取代的n-(四唑-5-基)-和n-(三唑-5-基)芳基羧酰胺化合物及其作为除草剂的用途
【专利摘要】式(I)的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)芳基羧酰胺及其作为除草剂的用途。本发明涉及式(I)的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)芳基羧酰胺及其作为除草剂的用途。在所述式I中，B表示N或CH，CYC表示下式Cyc-1或Cyc-2的双环或三环基团，而Q和Q'表示稠合碳环或稠合杂环以及R、R1、R3、R4和R5表示诸如氢、卤素或有机基团如烷基或苯基的基团。
【专利说明】取代的N-(四唑-5-基）-和N-(三唑-5-基）芳基羧酰胺 化合物及其作为除草剂的用途
[0001] 本发明涉及取代的N-(四唑-5-基）-和N-(三唑-5-基）芳基羧酰胺化合物 及其N-氧化物和盐以及包含这些的组合物。本发明还涉及N-(四唑-5-基）-和N-(三 唑-5-基）芳基羧酰胺化合物或包含该类化合物的组合物在防治不希望的植物中的用途。 此外，本发明涉及施用该类化合物的方法。
[0002] 为了防治不希望的植物，尤其是在作物中防治不希望的植物，持续需要具有高活 性和选择性以及不对人类和动物具有显著毒性的新型除草剂。
[0003] WO 2011/035874描述了在苯基环的2-、3_和4-位带有3个取代基的 Ν-α，2, 5-P恶二唑-3-基）苯甲酰胺类及其作为除草剂的用途。
[0004] WO 2012/028579描述了在芳基环的2-、3_和4-位带有3个取代基的N-(四 唑-4-基）-和N-(三唑-3-基）芳基羧酸酰胺及其作为除草剂的用途。
[0005] 现有技术的化合物通常尤其在低施用率下除草活性不足和/或选择性并不令人 满意，导致与农作物的相容性低。
[0006] 因此，本发明的目的是要提供尤其甚至在低施用率下具有强除草活性、对人类和 动物足够低的毒性和/或与农作物的高相容性的其他N-(四唑-5-基）-和N-(三唑-5-基） 芳基羧酰胺化合物。N-(四唑-5-基）-和N-(三唑-5-基）芳基羧酰胺化合物还应对大量 不同的不希望植物显示出宽活性谱。
[0007] 这些和其他目的由下面所定义的式I化合物及其N-氧化物以及还有其可农用盐 实现。
[0008] 已经发现上述目的可以通过下面所定义的通式I的取代的N-(四唑-5-基）_和 N-(三唑-5-基）芳基羧酰胺化合物一包括其N-氧化物及其盐，尤其是其可农用盐实现。
[0009] 因此，在第一方面本发明涉及式I化合物、其N-氧化物或可农用盐：
【权利要求】
1.式I的N-(四唑-5-基）-和N-(三唑-5-基）芳基羧酰胺、其N-氧化物或可农用 盐：
其中 B为N或CH ; R选自氢、C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C 3-C7环烷基-C1-C4烷基，其中两个前述基团中的 C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C6卤代烷基、C 2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯 基、C 2-C6块基、C2-C6齒代块基、C1-C 4烧氧基-C1-C4烧基、C1-C4齒代烧氧基-C 1-C4烧基、 Rb-S (O) ^C1-C3 烷基、Rc-C ( = 0) -C1-C3 烷基、RdO-C ( = 0) -C1-C3 烷基、ReRfN-C ( = 0) -C1-C3 烷基、RgRhN-C1-C3烷基、苯基-Z和杂环基-Z，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自0、N和S 的杂原子作为环成员的5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其 中苯基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R'取代； CYC表示下式Cyc-I或Cyc-2的双环或三环基团：
