一种霍尔元件及其制备方法与流程

本发明涉及半导体领域，具体涉及一种霍尔元件及其制备方法。

背景技术：

霍尔元件是一种基于霍尔效应的磁传感器，一般用于电机中测定转子转速，如录像机的磁鼓，电脑中的散热风扇等。用它们可以检测磁场及其变化，可在各种与磁场有关的场合中使用。霍尔元件已发展成一个品种多样的磁传感器产品族，并已得到广泛的应用。

在目前霍尔元件的应用场合中，对霍尔元件的温度特性提出了越来越高的要求。目前商用霍尔元件中，温度漂移特性最好的当属砷化镓霍尔元件。但是，在电流传感器等要求较高的领域，在使用砷化镓霍尔元件时仍需配备温度补偿电路，砷化镓霍尔元件的温度漂移特性依然无法满足应用要求，这不仅增大了系统的复杂性，还提高了系统解决方案成本。

此外，由于温度补偿电路一般为硅基电路，在与砷化镓霍尔元件配套使用时还存在可靠性问题。因此，改善现有霍尔元件温度漂移特性成为亟待解决的问题。

技术实现要素：

有鉴于此，本发明实施例提供了一种霍尔元件及其制备方法，以解决现有霍尔元件应用中温度漂移特性较差的问题。

根据第一方面，本发明实施例提供了一种霍尔元件，包括：层叠设置的衬底层、半导体功能层和电极层；半导体功能层为n型掺杂的inxga1-xas1-2xp2x层，其中，x的值大于0且不大于0.5。

可选地，inxga1-xas1-2xp2x层中的掺杂元素为碲(te)、硒(se)、硫(s)、硅(si)、锡(sn)、锗(ge)中的至少一种。

可选地，x的值大于0且不大于0.1。

可选地，衬底层为砷化镓衬底层。

可选地，电极层为石墨烯电极。

根据第二方面，本发明实施例提供了一种霍尔元件的制备方法，包括：在衬底层1上形成半导体功能层2，半导体功能层2为n型掺杂的inxga1-xas1-2xp2x层，其中，x的值大于0且不大于0.5。

可选地，inxga1-xas1-2xp2x层通过气相外延生长工艺制备，掺杂元素为碲(te)、硒(se)、硫(s)、硅(si)、锡(sn)、锗(ge)中的至少一种。

可选地，x的值大于0且不大于0.1。

可选地，还包括对半导体功能层2图案化的步骤。

可选地，还包括在半导体功能层2上形成电极层3的步骤。

本发明技术方案，具有如下优点：

本发明提供的一种低温度漂移的霍尔元件及其制备方法，其中霍尔元件包括层叠设置的衬底层、半导体功能层和电极层；半导体功能层为n型掺杂的inxga1-xas1-2xp2x层，其中，x的值大于0且不大于0.5。半导体功能层为inxga1-xas1-2xp2x的四元合金，温度稳定性高，将inxga1-xas1-2xp2x作为功能层材料，使得霍尔元件的输出电压温度系数性能有了大幅改善，在霍尔元件应用电路中，不再需要配备温度补偿电路，简化霍尔元件的应用，提高整机的可靠性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例中一种霍尔元件结构示意图；

图2为本发明实施例中霍尔元件水平截面的结构示意图；

图3为本发明实施例中霍尔元件另一结构示意图；

图中附图标记表示为：11-衬底、12-半导体功能层、13-电极层；21-衬底、22-半导体功能层、23-电极层；31-衬底、32-缓冲层、33-半导体功能层、34-帽层、35-钝化层、36-电极层。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明可以以许多不同的形式实施，而不应该被理解为限于在此阐述的实施例。相反，提供这些实施例，使得本公开将是彻底和完整的，并且将把本发明的构思充分传达给本领域技术人员，本发明将仅由权利要求来限定。在附图中，为了清晰起见，会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。应当理解的是，当元件例如层、区域或基板被称作“形成在”或“设置在”另一元件“上”时，该元件可以直接设置在所述另一元件上，或者也可以存在中间元件。相反，当元件被称作“直接形成在”或“直接设置在”另一元件上时，不存在中间元件。

此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。

实施例1

本实施例提供了一种霍尔元件，如图1所示，包括层叠设置的衬底层11、半导体功能层12和电极层13；半导体功能层12为n型掺杂的inxga1-xas1-2xp2x层，其中，x的值大于0且不大于0.5。inxga1-xas1-2xp2x材料与砷化镓衬底晶格匹配。在inxga1-xas1-2xp2x中掺杂五价元素后形成n型半导体，由于自由电子主要由杂质原子提供，当掺入杂质越多，多子(自由电子)的浓度越高，导电性能就越强。

