半导体结构及其形成方法与流程

文档序号:11776603阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
一种半导体结构及其形成方法,所述形成方法包括:提供具有第一待键合面的晶圆,晶圆内形成有射频器件;提供具有第二待键合面的载体晶圆;对第二待键合面进行表面处理,将部分厚度的载体晶圆转化为阻挡层;使第一待键合面与第二待键合面相接触,实现晶圆和载体晶圆的键合,阻挡层用于抑制键合后载体晶圆内的感应电荷发生移动。晶圆内的射频器件形成电场,电场容易使载体晶圆形成感应电荷,本发明通过对载体晶圆的第二待键合面进行表面处理,将部分厚度的载体晶圆转化为阻挡层,阻挡层可以抑制键合后载体晶圆内的感应电荷发生移动,避免感应电荷在晶圆和载体晶圆之间发生移动,从而可以避免射频信号能量的损失,进而改善键合后的芯片的性能。

技术研发人员:李海艇
受保护的技术使用者:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
技术研发日:2016.04.08
技术公布日:2017.10.20
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