8] 在玻璃盖板102上通过构图工艺形成每个子像素对应的子像素彩膜层113 ;如图2 所示，若采用的像素单元的包括：蓝色子像素1001、红色子像素1002、绿色子像素1003、黄 色子像素1004、白色子像素1005,则对应的上述的子像素区域的彩膜层113分别对应蓝色 彩膜层113a、红色彩膜层113b、绿色彩膜层113c、黄色彩膜层113d、白色彩膜层113e。应当 理解的是，上述子像素的列举也可以为现有技术中其它子像素的组合，在此不作限定。
[0099] 以及通过构图工艺形成图形支撑物110。
[0100] 上述图形化工艺都需要进行要较高温度的后烘（>150°C )，这种温度会对量子点 造成损伤。因此，先将上述的图形进行烘干或固化，然后再制备量子材料层，避免上述的后 烘干或固化对量子材料产生团聚或者发光淬灭等不良影响。
[0101] S4 :在所述彩膜基板上制备量子材料层；
[0102] 通过构图工艺形成量子点层112,如图2所示，量子点层112包括红色量子点层 112b、绿色量子点层112c、黄色量子点层112d、白色量子点层112e。
[0103] 具体制备过程中若是蓝色子像素1001、红色子像素1002、绿色子像素1003形成子 像素单元，则对应红色量子点层112b、绿色量子点层112c可以采用具有红色和绿色激发光 量子点混合层同步制备；
[0104] 若是蓝色子像素1001、红色子像素1002、绿色子像素1003、黄色子像素1004、白色 子像素1005形成子像素单元，则对应红色量子点层112b、绿色量子点层112c、黄色子像素 1004、可以采用具有红色、绿色、黄色激发光量子点混合层同步制备；
[0105] 对于白色子像素 1005可以单独采用能够将激发的光复合为白光的量子点混合层 制备。
[0106] 本实施例采用将量子材料与负性光刻胶混合，并通过光刻工艺图形化的方法制备 量子点层112 ;
[0107] 应当理解的是，也可以采用喷墨打印法形成量子点层112。
[0108] S5 :将具有有机发光层的阵列基板和具有量子材料层的彩膜基板进行对盒。
[0109] 采用对位装置将具有有机发光层107的阵列基板和具有量子点层112的彩膜基板 进行对盒，具体对盒方法为现有技术范畴在此不再一一赘述。
[0110] 实施例3
[0111] 如图3所示，在阵列基板上依次制备有机发光层、量子材料层；然后与彩膜基板对 盒。
[0112] 具体地，本实施例提供一种上述有机电致发光显示面板的制备方法，包括以下步 骤：
[0113] SI:制备阵列基板；
[0114] 在基板玻璃101上制备阵列背板103(包括薄膜晶体管104及电极）形成阵列基 板，应当理解的是，阵列基板的制备为现有技术范畴在此不再一一赘述。
[0115] S2:在所述阵列基板上制备有机发光层；
[0116] 本实施例采用真空蒸镀形成有机发光层107,具体地，在阵列基板的所有像素上同 时蒸镀上几种颜色的有机发光层107,使得有机发光层107发出白光，然后利用各个子像素 的彩膜层滤光来达到显示目的。这种方法的制作工艺简单生产良率高，可以应用于大尺寸 显不O
[0117] 应当理解的是，也可以采用分别蒸镀出各个颜色的子像素来达到显示的目的。
[0118] 应当理解的是，还可以采用喷墨打印或激光转印方法制备有机发光层107,在此不 再 赘述。
[0119] S3:在有机发光层上制备量子材料层；
[0120] 通过构图工艺在有机发光层107上形成量子点层112。本实施例采用将量子材料 与负性光刻胶混合，并通过光刻工艺图形化的方法制备量子点层112,具体制备方法同实施 例2 ;由于机发光层107中的材料对温度（〈100°C )和水氧要求非常高，量子点的图形化工 艺需要在保证量子点本身寿命的前提下进行，要保证有机发光层107不被破坏，上述的将 量子材料与负性光刻胶混合，并通过光刻工艺图形化的方法制备量子点层112的方法就能 保证低温下和低水氧，防止对有机发光层107的破坏。
[0121] 应当理解的是，也可以采用喷墨打印法形成量子点层112。
[0122] S4:制备彩膜基板；
[0123] 在玻璃盖板102上通过构图工艺形成每个子像素对应的彩膜层113 ;以及通过构 图工艺形成图形支撑物110。
[0124] 上述图形化工艺都需要进行要较高温度的后烘（>150°C )。
[0125] S5:将具有有机发光层和量子材料层的阵列基板和彩膜基板进行对盒。
[0126] 采用对位装置将具有有机发光层107和量子点层112的阵列基板和彩膜基板进行 对盒，具体对盒方法为现有技术范畴在此不再一一赘述。
[0127] 实施例4
[0128] 如图4所示，在阵列基板上依次制备有机发光层107、量子材料层、彩膜层。
[0129] 具体地，本实施例提供一种上述有机电致发光显示面板的制备方法，包括以下步 骤：
[0130] SI:制备阵列基板；
[0131] 在基板玻璃101上制备阵列背板1〇3(包括薄膜晶体管104及电极）形成阵列基 板，应当理解的是，阵列基板的制备为现有技术。
[0132] S2:在所述阵列基板上制备有机发光层；
[0133] 本实施例采用真空蒸镀形成有机发光层107,具体地，在阵列基板的所有像素上同 时蒸镀上几种颜色的有机发光层107,使得有机发光层107发出白光，然后利用各个子像素 的彩膜层滤光来达到显示目的。这种方法的制作工艺简单生产良率高，可以应用于大尺寸 显不O
[0134] 应当理解的是，也可以采用分别蒸镀出各个颜色的子像素来达到显示的目的。
[0135] 应当理解的是，还可以采用喷墨打印或激光转印方法制备有机发光层107,在此不 再 赘述。
[0136] S3:在有机发光层上制备量子材料层；
[0137] 通过构图工艺在有机发光层107上形成量子点层112。本实施例采用将量子材料 与负性光刻胶混合，并通过光刻工艺图形化的方法制备量子点层112,具体制备方法同实施 例2 ;由于机发光层107中的材料对温度（〈100°C )和水氧要求非常高，量子点的图形化工 艺需要在保证量子点本身寿命的前提下进行，要保证有机发光层107不被破坏，上述的将 量子材料与负性光刻胶混合，并通过光刻工艺图形化的方法制备量子点层112的方法就能 保证低温下和低水氧，防止对有机发光层107的破坏。
[0138] 应当理解的是，也可以采用喷墨打印法形成量子点层112。
[0139] S4 :在量子材料层上制备彩膜层。
[0140] 本实施例采用低温彩膜法制备彩膜层，低温彩膜法制备彩膜层为现有技术范畴在 此不再一一赘述。由于在低温条件下制备所以不会对量子点材料造成产生团聚或者发光淬 灭等不良影响。
[0141] 同时，低温彩膜法包括光刻的步骤，量子点层112可以在彩膜层的紫外曝光过程 中吸收紫外光，避免有机发光层107受紫外光照射后损伤。
[0142] 当然应当理解的是，若有机发光层107采用喷墨打印的方法制备，量子点层也可 以采用喷墨打印法制备，则彩膜层也可以使用低温彩膜法或喷墨打印法制备。
[0143] 实施例5
[0144] 本实施例提供一种有机电致发光显示装置，包括上述的有机电致发光显示面板。
[0145] 目前有机电致发光显示器件发射不同颜色