面发光装置和智能设备的制造方法_5

文档序号:9602934阅读:来源:国知局
物、具有作为吸电子基团而已知的喹喔啉 环的喹喔啉衍生物也可以作为电子传输材料来使用。进而,也可以使用将这些材料导入了 高分子链的、或将这些材料作为高分子的主链的高分子材料。
[0196] 另外,8-羟基喹啉衍生物的金属络合物、例如三(8-羟基喹啉)铝(Alq)、三(5, 7-二氯-8-羟基喹啉)铝、三(5, 7-二溴-8-羟基喹啉)铝、三(2-甲基-8-羟基喹啉) 铝、三(5-甲基-8-羟基喹啉)铝、双(8-羟基喹啉)锌(Znq)等及这些金属络合物的中心 金属被替换为In、Mg、Cu、Ca、Sn、Ga或Pb的金属络合物也可以作为电子传输材料来使用。 另外,不含金属或金属酞菁、或它们的末端被烷基、磺基等取代的物质也可以作为电子传输 材料而优选使用。另外,也作为发光层的材料来使用的二苯乙烯基吡嗪衍生物也可以作为 电子传输材料来使用,与空穴注入层、空穴传输层同样地,η型-Si、n型-SiC等的无机半导 体也可以作为电子传输材料来使用。
[0197] 在电子传输层中可将多种材料混合而使用。也可以进行碱金属、碱土金属、碱金属 化合物或碱土金属化合物的掺杂,但本发明涉及的电子传输层优选通过将单一的有机化合 物制膜而形成。作为理由,可列举在将多种材料混合使用的情况下,混合比的生产时的变 动、例如制膜基板面内的浓度变动等导致的性能变动的风险变高。
[0198] 就电子传输层中所含的有机化合物的玻璃化转变温度而言,从可获得更优异的高 温保存性、高温工艺稳定性出发,优选为110°c以上。
[0199] 对于电子传输层的层厚不受特别限制,通常为5nm~5μm左右的范围内,优选为 5~200nm的范围内。
[0200] <支承基板>
[0201] 作为适用于本发明涉及的有机EL元件3的支承基板(也称为基体、基板、基材、支 承体。)31,对玻璃、塑料等的种类不受特别限定,可由任何的材料构成。本发明中,就有机 EL元件3而言,由于为从支承基板31侧取出光的构成,因此支承基板31由透明材料构成。 作为优选使用的透明的支承基板,可以列举玻璃、石英、透明树脂膜。特别优选的支承基板 是可以对有机EL元件给予柔性的树脂膜。
[0202] 作为树脂膜,例如可列举聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯 (PEN)等的聚酯、聚乙烯、聚丙烯、赛璐玢、二乙酸纤维素、三乙酸纤维素(TAC)、乙酸丁酸纤 维素、乙酸丙酸纤维素(CAP)、乙酸邻苯二甲酸纤维素、硝酸纤维素等的纤维素酯类或它们 的衍生物、聚偏氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯乙烯醇、间规立构聚苯乙烯、聚碳酸酯、降冰片烯 树脂、聚甲基戊烯、聚醚酮、聚酰亚胺、聚醚砜(PES)、聚苯硫醚、聚砜类、聚醚酰亚胺、聚醚酮 酰亚胺、聚酰胺、氟树脂、尼龙、聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸类或聚芳酯类、7-卜 >(商品 名、JSR社制造)或7^少(商品名、三井化学社制造)这样的环烯烃系树脂等。
[0203] 在树脂膜的表面可形成无机物、有机物的被膜或这两者的混合被膜,优选为用根 据JISK7129-1992的方法测定的水蒸汽透过度为0.01gAm2*24h)以下的气体阻隔性膜, 更优选为用根据JISK7126-1992的方法测定的氧透过度为1X103mV(m2 · 24h·atm)以 下和水蒸汽透过度为1X10 3gAm2 *24h)以下的高气体阻隔性膜,进而,特别优选氧透过度 为1X105mV(m2 · 24h·atm)以下以及水蒸汽透过度为1X10 5gAm2 · 24h)。
