本发明涉及一种冷等离子体处理植物种子的处理工艺。
背景技术：
目前，等离子体种子处理技术是借鉴航天育种中宇宙等离子体射线对种子影响的物理原理，让种子在机器中接受等离子体照射和交变电感的作用，激发种子的潜能，提高种子的活力，增强种子的健壮度。经过国内外检索文献表明，采用等离子体处理作物种子已有专利，但是没有根据具体种子的外壳质地，具体细化其处理条件，实际操作过程中，没有更好地提高不同类种子的性能。
技术实现要素：
本发明所要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提高一种冷等离子体处理植物种子的处理工艺，它能够对不同质地的外壳的种子进行优化冷等离子体处理，从而提高不同类种子的性能。
为了解决上述技术问题，本发明的技术方案是：一种冷等离子体处理植物种子的处理工艺，所述工艺的步骤中含有：
根据植物种子外壳的质地硬度选择冷等离子体处理的条件对相应的植物种子进行处理；其中，外壳质地松疏的植物种子为第一类种子，第一类种子的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，10W～25W的处理功率下对第一类种子进行8～18秒的非电离辐射处理；外壳质地坚硬的植物种子为第二类种子，第二类种子的的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，155W～185W的处理功率下对第二类种子进行18～25秒的非电离辐射处理；外壳质地超硬的植物种子为第三类种子，第三类种子的的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，220W～290W的处理功率下对第三类种子进行15～30秒的非电离辐射处理。
进一步提供了一种对大麦种子的冷等离子体处理条件，从而提高大麦种子的各种性能，第一类种子中包括大麦种子，大麦种子的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，10W～25W的处理功率下对大麦种子进行8～12秒的非电离辐射处理。
进一步提供了一种对燕麦种子的冷等离子体处理条件，从而提高燕麦种子的各种性能，第一类种子中包括燕麦种子，燕麦种子的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，15W～25W的处理功率下对燕麦种子进行9～18秒的非电离辐射处理。
进一步提供了一种对香菜种子的冷等离子体处理条件，从而提高香菜种子的各种性能，第二类种子中包括香菜种子，香菜种子的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，165W～180W的处理功率下对香菜种子进行18～25秒的非电离辐射处理。
进一步提供了一种对西瓜种子的冷等离子体处理条件，从而提高西瓜种子的各种性能，第二类种子中包括西瓜种子，西瓜种子的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，155W～185W的处理功率下对西瓜种子进行18～25秒的非电离辐射处理。
进一步提供了一种对栾树种子的冷等离子体处理条件，从而提高栾树种子的各种性能，第三类种子中包括栾树种子，栾树种子的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，230W～260W的处理功率下对栾树种子进行20～25秒的非电离辐射处理。
进一步提供了一种对红栎种子的冷等离子体处理条件，从而提高红栎种子的各种性能，第三类种子中包括红栎种子，红栎种子的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，220W～290W的处理功率下对栾树种子进行20～30秒的非电离辐射处理。
采用了上述技术方案后，冷等离子体种子处理技术，属于非电离辐射处理，它的作用范围是0-20EV，植物种子(生命体)生物大分子中的电子能级的作用范围也是1-20EV，但其基态为1EV，所以要引起二者的互作用，必须是冷等离子体有足够可控的能量，恰到好处地引起光幅射能量的“传递”(互作用)，由于因为植物种子外壳的皮层厚薄、结构的致密度(质地)“千差万别”，对光幅射的幅射阻挡影响也不一致，所以采用对各种种子的处理工艺，也不完全相同，据此，本发明根据种子的外壳的质地，对相应的种子进行分类，并根据分类后的种子采用比较优的冷等离子体处理条件进行处理，从而分别提高种子的性能，性能中包括种子的发芽率、发芽势和产量和口感。
具体实施方式
为了使本发明的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例，对本发明作进一步详细的说明。
实施例一
一种冷等离子体处理植物种子的处理工艺，所述工艺的步骤中含有：
