1.一种合成革用特雾特黑处理剂，其特征在于，包含以下组分：改性聚氨酯、乙酯、丁醚、甲苯、二氧化硅消光粉及分散剂。
2.根据权利要求1所述的合成革用特雾特黑处理剂，其特征在于，所述各组分的配比如下：改性聚氨酯33～35质量份，乙酯23～25质量份，丁醚19～21质量份，甲苯16～18质量份，二氧化硅消光粉3～5质量份，分散剂0～1质量份。
3.根据权利要求2所述的合成革用特雾特黑处理剂，其特征在于，所述各组分的配比如下：改性聚氨酯33质量份，乙酯23质量份，丁醚21质量份，甲苯18质量份，二氧化硅消光粉5质量份，分散剂0质量份。
4.根据权利要求2所述的合成革用特雾特黑处理剂，其特征在于，所述各组分的配比如下：改性聚氨酯35质量份，乙酯25质量份，丁醚19质量份，甲苯16质量份，二氧化硅消光粉4质量份，分散剂1质量份。
5.根据权利要求2所述的合成革用特雾特黑处理剂，其特征在于，所述各组分的配比如下：改性聚氨酯34质量份，乙酯24质量份，丁醚20质量份，甲苯17质量份，二氧化硅消光粉4质量份，分散剂1质量份。
6.权利要求1所述的合成革用特雾特黑处理剂的制备方法，其特征在于，包含以下步骤：
1)将配方中的一部分改性聚氨酯、乙酯、丁醚、甲苯、二氧化硅消光粉及分散剂搅拌均匀后研磨；
2)在步骤1)得到的混合物中加入另一部分改性聚氨酯，均匀搅拌。
7.根据权利要求6所述的合成革用特雾特黑处理剂的制备方法，其特征在于，各组分的配比如下：改性聚氨酯33～35质量份，乙酯23～25质量份，丁醚19～21质量份，甲苯16～18质量份，二氧化硅消光粉3～5质量份，分散剂0～1质量份。
8.根据权利要求7所述的合成革用特雾特黑处理剂的制备方法，其特征在于，各组分的配比如下：改性聚氨酯33质量份，乙酯23质量份，丁醚21质量份，甲苯18质量份，二氧化硅消光粉5质量份，分散剂0质量份。
9.根据权利要求7所述的合成革用特雾特黑处理剂的制备方法，其特征在于，各组分的配比如下：改性聚氨酯35质量份，乙酯25质量份，丁醚19质量份，甲苯16质量份，二氧化硅消光粉4质量份，分散剂1质量份。
10.根据权利要求7所述的合成革用特雾特黑处理剂的制备方法，其特征在于，各组分的配比如下：改性聚氨酯34质量份，乙酯24质量份，丁醚20质量份，甲苯17质量份，二氧化硅消光粉4质量份，分散剂1质量份。