材料基材。
[0061] 本文所述的层压玻璃制品的应用领域包含例如：（i)具有双重光学功能的AMIXD玻 璃基材(例如，作为TFT层的玻璃基材和作为光漫射器，后者通过线性/圆形偏振功能替代）； (ii)具有双重光学功能的安全性玻璃(例如，作为具有高度透射率的玻璃基材，和作为带通 滤波器来截断/减少在电磁光谱中不想要的区域中的辐射，例如UV(150-350nm)，短IR/中IR (0.75-10微米），或任何其它电磁带）；（iii)具有双重功能的环境玻璃，例如建筑玻璃，汽车 玻璃和其它应用（例如，作为具有高透射率的玻璃基材，且作为截断UV辐射和/或IR辐射的 带通滤波器）。
[0062] 在一些实施例中，相对于建造成面板的独立的玻璃基材和独立的光漫射器滤波器 (例如，如通过薄的挤出聚合物在已知的产品中所提供），例如在AMLCD基材中的双重光学功 能提供显著形式的因素优势。本文所述的2-层精确玻璃层压件制品作为本文所述的2-组件 垂直熔合拉制法的产品，其形成作为显示器基材的新的区别特征，延伸进入未来的柔性显 示器，其中TFT基材与显示增强滤波器功能的机械整体性将是甚至更优选的。
[0063] 对本领域的技术人员而言，显而易见的是可以在不偏离本发明的范围和精神的情 况下对本发明进行各种修改和变动。因此，本发明仅受限于所附权利要求以及它们的等同 体。
【主权项】
1. 一种层压玻璃制品，其至少包含第一层、直接接触第一层的第二层以及第一层和第 二层之间的光学性质差异，其中所述光学性质差异包括下述的至少一种： (a) 在200nm-2500nm的波长范围中，第一层的透射率分布和第二层的透射率分布之间 的透射率分布差异;或 (b) 光偏振差异，由此相对于200nm-2500nm波长范围中的电磁福射，所述第二层是光偏 振的;或 (c) 第一层的折射率m和第二层折射率112之间的折射率差异为至少0.005,其中第一层 或第二层中的一层包含基础玻璃组合物，第一层或第二层中的另一层包含基础玻璃组合物 和掺杂剂，该掺杂剂的量足以导致所述折射率差异。2. 如权利要求1所述的层压玻璃制品，其特征在于，所述玻璃制品中每一层的厚度是至 少10微米或至少25微米。3. 如权利要求1-2中任一项所述的层压玻璃制品，其特征在于，所述玻璃制品中每一层 的厚度是至多1600微米。4. 如前述权利要求中任一项所述的层压玻璃制品，其特征在于，所述第一层的厚度是 50微米-700微米或250微米-700微米。5. 如前述权利要求中任一项所述的层压玻璃制品，其特征在于，所述第二层厚度是10 微米-150微米。6. 如前述权利要求中任一项所述的层压玻璃制品，其特征在于，第一层的厚度和第二 层的厚度比例是0.3-70或1.6-28。7. 如前述权利要求中任一项所述的层压玻璃制品，其特征在于，第一层或第二层中的 一层包含基础玻璃组合物，且第一层或第二层中的另一层包含基础玻璃组合物和掺杂剂， 所述掺杂剂的量足以导致光学性质差异。8. 如前述权利要求中任一项所述的层压玻璃制品，其特征在于，m和112相差至少0.005。9. 如前述权利要求中任一项所述的层压玻璃制品，其特征在于，第一层包含厚度T(1)， 第二层包含厚度Τ(2)，且T(l)/T(2)2 1。10. 如前述权利要求中任一项所述的层压玻璃制品，其特征在于，所述光学性质差异包 含透射率分布差异;第一层包含带通滤波器、陷波滤波器或透明层;和第二层包含带通滤波 器或陷波滤波器。11. 如前述权利要求中任一项所述的层压玻璃制品，其特征在于，所述光学性质差异包 含光偏振差异，第二层是最外面的层，且第一层相对于200nm-2500nm波长范围的电磁福射 是非光偏振的。12. 如前述权利要求中任一项所述的层压玻璃制品，其特征在于，其还包括3个尺寸:长 度(L)，宽度(W)和厚度(T)，长度是最大的尺寸，厚度是最小的尺寸，其中L/T 2 300和T 2 50 微米或500微米。13. 如前述权利要求中任一项所述的层压玻璃制品，其特征在于，第一层或第二层中的 至少一层包含多种包含物，所述包含物的折射率不同于第一层或第二层各自的折射率，由 此传播通过第一层或第二层各自的光被所述包含物散射。14. 如前述权利要求中任一项所述的层压玻璃制品，其特征在于，第一层和第二层的界 面是不均匀的，从而传播通过一层的光在界面处沿多个方向进行反射。15. 如前述权利要求中任一项所述的层压玻璃制品，其特征在于，第一层或第二层中的 至少一层包含布拉格光栅。