的容器供给清洗气体。

在本发明的清洗方法中，利用清洗装置，在桥式吊车和容器交接目的地之间，将容器暂时载置于清洗台，借助清洗气体供给装置而利用清洗气体对容器进行清洗，上述清洗装置具备：

本地台车，行走自如且具备使容器升降的升降机；

本地台车的行走轨道，设置在桥式吊车的行走轨道的下方、且为容器交接目的地的上方；

清洗台，设置在本地台车的行走轨道的下方，且以不堵塞容器交接目的地的正上部的方式设置，能够自由地载置容器；以及

清洗气体供给装置，朝被载置于清洗台的容器供给清洗气体。

在本发明中，能够在容器的交接目的地附近，在等待由桥式吊车进行的搬送的期间，对容器进行清洗。收纳在容器内的物品为半导体的晶片、食品、医药品等，若在物品的处理后对容器进行清洗，则能够减少在等待下一处理等的期间的物品的污染、氧化等。并且，若在物品的处理前对容器进行清洗，则能够预先对物品的表面进行清洁。另外，升降机在实施例中相当于升降装置和升降台，交接目的地在实施例中相当于处理装置的装载口。清洗台在实施例中相当于滑动架和固定架，清洗气体供给装置在实施例中相当于供气嘴及其配管。在本说明书中，与清洗装置相关的记载也能够直接适用于清洗方法。

优选形成为：作为清洗台设置有滑动架，该滑动架在与容器交接位置的正上部不同的位置和正上部之间滑动自如。若使用滑动架，则无需使本地台车行走就能够朝容器的交接目的地交付容器，滑动方向是与本地台车的行走方向在水平面内例如成直角的方向。

优选形成为：作为清洗台，除了滑动架以外还设置有固定的架，而且，清洗装置的控制部以在滑动架优先对要朝交接目的地交付的容器进行清洗的方式选择载置容器的清洗台，并控制本地台车。通过设置固定的架能够增加清洗台的数目，能够更迅速地交付要朝交接目的地交付的容器。

优选形成为：清洗装置设置在洁净室的顶棚部，且从顶棚部接受清洗气体的供给。若设置于顶棚部，则清洗装置不占据地面，并且，在洁净室的顶棚多设置有N₂气体、干燥洁净空气等清洗气体的配管，因此能够容易地接受清洗气体的供给。

优选形成为：容器是收纳半导体晶片的盒，并且，容器的交接目的地是半导体的处理装置的装载口。这样，能够在将容器朝装载口交接而利用处理装置对半导体晶片进行处理之前或者之后对容器进行清洗。

优选形成为：清洗台还在与容器交接目的地的正上部不同的位置具备固定部，

滑动架在固定部上方的位置和容器交接目的地的正上部之间滑动自如，

清洗气体供给装置具备：供气嘴，设置于滑动架且朝容器内供给清洗气体；以及配管，从固定部朝供气嘴供给清洗气体，

配管具备弯曲自如的弯曲部，

在滑动架和固定部之间设置有将弯曲部支承为弯曲自如的导缆器。

若利用导缆器支承配管的弯曲部，则能够容易朝滑动架的供气嘴供给清洗气体。

尤其优选形成为：在滑动架上设置有检测来自容器的载荷的载荷传感器，清洗气体供给装置构成为：当利用载荷传感器检测到来自容器的载荷时，从供气嘴供给清洗气体，

载荷传感器的电源线和信号线与配管一起被支承于导缆器。

当利用载荷传感器检测到来自容器的载荷时则供给清洗气体，因此能够有效地使用清洗气体。并且，能够利用导缆器不仅支承配管，还支承电源线和信号线。

附图说明

图1是实施例的清洗装置和周围的桥式吊车系统以及处理装置的带局部剖切部的主视图。

图2是实施例的清洗装置和处理装置的带局部剖切部的俯视图。

图3是实施例的滑动架的俯视图。

图4是实施例的本地台车的俯视图。

图5是示出实施例的控制系统的框图。

图6是第2实施例的清洗装置的俯视图。

具体实施方式

以下，示出用于实施本发明的最佳实施例。本发明的范围应当基于权利要求书中的记载，并一并参照说明书的记载和本领域中的公知技术而根据本领域技术人员的理解来确定。

实施例

图1～图6示出实施例及其变形例。图1、图2示出实施例的清洗装置20、周围的处理装置2以及桥式吊车系统8。处理装置2具备装载口4，装载口4是盒6的交接目的地的一例。处理装置2可以是如文字记载的处理装置，也可以是检查装置等，或者代替处理装置2也可以是空盒的放置场所等。对于盒6，除了收纳作为产品的半导体晶片的盒之外，也可以是收纳工序管理用、检查用等的晶片的盒或者空盒等，也可以并不收纳半导体晶片而收纳中间掩模等。在实施例中，作为盒6，假想是FOUP。