[0204] 作为形成气体阻隔膜的材料,只要是具有抑制水分、氧等引起元件的劣化的物质 的浸入的功能的材料即可,例如可以使用氧化硅、二氧化硅、氮化硅等。进而,为了改进气体 阻隔膜的脆弱性,更优选使其具有这些无机层和由有机材料构成的层的层叠结构。对于无 机层与由有机材料构成的层的层叠顺序,不受特别限制,优选使两者交替地层叠多次。
[0205] 对气体阻隔膜的形成方法,不受特别限定,例如可以使用真空蒸镀法、溅射法、反 应性溅射法、分子束外延法、团簇离子束法、离子镀敷法、等离子体聚合法、大气压等离子 体聚合法、等离子体CVD法、激光CVD法、热CVD法、涂覆法等,但也可优选使用如日本特开 2004-68143号公报中记载那样的采用大气压等离子体聚合法的方法。
[0206] < 密封 >
[0207] 作为在本发明涉及的有机EL元件3的密封中使用的密封手段,例如可以列举用粘 接剂将密封构件与支承基板31等粘接的方法。
[0208] 作为密封构件,只要以覆盖有机EL元件的显示区域的方式配置即可,可以是凹板 状,也可以是平板状。
[0209] 另外,透明性、电绝缘性不受特别限定。
[0210] 具体地,可列举玻璃板、聚合物板?膜、金属板?膜等。作为玻璃板,特别可以列举 钠钙玻璃、含有钡?锶的玻璃、铅玻璃、铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、钡硼硅酸盐玻璃、石英 等。另外,作为聚合物板,可以列举聚碳酸酯、丙烯酸类、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚醚硫醚、 聚砜等。作为金属板,可列举由选自不锈钢、铁、铜、铝、镁、镍、锌、铬、钛、钼、硅、锗和钽中的 1种以上的金属或合金构成的金属板。
[0211] 在本发明中,从可以将有机EL元件薄膜化这样的方面出发,可以优选使用聚合 物膜或金属膜。进而,聚合物膜优选为氧透过度为1X10 3ml/(m2 · 24h·atm)以下以及水 蒸汽透过度为1\1038/(1112-2411)以下的聚合物膜。另外,更优选氧透过度为1\10 51]11/ (m2 · 24h·atm)以下以及水蒸汽透过度为1X10V^m2 · 24h)。
[0212] 就将密封构件加工成凹状而言,可使用喷砂加工、化学蚀刻加工等。
[0213] 作为粘接剂,具体地,可以列举丙烯酸系低聚物、甲基丙烯酸系低聚物的具有反应 性乙烯基的光固化及热固化型粘接剂、2-氰基丙烯酸酯等的湿气固化型等的粘接剂。另外, 可以列举环氧系等的热及化学固化型(二液混合)。另外,可以列举热熔型的聚酰胺、聚酯、 聚烯烃。另外,可以列举阳离子固化型的紫外线固化型环氧树脂粘接剂。
[0214] 应予说明,有时有机EL元件因热处理而劣化,因此优选可以从室温(25°C)到 80°C进行粘接固化。另外,也可使干燥剂分散在粘接剂中。就粘接剂在密封部分的涂布而 言,可使用市售的分配器,也可如丝网印刷那样进行印刷。
[0215] 在密封构件与有机EL元件的显示区域的间隙,优选以气相和液相注入氮、氩等的 非活性气体、氟化烃、硅油这样的非活性液体。另外,也可以形成为真空。另外,也可以在内 部封入吸湿性化合物。
