技术总结
本实用新型提供一种蚀刻装置。所述蚀刻装置包括蚀刻槽及清洗装置，所述蚀刻槽包括底壁及自所述底壁延伸的侧壁，所述底壁与所述侧壁围设形成收容空间，所述清洗装置包括一体成型的盘管、间隔设置于所述盘管上的多个喷嘴、与所述盘管连通的进液管及固定于所述侧壁的卡座，所述盘管收容于所述收容空间且环绕所述侧壁设置，所述喷嘴朝向所述侧壁喷淋且其喷淋方向与水平面呈15‑30°夹角，所述盘管通过所述卡座固定于所述侧壁，相邻两个所述喷嘴在所述侧壁上喷淋形成的喷淋区域部分叠加。与相关技术相比，本实用新型的蚀刻装置具有结构简单、稼动率高、清洗能力强且不会产生二次污染的优点。
技术研发人员：孟昭光;刘福会;刘广株
受保护的技术使用者：东莞市五株电子科技有限公司
文档号码：201620517153
技术研发日：2016.05.31
技术公布日：2016.12.14