桥式吊车系统8具备行走轨道10和桥式吊车12，行走轨道10在装载口4的正上方通过，且从洁净室的顶棚等被支承。在桥式吊车12中，例如利用横移装置13和转动装置14而使升降装置15横向移动并且转动，利用升降装置15使能够自由地装夹盒6的升降台16升降。

清洗装置20具备本地台车22及其行走轨道24，盒6能够沿上下方向自由地通过行走轨道24的一对轨道之间的开口26。在行走轨道24的下部设置有带清洗装置的暂存区。在暂存区中，在装载口4的正上部设置有在图1的左右方向(与行走轨道24的长边方向在水平面内成直角的方向)滑动自如的滑动架28，在从装载口4的正上部离开的位置例如设置有2个固定架30。在滑动架28的下部设置有固定部29，收容有滑动机构和清洗用的部件，在固定架30的下部也安装有未图示的清洗用的部件。并且，清洗装置20借助支柱31而被安装于桥式吊车12的行走轨道10，但也可以从地面侧进行支承。另外，清洗装置20的清洗用的气体、电力等经由支柱31等而从洁净室的顶棚侧接受供给，但也可以从地面侧接受供给。

图3示出滑动架28，滑动架28沿着引导件32而相对于固定部29进退。滑动机构的构造是任意的，例如利用借助N₂气体等动作的缸34而使固定于活塞36的中间部38进退。进而，利用未图示的倍速机构而使顶部40以活塞36的2倍的行程进退，将板33固定于顶部40从而载置盒。

在板33上呈三角形地配置有联结销42，对盒的底面进行引导，利用就位传感器44检测有无盒，利用载荷传感器45检测有无来自盒的载荷。在板33例如设置有2个供气嘴46、46和例如2个排气嘴48、48，从配管50供给N₂气体等清洗气体，从配管52将来自盒的排气排出。配管50、52的波纹部安装于导缆器54，并与传感器44、45的电源、信号线一起弯曲。另外，也可以不设置排气嘴48和配管52。

配管50、52并不限于具有波纹部的配管，只要具有由导缆器54支承且弯曲自如的部分(弯曲部)即可。弯曲部例如可以是含氟树脂橡胶、聚酯弹性体等合成树脂管。导缆器54例如是将截面呈C字状的部件用销连接多个而成的部件，以销为中心弯曲自如，且在C字状的槽内收纳配管50、52和信号线、电源线。固定架30除了不具有缸34等滑动机构和导缆器54之外，形成为与滑动架28同样的构造。

图4示出本地台车22，例如具备一对行走部56和升降装置58，通过利用升降装置58使具有装夹部的升降台60升降而在与装载口以及架28、30之间移载盒。

图5示出清洗装置20的控制系统，控制部62对清洗装置20进行控制，通信终端装置64与桥式吊车12进行通信，防止本地台车22与桥式吊车12之间的干涉。通信终端装置66与未图示的上位控制器通信，接收与清洗装置20内的搬送有关的指示和与是否需要进行盒的清洗有关的指示。遵照来自控制部62的指示，若利用载荷传感器45检测到盒以能够清洗的状态被载置于滑动架，则清洗控制部68使在来自顶棚的N₂气体(清洗气体)的配管上设置的电磁阀70打开而朝供气嘴供给清洗气体。并且，借助控制部62的指示，本地台车22和缸34动作。

示出实施例的动作。利用N₂气体等对从桥式吊车12或者装载口4移载至架28、30的盒6的内部进行清洗。若利用载荷传感器45检测到盒6被载置于正确的位置，则从供气嘴46供给清洗气体，并从排气嘴48排气。由此，利用清洗气体来置换盒6内的气体介质，防止半导体晶片的氧化、污染等。进而，若在处理装置2中的处理后进行清洗，则即便至下一处理装置为止的搬送需要较长时间，也能够减小对半导体的品质的影响。此外，通过将清洗后的盒6搬入处理装置2，能够在对半导体晶片的表面进行预清洁后搬入处理装置2，并且能够减少带入处理装置2内的周围的空气。另外，即便是在空盒的情况下也能够通过清洗而将盒6内净化。并且，盒6具备未图示的阀，借助来自嘴46、48的压力而阀打开，若该压力消失则阀关闭而保持气密。