其中 #表示该双环基团与羰基的连接点， Q、Q'相互独立地表示稠合5、6、7、8、9或10员碳环或稠合5、6、7、8、9或10员杂环，其 中稠合杂环具有1、2、3或4个选自0、S和N的杂原子作为环成员，其中稠合碳环和稠合杂 环是单环或双环的且其中稠合碳环和稠合杂环未被取代或带有1、2、3、4、5、6、7、8、9或10 个基团R 2 ; Cyc-I中的R1选自氰基-Z1、卤素、硝基、C1-C8烷基、C 2-C8链烯基、C2-C8炔基、C1-C 8卤 代烷基、C1-C8烷氧基、C1-C4烷氧基-C 1-C4烷基、C1-C4烷氧基-C1-C 4烷氧基-Z1、C1-C4烷硫 基-C 1-C4烷基、C1-C4烷硫基-C1-C 4烷硫基-Z1、C2-C6链烯氧基、C2-C 6炔氧基、C1-C6卤代烷 氧基、C1-C 4齒代烧氧基-C1-C4烧基、C1-C4齒代烧氧基-C 1-C4烧氧基-Z1 ARlb-S(O)k-Z^苯氧 基-Z1和杂环氧基-Z 1，其中杂环氧基为含有1、2、3或4个选自0、N和S的杂原子作为环成 员的氧键合的5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯氧基 和杂环氧基中的环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R 11取代； R2 选自卤素、ΟΗ-Ζ2、Ν02-Ζ2、氰基-Z2、氧代（=0)、R 22-N =、C1-C4 烷基、C1-C4 卤代烷 基、C2-C4链稀基、C2-C4块基、C 1-C4烧氧基-Z2X1-C4烧氧基-C 1-C4烧氧基-C1-C4烧基、C1-C 4 烷硫基、C1-C4卤代烷硫基、C1-C4卤代烷氧基-z 2、C3-Cltl环烷基-z2、C3-C ltl环烷基-z2-o、 (三-C1-C4 烷基）甲硅烷基-Z2、R2b-S(0)k-Z2、R 2c;-C( = 0)-Z2、R2gR2hN-Z2 和苯基-z2,其中苯 基-Z2中的苯基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R21取代； 式Cyc-2中的R3选自氢、卤素、ΟΗ-Ζ3、Ν02-Ζ3、氰基-Z 3、C1-C6烷基、C2-C8链烯基、C 2-C8 炔基、C3-Cltl环烷基-Z3、C3-C ltl环烷氧基-Z3,其中两个上述基团中的C3-Cltl环烷基未被取 代或部分或完全被卤代，C 1-C8卤代烷基、C1-C8烷氧基-Z3、C 1-C8卤代烷氧基-Z3、C1-C4烷氧 基-C 1-C4烷氧基-z3、C1-C4烷硫基-C 1-C4烷硫基-z3、C2-C8链烯氧基-z 3、C2-C8炔氧基-Z3、 C2-C8齒代链烯氧基-Z3X2-C8齒代块氧基-Z 3X1-C4齒代烧氧基-C1-C4烧氧基-Z 3、（二-C1-C4 烷基）甲硅烷基-z3、R3b-S (O) k-z3、R3c-C ( = 0)-Z3、R3dO-C ( = 0)-Z3、R3eR3fN-C ( = 0)-Z3、 R3gR3hN-Z3、苯基-Z3a和杂环基-Z 3a，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自0、N和S的杂原子 作为环成员的5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基-Z 3a 和杂环基-Z3a中的环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R31取代； R4选自氢、齒素、氰基、硝基、C1-C4烷基和C1-C 4齒代烷基； R5选自氢、齒素、C1-C4烷基和C1-C 4齒代烷基； η为0、1或2 ; k为0、1或2 ; R'、R11、R21、R31相互独立地选自卤素、N02、CN、C 1-C6烷基、C3-C7环烷基、C3-C 7卤代环烷 基、C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C 2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C 6卤代炔基、C1-C6烷氧 基、C1-C 4烧氧基-C1-C4烧基、C1-C4烧硫基 -C1-C4烧基、C1-C4 1?'代烧氧基-C1-C4烧基、C1-C 4 烷氧基-C1-C4烷氧基X3-C7环烷氧基和C 1-C6卤代烷氧基；或者两个连位基团R'、Rn、R21或 R31 -起可以形成基团=〇 ; R22选自C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基和未被取代或部分或完全被卤代的C 3-C7环烷 氧基； Z、Z1、Z2、Z3相互独立地选自共价键和C1-C 4链烷二基； Z3a选自共价键、C1-C4链烷二基、O-C1-C 4链烷二基、C1-C4链烷二基-〇和C1-C4链烷二 基-O-C1-C4链烷二基； Rb、Rlb、R2b、R3b相互独立地选自C 1-C6烷基、C3-C7环烷基、C1-C 6卤代烷基、C2-C6链烯基、 C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C 2-C6卤代炔基、苯基和杂环基，其中杂环基为含有1、2、3或 4个选自0、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中 苯基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C 