作为可选的实施方式，inxga1-xas1-2xp2x层中的掺杂的五价元素为碲(te)、硒(se)、硫(s)、硅(si)、锡(sn)、锗(ge)中的至少一种，掺杂浓度为3×10¹⁶cm^-3至3×10¹⁷cm^-3；inxga1-xas1-2xp2x层厚度为0.1μm至1μm。作为本发明的一个实施例，在本实施例中，掺杂元素为硅，掺杂浓度为8×10¹⁶/cm³，厚度为0.5μm。

作为可选的实施方式，x的值大于0且不大于0.1。x值在此范围内时，inxga1-xas1-2xp2x材料的迁移率与砷化镓材料接近。在本实施例中，x为0.05，即，半导体功能层12材料为in0.05ga0.95as0.9p0.1。

作为可选的实施方式，衬底层11为砷化镓衬底层。在本实施例中，衬底层厚度为625μm。

作为可选的实施方式，电极层13为石墨烯电极。

如图1，本发明实施例还提供了一种霍尔元件的制备方法，包括：在衬底层11上形成半导体功能层12，半导体功能层12为n型掺杂的inxga1-xas1-2xp2x层，其中，x的值大于0且不大于0.5。

作为可选的实施方式，inxga1-xas1-2xp2x半导体功能层12通过气相外延生长工艺制备，掺杂元素为碲(te)、硒(se)、硫(s)、硅(si)、锡(sn)、锗(ge)中的至少一种。在具体实施例中，掺杂元素为硅，掺杂浓度为8×10¹⁶cm^-3，厚度为0.5μm。

如图1，作为可选的实施方式，x的值大于0且不大于0.1。在具体实施例中，x优选为0.05，即，半导体功能层12材料为in0.05ga0.95as0.9p0.1。

如图2，作为可选的实施方式，还包括对半导体功能层22图案化的步骤。在具体实施方式中，如图2所示，为霍尔元件水平截面示意图，在半导体功能层22上通过刻蚀工艺图案化出图示形状。

如图2，作为可选的实施方式，还包括在半导体功能层22上形成电极层23的步骤。在具体实施例中，如图2所示，电极层23为四个五边形的形状。

如图3，本实施例中，先在衬底层31上外延生长一层缓冲层32，该缓冲层32为本征半导体层，厚度为0.5μm。再气相外延生长半导体功能层33和ingap帽层34，通过刻蚀工艺对上述缓冲层32、半导体功能层33和ingap帽层34进行图案化，暴露上述衬底层31部分区域。通过外延生长的方式，在其上形成ingap钝化层35。通过湿法刻蚀工艺，在ingap钝化层35和ingap帽层34刻蚀出盲孔，以露出部分半导体功能层33，在盲孔中制备金属电极36。在具体实施例中，电极36可以是石墨烯电极。

实施例2

本实施例提供了一种霍尔元件，结构同实施1，不同的是x的值为0.5，即半导体功能层为in0.5ga0.5p，掺杂元素为碲，掺杂浓度为3×10¹⁶cm^-3，厚度为0.5μm。

实施例3

本实施例提供了一种霍尔元件，结构同实施1，不同的是x的值为0.1，即半导体功能层为in0.1ga0.9as0.8p0.2，掺杂元素为锗，掺杂浓度为8×10¹⁶cm^-3，厚度为0.1μm。

实施例4

本实施例提供了一种霍尔元件，结构同实施1，不同的是x的值为0.01，即半导体功能层为in0.01ga0.99as0.98p0.02，掺杂元素为锗，掺杂浓度为3×10¹⁷cm^-3，厚度为1μm。

对比例1

本对比例提供一种霍尔元件，其结构与制备方法同实施例1，不同的是：半导体功能层2的材料为砷化镓，即x为0时的inxga1-xas1-2xp2x。

测试例

对实施例和对比例中的霍尔元件的输出电压进行测试；对实施例和对比例中霍尔元件的输出电压温度系数进行测试；测试数据如下表所示：

从上表数据可以看出，本发明实施例的霍尔元件与对比例相比，大幅降低霍尔元件的温度漂移特性，提高了霍尔元件的可靠性。

本发明提供的一种低温度漂移的霍尔元件及其制备方法，其中霍尔元件包括层叠设置的衬底层1、半导体功能层2和电极层3；半导体功能层2为n型掺杂的inxga1-xas1-2xp2x层，其中，x的值大于0且不大于0.5。由于在现有gaas功能层中加入了温度稳定性非常好的ingap材料，得到温度稳定性大幅提升的inxga1-xas1-2xp2x的四元合金，将inxga1-xas1-2xp2x作为功能层材料，使得霍尔元件的输出电压温度系数性能有了大幅改善，在一般的霍尔元件应用电路中，不再需要配备温度补偿电路，简化霍尔元件的应用，提高整机的可靠性。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。