半导体晶片清洗槽的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种半导体晶片清洗槽。
【背景技术】
[0002]现有的半导体晶片清洗槽在清洗时，晶片花篮静止会造成晶片表面反应不均匀，且清洗掉的沾污物质会重新附着到晶片表面，产生二次沾污的问题。
【发明内容】
[0003]本实用新型要解决的技术问题是提供一种结构简单、使用方便、成本低，防止清洗过程晶片损坏，提高成品率，避免二次污染的半导体晶片清洗槽。
[0004]本实用新型的技术解决方案是:
[0005]半导体晶片清洗槽，包括清洗槽本体，其特殊之处是:所述清洗槽本体侧面下部固设有支撑块，在清洗槽本体内部位于支撑块上设有镂空隔板，所述镂空隔板上设有晶片花篮，所述清洗槽本体内部位于镂空隔板下面设有搅拌轴，所述清洗槽本体上对应支撑块位置设置定位块。
[0006]该半导体晶片清洗槽结构简单、成本低、使用方便，将晶片花篮放在镂空隔板上，利用搅拌轴上的搅拌杆使液体流动，整个清洗过程中晶片花篮静止，防止清洗过程晶片损坏，从而提尚晶片的成品率，避免晶片一次污染。
【附图说明】
[0007]图1是本实用新型的结构示意图。
[0008]图中:1-洗槽本体，101-销孔，2-支撑块，3-镂空隔板，4-晶片花篮，5_搅拌轴，
6-定位块，7 一搅拌杆。
【具体实施方式】
[0009]如图所示，一种半导体晶片清洗槽，包括清洗槽本体1，所述清洗槽本体I侧面下部固设有支撑块2，在清洗槽本体I内部位于支撑块2上设有镂空隔板3，所述镂空隔板3上设有晶片花篮4，所述清洗槽本体I侧壁位于镂空隔板3下面设有销孔101，在销孔101内放置搅拌轴5，所述搅拌轴5两侧设有由镂空隔板3穿出的搅拌杆7，所述清洗槽本体I上对应支撑块2位置设置定位块6，将镂空隔板3卡住。
[0010]操作时，将晶片放入晶片花篮中，用手摇摆，搅拌杆7晃动后开始搅拌，通过清洗液流动清洗晶片。
【主权项】
1.半导体晶片清洗槽，包括清洗槽本体，其特征是:所述清洗槽本体侧面下部固设有支撑块，在清洗槽本体内部位于支撑块上设有镂空隔板，所述镂空隔板上设有晶片花篮，所述清洗槽本体内部位于镂空隔板下面设有搅拌轴，所述清洗槽本体上对应支撑块位置设置定位块。
【专利摘要】一种半导体晶片清洗槽，包括清洗槽本体，其特殊之处是：所述清洗槽本体侧面下部固设有支撑块，在清洗槽本体内部位于支撑块上设有镂空隔板，所述镂空隔板上设有晶片花篮，所述清洗槽本体内部位于镂空隔板下面设有搅拌轴，所述清洗槽本体上对应支撑块位置设置定位块。该半导体晶片清洗槽结构简单、成本低、使用方便，将晶片花篮放在镂空隔板上，利用搅拌轴上的搅拌杆使液体流动，整个清洗过程中晶片花篮静止，防止清洗过程晶片损坏，从而提高晶片的成品率，避免晶片二次污染。
【IPC分类】H01L21-02
【公开号】CN204303754
【申请号】CN201420861353
【发明人】谭鑫, 华冠男, 张华 , 陈鹏
【申请人】锦州华昌光伏科技有限公司
【公开日】2015年4月29日
【申请日】2014年12月31日