掺镱硅酸钇镥激光晶体及其制备方法

文档序号:8034238阅读:685来源:国知局
专利名称:掺镱硅酸钇镥激光晶体及其制备方法
技术领域
本发明涉及可调谐激光晶体,特别是一种掺镱硅酸钇镥激光晶体及其制备方法,掺镱硅酸钇镥激光晶体,化学式为(YbxLuyY1-x-y)2SiO5(0.001≤x≤0.5,0<y≤0.8),(简称为Yb:LYSO),并涉及该晶体的提拉法生长方法。本发明生长的Yb:LYSO晶体有较大尺寸、晶体光学质量高、完整无开裂,及具有宽的发射谱带,可用于宽带可调谐超快激光技术领域中。
背景技术
Yb3+激光材料在900-980nm范围具有较强的吸收,能与高效的InGaAs激光二极管(波长为900-1100nm)有效地耦合,加之它能级简单,抽运波长与振荡波长相近,量子效率高,这些优点十分有利于在1000nm附近实现超快高功率激光输出。Yb激光材料的发射谱带越宽,愈容易实现宽调谐和高功率超快激光的输出。因此,随着高性能InGaAs激光二极管的发展和成本的降低,近年来,寻求具有宽发射谱的Yb掺杂激光增益介质材料引起了人们的极大兴趣。一般而言,Yb离子占据基质中低对称性的格位或多种格位,非常有利于Yb吸收和发射光谱的宽化。至今,已发现有较宽发射谱带适宜于宽调谐超快激光输出的Yb激光材料主要有Yb:Phosphate QX玻璃,Yb:Sr3Y(BO3)3(Yb:BOYS),Yb:SrY4(SiO4)3(Yb:SYS),Yb:Y2SiO5(Yb:YSO)和Yb:Lu2SiO5(Yb:LSO)等材料(参见2002年J.Opt.Soc.B.,Vol.19(5),p.1083,2004年Opt.Lett.Vol.29,p.1879,和2005年Opt.Lett.Vol.30p.857),这些材料的主要光谱等物理性能如下表1所示
表1一些宽发射可调谐超快Yb激光材料的性能

从表1中可知Yb:SYS晶体具有相对较宽的发射半高宽(约70nm),较高的发射截面,十分有利于超快激光输出(已有LD泵浦94fs/130mW输出的报道,参见2002年的Opt.Lett.,第27卷,第197页),但是该晶体的热导率相对较低(只有2.85W/mK//c),这对高功率激光运转十分不利。而且,Yb:SYS晶体生长温度高、组分多,生长优质单晶难度大,因此极大地限制了该晶体的应用。和Yb:SYS晶体相比,表1中所列的Yb:CaF2,Yb:YSO和Yb:LSO晶体的热导率相对较高(约4-5W/mK),这些晶体的发射半高宽(约50nm)相对较窄,且发射截面也比较小(约为Yb:SYS的一半),其中Yb:LSO晶体熔点较高,生长工艺还不很成熟。另外,表1中所列的Yb:磷酸盐玻璃虽然制备容易,但和Yb晶体相比,其热导率低、发射截面小,很难在高功率超快激光方面有所发展。
综上所述,在先技术中使用的宽调谐超快高功率Yb掺杂激光材料的综合性能欠佳,即宽发射谱带和高热导率不能同时兼有,而且部分晶体的制备较难,还远不能满足日益发展的LD泵浦的全固态宽调谐高功率超快激光应用的需要。

发明内容
本发明的目的是克服上述在先技术的缺点,提供一种掺镱硅酸钇镥激光晶体及其制备方法,该晶体应兼有宽发射半高宽、较高热导率和容易制备的优点。
本发明技术解决方案如下一种掺镱硅酸钇镥激光晶体,特征是其化学式为(YbxLuyY1-x-y)2SiO5,其中x和y的取值范围是0.001≤x≤0.5,0<y≤0.8。
