线的半 导体基板，其为显示出下述（1)~（5)的效果的清洗剂。（1)能够充分除去在CMP工序中使 用的微粒（研磨剂）、源自研磨后的金属的微粒（金属粒子）和BTA、QCA等防腐蚀剂等残 留物。（2)能够充分除去（剥离）在CMP工序中形成的金属配线表面覆膜（保护膜：抗氧 化膜，含有BTA、QCA等防腐蚀剂与金属配线的表面金属的络合物）。（3)除去（剥离）该覆 膜后，在金属配线表面能够形成含有金属氧化物的氧化膜。（4)即使将CMP后清洗工序的基 板放置，也能够长时间稳定的得到金属配线表面（含有金属氧化物的氧化膜表面）的平坦 化未被损坏的半导体基板。（5)即使长时间使用清洗剂的情况下，也不易发生劣化。
[0028] 此外，本发明的半导体基板的清洗方法为用于清洗CMP工序后具有例如铜配线等 金属配线的半导体基板的有效方法，通过使用本发明的用于具有金属配线的基板的清洗 剂，显示出能够有效且稳定地清洁化半导体基板的效果。
[0029] 本发明人为了实现上述目的而反复认真研究，结果发现：在各种簇酸中，将具有含 氮杂环的簇酸和烷基径胺组合，并将抑调节为10W上，只有运种清洗剂，才能够得到上述 (1)~巧）的所有的效果，从而完成了本发明。
【具体实施方式】
[0030] -本发明的金属配线用基板清洗剂-
[003U本发明的金属配线用基板清洗剂包含抑为10W上的水溶液，其含有（A)具有含 氮杂环的簇酸和度）烷基径胺。
[0032] 作为（A)具有含氮杂环的簇酸，可W举出例如，具有含氮饱和杂环的簇酸、具有含 氮不饱和杂环的簇酸等。
[0033] 所谓具有含氮饱和杂环的簇酸是指具有其上具有至少1个氮原子且饱和的（不 具有双键和=键）环式结构的簇酸，所述环式结构可W具有例如氧原子、硫原子等氮原子 W外的杂原子，作为运样具有含氮饱和杂环的簇酸的具体例，可W举出例如4-簇基赃晚、 2-簇基赃嗦、脯氨酸等。W下示出运些簇酸的结构式。
[0035] 所谓具有含氮不饱和杂环的簇酸是指具有其上具有至少1个氮原子且不饱和的 (具有至少1个双键或=键）环式结构的簇酸，所述环式结构可W具有例如氧原子、硫原子 等氮原子W外的杂原子，在运样具有含氮不饱和杂环的簇酸中，作为优选的例子，可W举出 具有含氮不饱和杂环和氨基的簇酸。进一步，在运样具有含氮不饱和杂环和氨基的簇酸中， 更优选下述通式（1)所示的具有含氮不饱和杂环和氨基的簇酸，其中，进一步优选下述通 式（1'）所示的具有含氮不饱和杂环和氨基的簇酸。
[0037](式中，n个Ri各自独立地表示氨原子或具有含氮不饱和杂环的基团，n表示1~ 3的整数。其中，n个Ri中，至少1个为具有含氮不饱和杂环的基团。）
[0039] (式中，Ri'表示含氮不饱和杂环基团。）
[0040] 在通式（1)所示的具有含氮不饱和杂环和氨基的簇酸中，Ri所示的具有含氮不饱 和杂环的基团是指具有其上具有至少1个氮原子且不饱和的（具有至少1个双键或=键） 环式结构的碳数1~3的烷基，所述环式结构也可W具有例如氧原子、硫原子等氮原子W外 的杂原子。作为具有运样的含氮不饱和杂环的基团的具体例，可W举出例如，化咯基甲基、 化咯基乙基、化咯基丙基、咪挫基甲基、咪挫基乙基、咪挫基丙基、化挫基甲基、化挫基乙基、 化挫基丙基、嗯挫基甲基、嗯挫基乙基、嗯挫基丙基、嚷挫基甲基、嚷挫基乙基、嚷挫基丙基、 化晚基甲基、化晚基乙基、化晚基丙基、化嗦基甲基、化嗦基乙基、化嗦基丙基、喀晚基甲基、 喀晚基乙基、喀晚基丙基、吗I噪基甲基、吗I噪基乙基、吗I噪基丙基、异吗I噪基甲基、异吗I噪基 乙基、异吗I噪基丙基、哇嘟基甲基、哇嘟基乙基、哇嘟基丙基等，其中，优选咪挫基甲基、咪挫 基乙基、咪挫基丙基、吗I噪基甲基、吗I噪基乙基、吗I噪基丙基，其中，更优选咪挫基甲基、吗I噪 基甲基，特别优选咪挫基甲基。需要说明的是，所谓"碳数1~3的烷基"中的"碳数1~3" 是定义"烷基"的碳数，不包括"环式结构"的碳数。此外，构成"含氮不饱和杂环"（上述环 式结构）的碳数为3~9。
