专利名称：可异地加工的双银低辐射玻璃的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种镀膜玻璃，特别是涉及一种可异地加工的双银低辐射玻璃。
背景技术：
双银低辐射镀膜玻璃是通过磁控真空溅射的方法，在优质浮法玻璃表面均勻地镀 制包括两层银在内的多层金属或金属氧化物(氮化物)的膜系产品，极大地降低了玻璃表 面辐射率，并提高了玻璃对光谱的选择性。在任何气候环境下使用，均能达到控制阳光、节 约能源、热量控制调节及改善环境。同时无论室内外温差有多少，只要装上低辐射玻璃，夏 天防热能入室，冬天防热能泄露，具双向节能效果，这样室内花很少的空调费用便可永远维 持冬暖夏凉的境地。目前市场上所使用的双银低辐射镀膜玻璃多为传统的生产方式，只能采用先钢化 后镀膜的生产方式，但是采用此种生产方式制造成本昂贵，小型玻璃加工企业无法承受，且 生产出的双银低辐射镀膜玻璃均勻性不好，边缘效应严重，不能承受长途运输，易损坏。
实用新型内容为了解决现有技术中生产普通双银低辐射镀膜玻璃成本昂贵，玻璃均勻性不好， 边缘效应严重，且只能采用先钢化后镀膜的生产方式，不能承受长途运输易损坏的问题，本 实用新型提供了 一种质量可靠、具有较好隔热保温效果的可异地加工的双银低辐射玻璃。为了达到上述目的，本实用新型所采取的技术方案是一种可异地加工的双银低辐射玻璃，包括浮法玻璃，其特征在于自浮法玻璃向外 依次包括电介质层1、电介质层2、保护层1、Ag层1、保护层2、隔层电介质层、保护层3、Ag 层2、保护层4、电介质层3、电介质层4。前述的一种可异地加工的双银低辐射玻璃，其特征在于所述电介质层1、电介质 层2、隔层电介质层、电介质层3、电介质层4使用双旋转阴极、中频磁控溅射靶，溅射条件 是背景真空度在10_6mbar条件下，充入Ar和反应气体(O2或N2)的混合气体，然后真空度 保持在10_3mb范围内。前述的一种可异地加工的双银低辐射玻璃，其特征在于所述保护层1、保护层2、 保护层3、保护层4使用平面阴极靶，溅射条件是背景真空度在10_6mbar条件下，充入Ar 或Ar与反映气体( 或N2)的混合气体，然后真空度保持在10_3mbar范围内。前述的一种可异地加工的双银低辐射玻璃，其特征在于所述的Ag层l、Ag层2使 用平面阴极靶，溅射条件是背景真空度在10_6mbar条件下，充入Ar或Ar与少量仏的混合 气体，然后真空度保持在10_3mbar范围内。本实用新型的有益效果是本实用新型提供了一种可异地加工的双银低辐射玻 璃，可实现先镀膜再进行改切、磨边、钢化等后续加工。在膜层中含有两层具有反射红外线 能力的银层和具有减少可见光反射以及保护银层作用的电介质层、隔层电介质层，极大地 降低了玻璃表面辐射率，起到了较好的隔热保温效果，同时也提高了整个玻璃的强度，抗氧化性能更好，能够承受长途运输，生产成本较低。
图1是本实用新型可异地加工的双银低辐射玻璃的结构示意图；图2是本实用新型一实施例的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步的描述。如图1所示，自浮法玻璃向外依次包括电介质层1、电介质层2、保护层l、Ag层1、 保护层2、隔层电介质层、保护层3、Ag层2、保护层4、电介质层3、电介质层4。如图2所示，本实用新型提供的可异地加工的双银低辐射玻璃的一个实施例，其 中，GLASS指新鲜透明的优质浮法玻璃，所述电介质层1是Si3N4，电介质层2是TiO2,保护层 1是NiCrOx，Ag层1是Ag，保护层2是NiCrOx，隔层电介质层是SnO2,保护层3是NiCrOx， Ag层2是Ag，保护层4是NiCrOx，电介质层3是SiSnO3,电介质层4是Si3N4。