1-C4烷基、C1-C4卤代烷 基、C 1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团取代； Re、R' R3e相互独立地选自氢、C1-C6烷基、C3-C 7环烷基、C3-C7环烷基-C1-C4烷基，其中 两个前述基团中的C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C 6卤代烷基、C2-C6链烯 基、C2-C 6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C 1-C4烷氧基-C1-C4烷基、苯基、苄基和杂 环基，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自0、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环 饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基、苄基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或 不同且选自卤素、C 1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C 4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团取代； Rd、R3d相互独立地选自C1-C6烷基、C 3-C7环烷基、C3-C7环烷基-C1-C 4烷基，其中两个前 述基团中的C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C 1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基X2-C 6 卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C 1-C4烷氧基-C1-C4烷基、苯基和苄基，其中苯基和 苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C 1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C 4 烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团取代； R% Rf相互独立地选自氢、C1-C6烷基、C3-C 7环烷基、C3-C7环烷基-C1-C4烷基，其中两个 前述基团中的C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C 6卤代烷基、C2-C6链烯基、 C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C 2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基-C1-C 4烷基、苯基和苄基，其中苯 基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1-C 4烷基、C1-C4卤代烷基、 C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团取代，或者 R%Rf与它们所键合的氮原子一起可以形成可以带有选自〇、S和N的另一杂原子作为环 成员且未被取代或可以带有1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1-C4烷基、C1-C 4卤代烷 基、C1-C4烷氧基和C1-C 4卤代烷氧基的基团的5、6或7员饱和或不饱和N-键合杂环基团； R' R3f相互独立地具有对R% Rf所给含义； Rg选自氢、C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C 3-C7环烷基-C1-C4烷基，其中两个前述基团中的 C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C6卤代烷基、C 2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯 基、C 2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C 4烷氧基-C1-C4烷基、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被 取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C 