芯体组件钠流动控制系统的制作方法

技术特征：

1.一种芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，包括：

芯体支承结构；

掩蔽元件，所述掩蔽元件限定设置在所述掩蔽元件的第一高度处的至少一个掩蔽元件开口，其中所述掩蔽元件设置在所述芯体支承结构的第一侧；和

构造成与所述掩蔽元件配合的流动堆叠装置，其中所述流动堆叠装置包括：

限定多个流动堆叠装置入口的壁，其中所述多个流动堆叠装置入口中的至少一个构造成在所述流动堆叠装置与所述掩蔽元件配合时与所述至少一个掩蔽元件开口对齐；和

设置在所述流动堆叠装置内的流动控制组件，其中所述流动控制组件构造成限制所述流动堆叠装置内的流体的流动。

2.根据权利要求1所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，所述流动控制组件包括多个孔板，其中所述多个孔板中的每个孔板都限定从其中穿过的至少一个孔口。

3.根据权利要求2所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，所述流动堆叠装置具有一高度，并且其中所述多个孔板配置在沿所述高度的预定位置处，并且其中所述多个流动堆叠装置入口中的至少一个设置在所述多个孔板中的各孔板之间。

4.根据权利要求1所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，所述多个流动堆叠装置入口中的第一流动堆叠装置入口具有比所述多个流动堆叠装置入口中的第二流动堆叠装置入口的直径大的直径。

5.根据权利要求1所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，所述流动控制组件包括至少一个迷宫式元件，所述流体堆叠装置包括外壳体，并且所述至少一个迷宫式元件由可相对于外壳体平行、正交或歪斜地取向的多个分散翅片或板形成。

6.根据权利要求5所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，所述至少一个迷宫式元件与所述多个流动堆叠装置入口中的至少一个流体连通。

7.根据权利要求1所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，所述流动控制组件包括过滤器。

8.根据权利要求7所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，所述过滤器具有沿所述流动堆叠装置的高度变化的密度。

9.根据权利要求7所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，所述过滤器包括多个分散的过滤器元件。

10.根据权利要求1所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，所述掩蔽元件固定到所述芯体支承结构。

11.根据权利要求1所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，所述芯体支承结构构造成接纳入口引导销，所述入口引导销在与所述掩蔽元件基本对齐的位置固定到芯体组件。

12.根据权利要求1所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，所述流动堆叠装置连接到燃料组件，并且其中所述流动堆叠装置能在所述燃料组件提升时从所述掩蔽元件移除。

13.根据权利要求1所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，所述掩蔽元件包括多个掩蔽元件并且其中所述流动堆叠装置包括多个流动堆叠装置。

14.根据权利要求13所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，第一掩蔽元件限定设置在所述第一掩蔽元件的第一高度处的第一掩蔽元件开口，并且其中第二掩蔽元件限定设置在所述第二掩蔽元件的第二高度处的第二掩蔽元件开口，其中所述第一高度大于所述第二高度。

15.根据权利要求14所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，所述多个流动堆叠装置是相同的。

16.根据权利要求1所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，外壳体在所述外壳体的第一端限定出口。

17.根据权利要求1所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，当所述流动堆叠装置与所述掩蔽元件配合时，所述流动堆叠装置设置在所述掩蔽元件内。

18.根据权利要求1所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，当所述流动堆叠装置与所述掩蔽元件配合时，所述掩蔽元件设置在所述流动堆叠装置内。

19.一种芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，包括：

入口喷嘴，所述入口喷嘴限定入口开口和与所述入口开口流体连通的出口；

管道，所述管道靠近所述出口连接到所述入口喷嘴；

靠近所述出口设置的过滤器元件，其中进入所述入口开口和离开所述出口的流体在进入所述管道之前流经所述过滤器元件。

20.根据权利要求19所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，所述过滤器元件限定多个开口。

21.根据权利要求20所述的芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，所述多个开口包括多个扭转开口。