[0041] 在通式（I)所示的具有含氮不饱和杂环和氨基的簇酸中，n为I~3的整数，其中， 优选为1~2的整数，其中更优选为1。
[0042] 在通式（1'）所示的具有含氮不饱和杂环和氨基的簇酸中，Ri'所示的含氮不饱和 杂环基团是指具有至少1个氮原子且不饱和的（具有至少1个双键或=键）环式基团，其 可W具有例如氧原子、硫原子等氮原子W外的杂原子，作为运样的含氮不饱和杂环基团的 具体例，可W举出例如化咯基、咪挫基、化挫基、嗯挫基、嚷挫基、化晚基、化嗦基、喀晚基、吗I 噪基、异吗I噪基、哇嘟基等碳数3~9的含氮不饱和杂环，其中，优选咪挫基、吗I噪基，其中特 别优选咪挫基。
[0043] 作为具有含氮不饱和杂环的簇酸的具体例，可W举出例如，4-咪挫簇酸、2-化晚 簇酸、3-氨基-1，2, 4-S挫-5-簇酸、4, 6-二吗嘟-4-基-[1，3,引S嗦-2-簇酸、组氨酸、 色氨酸等。W下示出运些簇酸的结构式。
[0045] 运些（A)具有含氮杂环的簇酸中，优选具有含氮不饱和杂环的簇酸，其中，更优选 具有含氮不饱和杂环和氨基的簇酸。更具体地说，优选属于具有含氮不饱和杂环的簇酸的 4-咪挫簇酸、2-化晚簇酸、3-氨基-1，2, 4-S挫-5-簇酸、4, 6-二吗嘟-4-基-[1，3,引S 嗦-2-簇酸、组氨酸、色氨酸等，其中，更优选通式（1)和（1'）所示的属于具有含氮不饱和 杂环和氨基的簇酸的组氨酸、色氨酸，其中，特别优选组氨酸。组氨酸获得容易，对在CMP工 序中使用的微粒（研磨剂）、源自研磨后的金属的微粒（金属粒子）和BTA、QCA等防腐蚀 剂等残留物的除去效果好，进一步，对在CMP工序中形成的含有BTA、QCA等防腐蚀剂与金属 配线的表面金属的络合物的金属配线表面覆膜（保护膜：抗氧化膜）的除去（剥离）效果 好，在运一方面，其为优选的簇酸。
[0046] 运些（A)具有含氮杂环的簇酸可W单独使用，也可W组合2种W上使用。此外，若 是在水溶液中成为（A)具有含氮杂环的簇酸的物质，则可W使用簇酸盐、簇酸醋等簇酸衍 生物。需要说明的是，运些（A)具有含氮杂环的簇酸可W使用市售品，也可W使用利用本身 公知的方法适当合成的物质。
[0047] 作为做烷基径胺，可W举出例如下述通式似所示的物质。
[0048]
W例（式中，R2表示碳数I~6的烷基，R3表示氨原子或碳数I~6的烷基。）
[0050] 在通式似所示的烷基径胺中，作为R2和R3所示的碳数1~6的烷基，可W为直链 状、支链状或环状的任一种，具体地可W举出例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正下基、异下 基、仲下基、叔下基、环下基、正戊基、异戊基、仲戊基、叔戊基、新戊基、2-甲基下基、1,2-二 甲基丙基、1-乙基丙基、环戊基、正己基、异己基、仲己基、叔己基、新己基、2-甲基戊基、 1,2-二甲基下基、2, 3-二甲基下基、1-乙基下基、环己基等，其中，优选乙基、正丙基等碳数 2~3的直链状烷基，其中，更优选碳数2的烷基的乙基。
[00川作为通式似所示的烷基径胺的具体例，可W举出例如N-甲基径胺、N，N-二甲基 径胺、N-乙基径胺、N，N-二乙基径胺、N-正丙基径胺、N，N-二-正丙基径胺、N-异丙基径 胺、N，N-二异丙基径胺、N-正下基径胺、N，N-二-正下基径胺、N-异下基径胺、N，N-二异 下基径胺、N-仲下基径胺、N，N-二-仲下基径胺、N-叔下基径胺、N，N-二-叔下基径胺、 N-环下基径胺、N，N-二环下基径胺、N-正戊基径胺、N，N-二-正戊基径胺、N-异戊基径胺、 N，N-二异戊基径胺、N-仲戊基径胺、N，N-二-仲戊基径胺、N-叔戊基径胺、N，N-二-叔戊 基径胺、N-新戊基径胺、N，N-二新戊基径胺、N-(2-甲基下基）径胺、N，N-双（2-甲基下 基）径胺、N-(l，2-二甲基丙基）径胺、N，N-双（1,2-二甲基丙基）径胺、N-Q-乙基丙基） 径胺、N，N-双（1-乙基丙基）径胺、N-环戊基径胺、N，N-二环戊基径胺、N-正己基径胺、 N，N-二-正己基径胺、N-