1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C 4烷氧基和 C1-C4卤代烷氧基的基团取代； Rh选自氢、C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C 3-C7环烷基-C1-C4烷基，其中两个前述基团中的 C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C6卤代烷基、C 2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯 基、C 2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C 4烷氧基-C1-C4烷基、基团C( = 0)-Rk、苯基和苄基，其 中苯基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1-C 4烷基、C1-C4卤代烷 基、C1-C 4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团取代，或者 Rg、Rh与它们所键合的氮原子一起可以形成可以带有选自〇、S和N的另一杂原子作为 环成员且未被取代或可以带有1、2、3或4个相同或不同且选自=0、卤素、C1-C4烷基、C 1-C4 卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团的5、6或7员饱和或不饱和N-键合杂环 基团； R2g、R2h相互独立地具有对Rg、Rh所给含义； R3g、R3h相互独立地具有对Rg、Rh所给含义； Rk具有对Rci所给含义。
2. 根据权利要求1的化合物，其中R选自C1-C4烷基、C1-C4烷氧基-C 1-C4烷基、C3-C7环 烧基、CfC 4 1?'代烧基、Rti-C ( = 0)-CfC2 烧基、RdO-C ( = 0)-CfC2 烧基、ReRfN-C ( = 0)-CfC2 烷基和Rk-C( = C^NH-C1-C2烷基，其中 K为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基， Rd为C1-C4烷基， Re为氢或C1-C4烷基， Rf为氢或C1-C4烧基，或 R% Rf与它们所键合的氮原子一起可以形成可以带有选自〇、S和N的另一杂原子作为 环成员且未被取代或可以带有1、2、3或4个甲基的5、6或7员饱和N-键合杂环基团， Rk为C1-C4烷基。
3. 根据权利要求1的化合物，其中R为苯基或杂环基，其中杂环基为含有1、2、3或4个 选自0、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或 芳族杂环，其中苯基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个基团R'取代，其中R'选自卤素、 甲基、乙基、甲氧基和三氟甲基。
4. 根据权利要求1的化合物，其中R为Rb-S (O)n-C1-C2烷基，其中Rb为C 1-C6烷基、C1-C6 卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C 2-C6炔基、C3-C7环烷基、苯基和杂环基，其中杂 环基为具有1或2个氮原子作为环成员的6员芳族杂环基团。
5. 根据前述权利要求中任一项的化合物，其中R2选自氧代、卤素、C1-C4烷基、C 1-C4烷 氧基、C1-C4烧氧基-C 1-C4烧基、C1-C4烧氧基-C1-C 4烧氧基-C1-C4烧基、C1-C4烧硫基、C 1-C4 卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4卤代烷硫基、C 3-C4链烯基X3-C4炔基和R22-N =，其中R22 为C1-C4烧氧基。
6. 根据前述权利要求中任一项的化合物，其中R2选自氧代、卤素、C1-C4烷基、C 1-C4烷 氧基、C1-C4齒代烷基、C 1-C4齒代烷氧基，C3-C4链烯基和R22-N =，其中R22为C1-C4烷氧基。
7. 根据前述权利要求中任一项的化合物，其中R4选自氢、CN、CHF2、CF3、CH 3、NO2和卤 素。
8. 根据前述权利要求中任一项的化合物，其中R5选自氢、卤素、CHF2和CF3。
9. 根据前述权利要求中任一项的化合物，其中R4和R5为氢。
10. 根据前述权利要求中任一项的化合物，其中CYC为基团Cyc-I。
11. 根据权利要求10的化合物，其中Q表示稠合5或6员单环杂环或稠合7、8、9或10 员螺双环杂环，其中稠合单环杂环具有1或2个选自0、S和N的杂原子作为环成员且未被 取代或带有1、2、3、4、5、6、7或8个基团R 2,其中稠合螺双环杂环具有1、2、3或4个选自0、 S和N的杂原子作为环成员且未被取代或带有1、2、3、4、5、6、7、8、9或10个基团R2。