本发明掺镱硅酸钇镥激光晶体的制备方法,按下列工艺步骤进行<1>按分子式(YbxLuyY1-x-y)2SiO5选定x和y的值,根据相应各组分的摩尔量称取一定量的干燥的纯度高于99.995%的Yb2O3,Y2O3,Lu2O3和SiO2原料;<2>将所称取的原料充分混合均匀,形成混合粉料;<3>将混合粉料,在1-5Gpa的压力下压成圆柱状的料饼,在1300-1400℃的温度下,进行恒温烧结24小时以上;
<4>将烧结好的料饼装进Ir金坩埚内,采用中频感应炉加热Ir坩埚内的原料使其完全熔化;<5>采用a轴、b轴或c轴的Lu2SiO5晶体作籽晶,在Yb:LYSO混晶的熔点下,用提拉法生长,生长气氛为N2气体或N2+2vol%的O2,晶体生长速度为1.0-2.5mm/小时,晶体转速约为15-40转/分钟,晶体经过下种、缩径、放肩、等径、收尾,降温等程序后,生长结束。
由于稀土正硅酸盐介质Y2SiO5(YSO)和Lu2SiO5(LSO)材料都属于一致熔融化合物,从表1上看,熔点分别约为1980℃和2050℃,且同属于低对称性的单斜晶系C2/c空间群结构,晶格中具有两个稀土格位(6配位和7配位)。Yb:LYSO混晶是在Y2SiO5晶体中引入Lu离子,它不但具有Y2SiO5晶体良好的生长特性,生长温度要比LSO晶体低,约在1950~2000℃左右,故易于生长尺寸大、高光学质量的晶体。
本发明所述的Yb:LYSO激光晶体也同样具有C2/c单斜结构,随着Yb、Lu浓度的增加,(YbxLuyY1-x-y)2SiO5(0.001≤x≤0.5,0<y≤0.8)混晶的晶格常数(a,b,c和β)也随着变化,其中1.2368(9)nm≤a≤1.2470(5)nm,0.6647(2)nm≤b≤0.6714(6)nm,1.0276(0)nm≤c≤1.0398(1)nm,102.2°≤β≤102.9°。本发明所述的Yb:LYSO激光晶体具有相对高的热导率(k),热导率的数值约为4.4-5W/mK之间。加之此Yb:LYSO混晶的单斜C2/c空间群结构的无序度进一步加大等优点,使掺入其中的Yb离子的吸收和发射峰非均匀加宽,有利于实现宽带可调谐发射。
本发明所述的Yb:LYSO激光晶体材料的吸收和发射光谱特性分别见

图1和图21)吸收波长范围在900-980nm,其中包含四个主要吸收峰899nm,923nm,951nm和977nm,可有效地与900-980nm范围的LD进行耦合;
2)发射谱带在1000nm-1120nm,其对应的几个发射峰分别为1004nm、1033nm、1056nm和1085nm,发射截面大;本发明所述的Yb:LYSO激光晶体具有1010nm-1100nm波长输出的激光调谐范围,从荧光发射谱可以从理论上推算Yb:LYSO晶体可以得到12fs的激光输出;因此Yb:LYSO混晶可应用于高功率超快激光技术领域。
本发明所述的Yb:LYSO晶体在1033nm、1056nm和1085nm处具有较高的发射截面,约为0.3-0.5×10-20cm2,因此,本发明所述的Yb:LYSO混晶可以在上述三个激光波长处产生激光振荡。本发明所述的Yb:LYSO混晶特别适于对940nmLD泵浦,并实现1085nm激光输出。该运转模式克服了由于通常Yb的泵浦波长和发射波长差小而造成难以镀膜的困难,有利于实现长波长(1085nm)的高功率激光输出。