[0216] 作为吸湿性化合物,例如可列举金属氧化物(例如,氧化钠、氧化钾、氧化钙、氧化 钡、氧化镁、氧化铝等)、硫酸盐(例如,硫酸钠、硫酸钙、硫酸镁、硫酸钴等)、金属卤化物 (例如,氯化钙、氯化镁、氟化铯、氟化钽、溴化铈、溴化镁、碘化钡、碘化镁等)、高氯酸类(例 如,高氯酸钡、高氯酸镁等)等,在硫酸盐、金属卤化物和高氯酸类中,优选使用无水盐。
[0217] <保护膜、保护板>
[0218] 为了提高有机EL元件的机械强度,可在上述密封用膜的外侧设置保护膜或保护 板。特别是在通过密封膜进行密封的情况下,由于其机械强度未必高,因此优选设置这样的 保护膜、保护板。作为可以在其中使用的材料,可以使用与在上述密封中使用的材料同样的 玻璃板、聚合物板?膜、金属板?膜等,但从轻量且薄膜化这样的方面出发,优选使用聚合物 膜。
[0219] < 阳极>
[0220] 作为阳极32,优选使用以功函数大(4eV以上)的金属、合金、导电性化合物和它们 的混合物作为电极物质的阳极。作为这样的电极物质的具体例,可列举Au、Ag、A1等的金 属、Cul、氧化铟锡(IT0)、Sn02、Zn0等的导电性透明材料。另外,也可使用IDIX0(In203_Zn0) 等非晶质、可制作透明导电膜的材料。
[0221] 就阳极32而言,可以使这些电极物质通过蒸镀、溅射等的方法形成薄膜、用光刻 法形成所期望的形状的图案,或者在不太需要图案精度的情况(100μm以上左右)下,也可 以在上述电极物质的蒸镀、溅射时经由所期望的形状的掩模而形成图案。或者,在使用如有 机导电性化合物那样可涂布的物质的情况下,也可以使用印刷方式、涂覆方式等湿式制膜 法。
[0222] 本发明中,由于从阳极32侧将发光取出,因此优选使透射率比10%大。
[0223] 另外,作为阳极32的薄层电阻值,优选数百Ω/□以下。
[0224] 膜厚也因材料而异,通常在5~lOOOnm的范围内选择,优选地在5~200nm的范 围内选择。
[0225] < 阴极>
[0226] 另一方面,作为阴极34,使用以金属、合金、导电性化合物和它们的混合物作为电 极物质的阴极。作为这样的电极物质的具体例,可列举钠、钠-钾合金、镁、锂、镁/铜混合 物、镁/银混合物、镁/铝混合物、镁/铟混合物、铝/氧化铝(A1203)混合物、铟、锂/铝混 合物、稀土类金属、银、铝等。这些中,从电子注入性和对于氧化等的耐久性的方面出发,优 选电子注入性金属和功函数的值比其大、稳定的金属即第2金属的混合物、例如镁/银混合 物、镁/铝混合物、镁/铟混合物、铝/氧化铝(A1203)混合物、锂/铝混合物,铝、银等。
[0227] 就阴极34而言,可以通过使这些电极物质通过蒸镀、溅射等的方法形成薄膜而制 作。
[0228] 另外,作为阴极34的薄层电阻值,优选数百Ω/ □以下,膜厚通常在5nm~5μπι 的范围内、优选在5~200nm的范围内选择。
[0229] 应予说明,本发明涉及的有机EL元件3由于使发光光从支承基板31侧透过,因此 在图示例中,阳极32具有透光性,而阴极34不具有透光性,但在将阴极34配置于支承基板 31侧的情况下,以该阴极34具有透光性、阳极32不具有透光性的方式构成。
[0230]《有机EL元件的图案化方法》
[0231] 对于本发明涉及的有机EL元件3而言,对有机功能层33的规定区域照射光,该规 定区域的功能变化,使该规定区域的亮度变化。
[0232] 作为有机EL元件3的图案化方法,分为制作有机EL元件3的层叠工序、对制作了 的有机EL元件3照射光的光照射工序。
[0233] (1)层叠工序
[0234] 首先,制作有机EL
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