根据植物种子外壳的质地硬度选择冷等离子体处理的条件对相应的植物种子进行处理；其中，外壳质地松疏的植物种子为第一类种子，第一类种子的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，10W～25W的处理功率下对第一类种子进行8～18秒的非电离辐射处理；在本实施例中，第一类种子中包括大麦种子，大麦种子的冷等离子体处理的条件为：在真空度为145Pa的真空环境中，15W的处理功率下对大麦种子进行10秒的非电离辐射处理，当然，所述真空度可以在135Pa～155Pa中选择，处理功率可以在10W～25W中选择，处理时间可以在8～12秒中选择。
实施例二
一种冷等离子体处理植物种子的处理工艺，所述工艺的步骤中含有：
根据植物种子外壳的质地硬度选择冷等离子体处理的条件对相应的植物种子进行处理；其中，外壳质地松疏的植物种子为第一类种子，第一类种子的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，10W～25W的处理功率下对第一类种子进行8～18秒的非电离辐射处理；在本实施例中，第一类种子中包括燕麦种子，燕麦种子的冷等离子体处理的条件为：在真空度为150Pa的真空环境中，20W的处理功率下对燕麦种子进行14秒的非电离辐射处理；当然，所述真空度可以在135Pa～160Pa中选择，处理功率可以在15W～25W中选择，处理时间可以在9～18秒中选择。
实施例三
一种冷等离子体处理植物种子的处理工艺，所述工艺的步骤中含有：
根据植物种子外壳的质地硬度选择冷等离子体处理的条件对相应的植物种子进行处理；其中，外壳质地坚硬的植物种子为第二类种子，第二类种子的的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，155W～185W的处理功率下对第二类种子进行18～25秒的非电离辐射处理；在本实施例中，第二类种子中包括香菜种子，香菜种子的冷等离子体处理的条件为：在真空度为160Pa的真空环境中，170W的处理功率下对香菜种子进行23秒的非电离辐射处理。当然，所述真空度可以在150Pa～165Pa中选择，处理功率可以在165W～180W中选择，处理时间可以在18～25秒中选择。
实施例四
一种冷等离子体处理植物种子的处理工艺，所述工艺的步骤中含有：
根据植物种子外壳的质地硬度选择冷等离子体处理的条件对相应的植物种子进行处理；其中，外壳质地坚硬的植物种子为第二类种子，第二类种子的的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，155W～185W的处理功率下对第二类种子进行18～25秒的非电离辐射处理；在本实施例中，第二类种子中包括西瓜种子，西瓜种子的冷等离子体处理的条件为：在真空度为160Pa的真空环境中，170W的处理功率下对西瓜种子进行23秒的非电离辐射处理。当然，所述真空度可以在150Pa～165Pa中选择，处理功率可以在155W～185W中选择，处理时间可以在18～25秒中选择。
实施例五
一种冷等离子体处理植物种子的处理工艺，所述工艺的步骤中含有：
根据植物种子外壳的质地硬度选择冷等离子体处理的条件对相应的植物种子进行处理；其中，外壳质地松疏的植物种子为第一类种子，第一类种子的冷等离子体处理的条件为：外壳质地超硬的植物种子为第三类种子，第三类种子的的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，220W～290W的处理功率下对第三类种子进行20～30秒的非电离辐射处理；在本实施例中，第三类种子中包括栾树种子，栾树种子的冷等离子体处理的条件为：在真空度为150Pa的真空环境中，245W的处理功率下对栾树种子进行22秒的非电离辐射处理。当然，所述真空度可以在135Pa～160Pa中选择，处理功率可以在230W～260W中选择，处理时间可以在20～25秒中选择。
实施例六
一种冷等离子体处理植物种子的处理工艺，所述工艺的步骤中含有：
根据植物种子外壳的质地硬度选择冷等离子体处理的条件对相应的植物种子进行处理；其中，外壳质地超硬的植物种子为第三类种子，第三类种子的的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，220W～290W的处理功率下对第三类种子进行20～30秒的非电离辐射处理；在本实施例中，第三类种子中包括红栎种子，红栎种子的冷等离子体处理的条件为：在真空度为140Pa的真空环境中，265W的处理功率下对红栎种子进行25秒的非电离辐射处理。当然，所述真空度可以在135Pa～160Pa中选择，处理功率可以在220W～290W中选择，处理时间可以在20～30秒中选择。
以上实施例中，用5倍放大镜观测植物种子的外壳表面，并应用针的针尖触摸植物种子的外壳，判断植物种子的外壳质地是疏松、坚硬还是超硬状态。
以上六个实施例中经过冷等离子体处理后的种子和未处理的种子的性能如下表所示：
通过上表可知，经过等离子体处理以后的作物在发芽率、发芽势、增产、口感等方面都比未处理的表现的优秀。
以上所述的具体实施例，对本发明解决的技术问题、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施例而已，并不用于限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。