本发明所述的Yb:LYSO混晶和在先技术中的宽发射超快Yb激光材料相比,具有1)较宽发射谱带1010-1100nm;2)较高的热导率,约为4.5-5W/mK,是Yb:SYS晶体的1.7倍多;3)晶体生长容易,晶体尺寸大,物化性能稳定等优点。
是目前综合性能最好的一种宽调谐Yb激光材料,有望在可调谐高功率超快激光技术领域获得广泛应用。
图例说明图1是本发明所述的Yb:LYSO激光晶体的吸收光谱特征图。
图2是本发明所述的Yb:LYSO激光晶体的发射光谱图。
具体实施例方式
下面结合实施例和附图对本发明作进一步说明,但不应以此限制本发明的保护范围。
本发明掺镱硅酸钇镥激光晶体的化学式为(YbxLuyY1-x-y)2SiO5,其中x和y的取值范围是0.001≤x≤0.5,0<y≤0.8。
本发明掺镱硅酸钇镥激光晶体的制备方法,包括下列工艺步骤<1>按分子式(YbxLuyY1-x-y)2SiO5选定x和y的值,根据相应各组分的摩尔量称取一定量的干燥的纯度高于99.995%的Yb2O3,Y2O3,Lu2O3和SiO2原料;<2>将所称取的原料充分混合均匀,形成混合粉料;<3>将混合粉料,在1-5Gpa的压力下压成圆柱状的料饼,在1300-1400℃的温度下,进行恒温烧结24小时以上;<4>将烧结好的料饼装进Ir金坩埚内,采用中频感应炉加热Ir坩埚内的原料使其完全熔化;<5>采用a轴、b轴或c轴的Lu2SiO5晶体作籽晶,在Yb:LYSO混晶的熔点下,用提拉法生长,生长气氛为N2气体或N2+2vol%的O2,晶体生长速度为1.0-2.5mm/小时,晶体转速约为15-40转/分钟,晶体经过下种、缩径、放肩、等径、收尾,降温等程序后,生长结束。
实施例1制备(Yb0.001Y0.9Lu0.099)2SiO5激光晶体按照上述工艺步骤<1>以摩尔比为0.001∶0.9∶0.099∶1的比率称取纯度为99.999%的Yb2O3,Y2O3,Lu2O3和SiO2原料;按上述工艺步骤<2>将上述称取的组分充分混合成均匀的粉料;按上述工艺步骤<3>将混合均匀原料,在1-5Gpa的压力下将混合的粉料压成圆柱状的料饼,料饼直径略小于坩埚容器直径,在低于1400℃的温度下进行烧结30小时;按上述工艺步骤<4>将烧好的料块装进炉膛中的Ir金坩埚内,采用中频感应加热Ir坩埚内的原料使其完全熔化;按工艺步骤<5>采用a轴的Lu3SiO5(LSO)晶体籽晶进行提拉法生长,(Yb0.001Y0.9Lu0.099)2SiO5晶体的生长温度约为1980℃,生长气氛为N2气体,晶体生长速度为2mm/hr,晶体转速约为25RPM。晶体经过下种、缩径、放肩、等径、收尾,降温等程序后,生长结束,晶体尺寸约为Ф60×80mm。
将本实施例(Yb0.001Y0.9Lu0.099)2SiO5激光晶体按激光的要求进行切割加工和镀膜。经实验表明该(Yb0.001Y0.9Lu0.099)2SiO5激光晶体尺寸较大,光学质量高,光谱性能如图1和图2所示,具有宽调谐(1010-1100nm),可以应用于LD泵浦的宽调谐超快激光。