且电介质层1的Si3N4的膜层厚度为6nm 7nm，电介质层2的TW2的膜层厚度 为27nm 38nm，保护层1的NiCrOx的膜层厚度为1. Onm 1. 5nm, Ag层1的膜层厚度为 Ilnm 12nm，保护层2的NiCrOx的膜层厚度为1. Onm 1. 5nm,隔层电介质层Sr^2的膜 层厚度为73. 5nm 75nm，保护层3的NiCrOx的膜层厚度为1. Onm 1. 5nm, Ag层2的膜 层厚度为15nm 16nm，保护层4的NiCrOx的膜层厚度为1. Onm 1. 5nm,电介质层3的 ZnSn03的膜层厚度为Ilnm 12nm，电介质层4的Si3N4的膜层厚度为30nm 31歷。上述膜层的加工工艺为所有Si3N4膜层采用双阴极旋转靶在中频电源下溅射，工艺气体为Ar和N2的混合 气体，溅射功率为20kw lOOkw，中频电源频率为20kHz 50kHz。TiO2膜层采用双阴极旋转靶在中频电源下溅射，工艺气体为Ar和仏的混合气体， 溅射功率为20kw 100kw，中频电源频率为IOkHz 50kHz。ZnSnO3^ SnO2膜层采用双阴极旋转靶在中频电源下溅射，工艺气体为Ar和仏的混 合气体.溅射功率为IOkw 100kw，中频电源频率为20kHz 50kHz。所有NiCrOx膜层采用平面阴极在直流电源下溅射，工艺气体为Ar和O2的混合气 体.溅射功率为3. 5kw 7kw。所有Ag膜层采用平面阴极在直流电源下溅射，工艺气体为Ar，溅射功率为5kw 10kw。以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行 业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述 的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还 会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型 要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
权利要求1.一种可异地加工的双银低辐射玻璃，包括浮法玻璃，其特征在于自浮法玻璃向外 依次包括电介质层(1)、电介质层O)、保护层(1) jg层(1)、保护层O)、隔层电介质层、保 护层⑶、Ag层(2)、保护层(4)、电介质层(3)、电介质层(4)。
2.根据权利要求1所述的一种可异地加工的双银低辐射玻璃，其特征在于所述电介 质层(1)、电介质层O)、隔层电介质层、电介质层(3)、电介质层(4)使用双旋转阴极、中频 磁控溅射靶。
3.根据权利要求1所述的一种可异地加工的双银低辐射玻璃，其特征在于所述保护 层(1)、保护层O)、保护层(3)、保护层(4)使用平面阴极靶。
4.根据权利要求1所述的一种可异地加工的双银低辐射玻璃，其特征在于所述的Ag 层(l)、Ag层(2)使用平面阴极靶。
专利摘要本实用新型公开了一种可异地加工的双银低辐射玻璃，包括浮法玻璃，其特征在于自浮法玻璃向外依次包括电介质层(1)、电介质层(2)、保护层(1)、Ag层(1)、保护层(2)、隔层电介质层、保护层(3)、Ag层(2)、保护层(4)、电介质层(3)、电介质层(4)。本实用新型解决了现有技术中生产普通双银低辐射镀膜玻璃成本昂贵，玻璃均匀性不好，边缘效应严重，且只能采用先钢化后镀膜的生产方式，不能承受长途运输，易损坏的问题，本实用新型提供了一种质量可靠、具有较好隔热保温效果的可异地加工的双银低辐射玻璃。
文档编号C03C17/36GK201817402SQ20102027116
公开日2011年5月4日 申请日期2010年7月26日 优先权日2010年7月26日
发明者林嘉宏 申请人:林嘉宏