滑动架28以能够自由进入的方式设置在装载口4的正上部，因此，能够迅速地进行朝装载口4的卸货。并且，能够在面对装载口4的位置也设置滑动架28，因此能够增加行走轨道24的每单位长度的架的数量。在来自固定架30的卸货中，需要进行本地台车22的行走和卸货动作，但在来自滑动架28的卸货中不需要进行本地台车22的行走。即、若本地台车22装夹有盒6，则滑动架28迅速地朝侧方退避，无需使本地台车22行走就能够开始卸货。因此，若优先将要朝装载口4卸货的盒利用滑动架28进行保管，则能够迅速地将盒6朝装载口4卸货。

图6示出第2实施例，与图1～图5相同的标号表示相同的部件，除了特意指明的点以外都与图1～图5的实施例相同。除了上述的桥式吊车系统8之外，追加搬送急件(hot-lot)等生产管理上的属性不同的盒的桥式吊车系统72，在制程区间(interbay route)中将桥式吊车系统8、72的行走轨道74、75并行配置。若桥式吊车12能够自由地从桥式吊车系统72的行走轨道75直接进入工作区(bay)77内，则行走轨道的分支和汇合变得复杂。因此，以在行走轨道74、75、10的下方通过的方式设置输送设备78、79，输送设备78用于进行朝工作区77内的搬送，输送设备79用于进行朝工作区77外的桥式吊车系统72的搬送。在工作区77内，例如以在多个清洗装置20的滑动架28上方通过的方式设置环状的行走轨道76，使桥式吊车12等搬送台车在该行走轨道76上行走，从滑动架28连接至输送设备78、79、桥式吊车系统72。此外，80是暂存区，在行走轨道76上行走的桥式吊车12利用图1的横移装置13朝暂存区80移载盒。暂存区80可以具备利用N₂气体进行的清洗功能也可以不具备该功能。

在行走轨道76上行走的桥式吊车12和桥式吊车系统72搬送收容有急于进行搬送的急件的晶片的盒、空盒、收容有工序管理用或者检查用等并非产品的晶片的盒等，将这些盒称为在生产管理上的属性不同的盒。输送设备78、79连接制程区间的桥式吊车系统72和在工作区77内的行走轨道76上行走的桥式吊车。并且，行走轨道76和桥式吊车12的系统能够变更为可在顶棚空间中搬送盒的任意的系统。例如能够使用在工作区77内二维移动的龙门式起重机、在呈栅格状地配置在工作区77内的栅格轨道上行走的搬送台车、或者设置在工作区77内且不堵塞洁净气体的流动的在地面上行走的无人搬送车等。另外，上述系统全都设置在比清洗装置20高的位置。

在图6的实施例中，例如在从处理装置2a朝处理装置2b搬送盒时，能够在利用面朝处理装置2a的清洗装置20a进行清洗后朝处理装置2b侧的清洗装置20b搬送，并在利用处理装置2b侧的清洗装置20b再次进行清洗后进行处理等。并且，在清洗装置20以外设置暂存区80，提高工作区内的保管能力。进而，通过设置桥式吊车系统72、输送设备78、79、行走轨道76等，能够补偿因进行清洗而导致的搬送延迟。

另外，要清洗的容器并不限于盒，而可以是任意的，所收纳的物品除了半导体晶片之外也可以是医药品、食品等。

标号说明

2：处理装置；4：装载口；6：盒；8、72：桥式吊车系统；10：行走轨道；12：桥式吊车；13：横移装置；14：转动装置；15：升降装置；16：升降台；20：清洗装置；22：本地台车；24：行走轨道；26：开口；28：滑动架；29：固定部；30：固定架；31：支柱；32：引导件；33：板；34：缸；36：活塞；38：中间部；40：顶部；42：联结销；44：就位传感器；45：载荷传感器；46：供气嘴；48：排气嘴；50、52：配管；54：导缆器；56：行走部；58：升降装置；60：升降台；62：控制部：64、66：通信终端；68：清洗控制部；70：电磁阀；74～76：行走轨道；77：工作区；78、79：输送设备；80：暂存区。