实施例2制备(Yb0.5Y0.4Lu0.1)2SiO5激光晶体按照上述实施例1中的工艺步骤<1>以摩尔比为0.5∶0.4∶0.1∶1的比率称取纯度为99.999%的Yb2O3,Y2O3,Lu2O3和SiO2原料;重复上述实施例1中工艺步骤<2><3><4>;按上述实施例1中步骤<5>采用采用c轴LSO籽晶进行提拉法生长,(Yb0.5Y0.4Lu0.1)2SiO5混晶的生长温度约为2000℃,生长气氛为N2+2vol%的O2气体,晶体生长速度为1.2mm/hr,晶体转速约为40RPM。晶体经过下种、缩径、放肩、等径、收尾,降温等程序后,生长结束,最后获得Ф50×80mm的Yb:LYSO激光晶体。按上述实施例1,对本实施例(Yb0.5Y0.4Lu0.1)2SiO5晶体进行加工。最后获得的(Yb0.5Y0.4Lu0.1)2SiO5激光晶体尺寸较大,光学质量高,光谱性能与图1和图2相似,具有宽调谐(1010-1100nm),可以应用于LD泵浦的宽调谐超快激光技术领域实施例3制备(Yb0.05Y0.15Lu0.8)2SiO5激光晶体按照上述实施例2中的工艺步骤<1>以摩尔比为0.05∶0.15∶0.8∶1的比率称取纯度为99.999%的Yb2O3,Y2O3,Lu2O3和SiO2原料;重复上述实施例2中工艺步骤<2><3><4>;按上述实施例2中工艺步骤<5>采用b轴的LSO晶体籽晶进行提拉法生长,(Yb0.05Y0.15Lu0.8)2SiO5晶体的生长温度约为2010℃,生长气氛为N2+2vol%的O2气体,晶体生长速度为1.5mm/hr,晶体转速约为30RPM。晶体经过下种、缩径、放肩、等径、收尾,降温等程序后,生长结束,晶体尺寸约为Φ50×80mm;将粉实施例的晶体进行加工,获得的(Yb0.05Y0.15Lu0.8)2SiO5激光晶体尺寸较大,光学质量高,光谱性能与图1和图2相似,具有宽调谐(1010-1100nm),可以应用于LD泵浦的宽调谐超快激光技术领域。
总之,本发明晶体采用提拉法生长,该晶体兼有宽发射半高宽、较高热导率和容易制备的优点,本发明生长的晶体有较大尺寸、晶体光学质量高、完整无开裂,可用于宽带可调谐超快激光技术领域。
权利要求
1.一种掺镱硅酸钇镥激光晶体,特征是其化学式为(YbxLuyY1-x-y)2SiO5,其中x和y的取值范围是0.001≤x≤0.5,0<y≤0.8。
2.权利要求1所述的掺镱硅酸钇镥激光晶体的制备方法,其特征在于按下列工艺步骤进行<1>按分子式(YbxLuyY1-x-y)2SiO5选定x和y的值,根据相应各组分的摩尔量称取一定量的干燥的纯度高于99.995%的Yb2O3,Y2O3,Lu2O3和SiO2原料;<2>将所称取的原料充分混合均匀,形成混合粉料;<3>将混合粉料,在1-5Gpa的压力下压成圆柱状的料饼,在1300-1400℃的温度下,进行恒温烧结24小时以上;<4>将烧结好的料饼装进Ir金坩埚内,采用中频感应炉加热Ir坩埚内的原料使其完全熔化;<5>采用a轴、b轴或c轴的Lu2SiO5晶体作籽晶,在Yb:LYSO混晶的熔点下,用提拉法生长,生长气氛为N2气体或N2+2vol%的O2,晶体生长速度为1.0-2.5mm/小时,晶体转速约为15-40转/分钟,晶体经过下种、缩径、放肩、等径、收尾,降温等程序后,生长结束。
全文摘要
一种掺镱硅酸钇镥激光晶体及其制备方法,该晶体的化学式为(Yb
文档编号C30B15/00GK1737219SQ200510028599
公开日2006年2月22日 申请日期2005年8月9日 优先权日2005年8月9日
发明者严成锋, 赵广军, 徐军, 苏良碧, 徐晓东, 张连翰, 庞辉勇, 宗艳花 申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所
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