16. -种光学装置，其包括如前述权利要求中任一项所述的层压玻璃制品和设置在所 述层压玻璃制品的至少一个外部主表面上的多个半导体装置。17. 如权利要求16所述的光学装置，其特征在于，至少一部分的所述多个半导体装置通 过使用其中层压玻璃制品经受高于400°C温度的步骤来形成。18. 如权利要求16或17所述的光学装置，其特征在于，使发光源结合到所述层压玻璃制 品的第一层或第二层中至少一层的边缘，从而来自发光源的光传播通过第一层或第二层中 的至少一层。19. 如权利要求18所述的光学装置，其特征在于，第一层或第二层中的至少一层是外部 层，且所述外部层的外部表面包含反射表面。20. 如权利要求18所述的光学装置，其特征在于，当在所述第一层或第二层的至少一层 的外部表面和外面介质的界面处发生反射时，使在第一层或第二层中至少一层中传播的光 的至少一部分进行全内反射。21. 如权利要求16-20中任一项所述的光学装置，其特征在于，所述光学装置包括LCD显 示器。22. 如权利要求16-21中任一项所述的光学装置，其特征在于，所述光学装置包括光伏 装置。23. 如权利要求16-22中任一项所述的光学装置，其特征在于，在光学装置的操作过程 中，使所述光学装置经受至少300°C的升高的温度。24. 如权利要求16-23中任一项所述的光学装置，其特征在于，所述光学装置包括光学 滤波器。25. 如权利要求16-24中任一项所述的光学装置，其特征在于，所述光学装置包括柔性 显示器。26. 如权利要求16-24中任一项所述的光学装置，其特征在于，所述光学装置包括弯曲 的显示器。27. -种用于制造如权利要求1-15中任一项所述的层压玻璃制品的方法，其中所述方 法包括下拉方法28. 如权利要求27所述的用于制造层压玻璃制品的方法，其特征在于，当两种玻璃都是 粘性的时，使第一层和第二层的熔融的玻璃彼此接触。29. 如权利要求27或28所述的用于制造层压玻璃制品的方法，其特征在于，在拉制过程 之前、之中和之后，第一层或第二层中的一层基本上不接触任何引导机械装置或拉制机械 装置。30. 如权利要求27-29中任一项所述的用于制造层压玻璃制品的方法，其特征在于，在 拉制过程中，第一层或第二层中一层的玻璃只部分地覆盖第一层或第二层中另一层的表 面。31. -种溢流分配器设备，其包含： 分配器部分，所述分配器部分包含通过分隔壁分成第一凹槽部分和第二凹槽部分的凹 槽，第一凹槽部分和第二凹槽部分中的每一个包含顶部边缘，所述顶部边缘分别邻近分配 器部分的第一侧壁以及与所述第一侧壁相对的分配器部分的第二侧壁;和 从所述分配器部分延伸的形成部分，所述形成部分包含邻近所述分配器部分的所述第 一侧壁的第一侧壁以及与所述形成部分的所述第一侧壁相对且邻近所述分配器部分的所 述第二侧壁的第二侧壁，所述形成部分的第一侧壁和第二侧壁在拉制线处彼此汇聚； 其中第一凹槽部分的体积和第二凹槽部分的体积不相同。32. 如权利要求31所述的设备，其特征在于，所述形成部分的第一侧壁和所述形成部分 的第二侧壁分别以仏和此的角度相对于包含拉制线的垂直平面倾斜，角度&是_25°到25°， 和角度是-25°到25°。33. 如权利要求31或32所述的设备，其特征在于，第一凹槽部分的顶部边缘和第二凹槽 部分的顶部边缘分别以^和句的角度相对于水平面倾斜。34. 如权利要求33所述的设备，其特征在于，(^和句不相同。35. 如权利要求31-34中任一项所述的设备，其特征在于，使用所述溢流分配器形成的 玻璃板第一层厚度和邻近第一层的所述玻璃板第二层厚度的比例取决于第一凹槽部分体 积和第二凹槽部分体积的比例。
【专利摘要】一种层压玻璃制品至少包含第一层、直接接触第一层的第二层以及第一层和第二层之间的光学性质差异。所述光学性质差异包含下述的至少一种:(a)在200nm?2500nm的波长范围中，第一层和第二层的透射率分布之间的透射率分布差异；或(b)光偏振差异,由此相对于200nm?2500nm波长范围中的电磁辐射，第二层是光偏振的；或(c)第一层和第二层折射率之间的折射率差异是至少0.005,其中一层包含基础玻璃组合物，另一层包含基础玻璃组合物和掺杂剂，该掺杂剂的量足以导致折射率差异。
【IPC分类】C03B17/06, B32B17/10, B32B17/06
【公开号】CN105722677
【申请号】CN201480062317
【发明人】O·N·伯拉塔瓦, M-J·李, P·J·威索罗斯基
【申请人】康宁股份有限公司
【公开日】2016年6月29日
【申请日】2014年11月10日
【公告号】WO2015073350A1