12. 根据权利要求10或11的化合物，其中式Cyc-I中的R1选自氰基、卤素、硝基X1-C 6 烧基、C2-C6链稀基、C2-C6块基、C 1-C6齒代烧基X1-C6烧氧基X1-C 4烧氧基-C1-C4烧基、C1-C4 卤代烷氧基-C1-C4烷基、C1-C4烷氧基-C 1-C4烷氧基-Z1、C1-C4烷硫基-C 1-C4烷基、C1-C4烷 硫基-C1-C 4烷硫基-Z1、C2-C6链烯氧基、C2-C 6炔氧基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C4卤代烷氧 基-C 1-C4烷氧基和Rlb-S (0) k，其中k和Z1如权利要求1所定义且其中Rlb选自C1-C 4烷基和 C1-C4卤代烷基。
13. 根据权利要求10-12中任一项的化合物，其中R1选自卤素、C1-C4烷基、C 1-C4卤代 烧基、C1-C4烧氧基-C 1-C4烧基、C1-C4烧氧基-C1-C 4烧氧基-C1-C4烧基、C1-C4烧氧基、C 1-C4 卤代烷氧基、C1-C4烷硫基、C1-C4卤代烷硫基和C 1-C4烷基磺酰基。
14. 根据权利要求10-13中任一项的化合物，其中Cyc-I选自下列基团Cyc-Ia至 Cyc-Ih ：
其中#、R1、R2和R4如前述权利要求中任一项所定义，其中R 5为氢或卤素且其中R23和 R24为氢或具有对R2所给含义之一。
15.根据权利要求10-14中任一项的化合物，其中Cyc-I选自下列基团Cyc-la'至 Cyc-lh' 和 Cyc-lf":
其中 R2p、R2tl相互独立地为氢、C1-C4烷基或C 1-C4烷氧基，尤其是R2p为H或CH3 ;R2<1为H、CH3 或 OCH3 ; R2"、R2s相互独立地为氢或卤素，尤其是氢、氟或氯； R2t为C1-C4齒代烷氧基，尤其是OCH2CH 2F ; R2u为C1-C4烷氧基，尤其是OCH3或OCH 2CH3 ; R2v 为 C1-C4 烷基或 C3-C4 链烯基，尤其是 CH3、CH2CH3、CH2CH2CH 3、CH (CH3) 2 或 CH2CH = CH2。
16. 根据权利要求1-9中任一项的化合物，其中CYC为基团Cyc-2。
17. 根据权利要求16的化合物，其中Q'表示稠合5或6员单环杂环或稠合7、8、9或 10员双环杂环，其中稠合单环杂环具有1或2个选自0、S和N的杂原子作为环成员且未被 取代或带有1、2、3、4、5、6、7或8个基团R 2,其中稠合双环杂环具有1、2、3、4、5、6、7、8、9或 10个基团R2。
18. 根据权利要求16或17的化合物，其中R3选自氢、氰基、齒素、硝基X1-C4烷基、C 1-C4 齒代烧基、C1-C4烧氧基、C1-C4 1?'代烧氧基、C2-C4链稀基、C2-C4块基、C 2-C4链稀氧基、C2-C4 炔氧基和R3b-S (O)k。
19. 根据权利要求16-18中任一项的化合物，其中R3选自氢、卤素、ClNOyC1-C4烷基、 C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C 1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷硫基、C1-C 4卤代烷硫基、C1-C4烷 基-S (0) 2和C1-C4卤代烷基-S (0) 2。
20. 根据权利要求16-19中任一项的化合物，其中Cyc-2选自下列基团Cyc-2a至 Cyc-2d ：
其中#、R2、R3和R4如前述权利要求中任一项所定义且p为0、1、2或3。
21. 根据权利要求20的化合物，其中p为0且R4为氢。
22. 根据权利要求20或21的化合物，其中R3选自氢、卤素 X1-C4烷基、C1-C4卤代烷基 和C 1-C4烷氧基，尤其是R3选自F、Cl、Br、CH3、CF 3和OCH3。
23. -种组合物，包含至少一种根据权利要求1-22中任一项的化合物和至少一种常用 于配制作物保护化合物的助剂。
24. 根据权利要求1-22中任一项的化合物或权利要求23的组合物在防止不希望的植 物中的用途。
25. -种防治不希望的植物的方法，包括使除草有效量的至少一种根据权利要求1-22 中任一项的化合物或权利要求22的组合物作用于植物、其种子和/或其生长地。
【文档编号】A01N43/713GK104395304SQ201380034197
【公开日】2015年3月4日 申请日期:2013年4月16日 优先权日:2012年4月27日
【发明者】H·克罗斯, M·维切尔, T·塞茨, T·W·牛顿, L·帕拉拉帕多, K·克罗伊茨, J·赫茨勒, M·帕斯特纳克, J·莱尔希尔, R·R·埃万斯 申请人:巴斯夫欧洲公司