有机EL设备及其制造方法与流程

文档序号:19792822发布日期:2020-01-24 14:40阅读:来源:国知局
技术总结
有机EL设备(100)包含基板(1)、驱动电路层(2)、无机保护层(Pa)、有机平坦化层(Pb)、有机EL元件层(3)、和TFE结构(10)。TFE结构包含第一无机屏障层(12)、有机屏障层(14)、和第二无机屏障层(16)。当从基板的法线方向看时,在已形成无机保护层(Pa)的区域内形成有机平坦化层(Pb),在已形成有机平坦化层(Pb)的区域内配置有有机EL元件,TFE结构(10)的外缘与拉出布线(32)交叉,且存在于有机平坦化层(Pb)的外缘和无机保护层(Pa)的外缘之间,在拉出布线(32)之上无机保护层(Pa)和第一无机屏障层(12)直接接触的部分中,第一无机屏障层(12)的与拉出布线(32)的线宽度方向平行的剖面的形状中的侧面的圆锥角θ(12)为未满90°。

技术研发人员:鸣泷阳三;岸本克彦
受保护的技术使用者:堺显示器制品株式会社
技术研发日:2017.06.13
技术公布日:2020.01.24

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