专利名称：可钢化低辐射玻璃的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种镀膜玻璃，尤其是涉及一种使用新型材料的高性能可钢化低 辐射玻璃。
背景技术：
目前市场上生产的可钢化低辐射镀膜玻璃产品，为了能保证镀膜后加工(切割、洗 磨、钢化或者热弯)的成品率，通常采用减少银层厚度或者增加保护层厚度的方法来提高产 品的耐磨擦、抗氧化性能，这样直接导致了产品的辐射率(E值)偏高，其E值接近国标上限 0. 15，可见光透过率偏低，制约了产品的热工性能，在通常情况下，可钢低辐射镀膜玻璃性 能不如普通低辐射镀膜玻璃，而有些厂家为了生产出高可见光透过率的产品，不惜采用贴 膜的方法来提高成品率，从而导致生产成本的增加。
发明内容为了克服现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种成本低、辐射率低、可 见光透过率高的可钢化低辐射玻璃。本实用新型是通过以下技术方案来实现的一种可钢化低辐射玻璃，包括浮法玻璃和镀膜层，其特征在于，镀膜层包括以浮法 玻璃为基础层向外依次镀覆的第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、Ag层、保护层、 第四电介质层和第五电介质层。其中第一电介质层和第五电介质层的材料为Si3N4 ；第二电介质层的材料为Nb2O5 ；第三电介质层的材料为ΖηΑΙΟχ ；第四电介质层的材料为ZnSn03 ；而保护层的材料为NiCrOx。本实用新型的有益效果是本实用新型通过在膜层中镀覆一层具有红外线反射能 力的银层和具有减少可见光反射以及保护银层作用的电介质层，特别是在浮法玻璃上镀上 一层使用新型材料的电介质层，以及部分氧化的金属保护层，使得本实用新型能够在长途 运输、切割、洗磨等加工预处理，甚至经钢化、热弯等高温处理时，其外观和性能均不会受到 影响，并且辐射率E值可以低、可见光透过率高，遮阳系数低，并且能保证产品具有很好的 耐摩擦和抗氧化性能，从而保证镀膜后的切割、洗磨、钢化或者热弯等加工的成品率。
图1为本实用新型一实施例的结构示意图。图中主要附图标记含义为1、浮法玻璃2、第一电介质层 3、第二电介质层4、第三电介质层5、Ag层6、保护层[0016]7、第四电介质层8、第三电介质层。
具体实施方式
下面将结合附图，详细说明本实用新型的具体实施方式
图1为本实用新型一实施例的结构示意图。如图1所示可钢化低辐射玻璃，包括浮法玻璃和镀膜层，镀膜层包括以浮法玻璃 1为基础层向外依次镀覆的第一电介质层2、第二电介质层3、第三电介质层4、Ag层5、保护 层6、第四电介质层7和第五电介质层8。其中第一电介质层2和第五电介质层8的材料为Si3N4 ；第二电介质层3的材料为 Nb2O5 ；第三电介质层4的材料为ΖηΑΙΟχ ；第四电介质层的材料为ZnSn037 ；而保护层6的材 料为 NiCrOx。此外，本实用新型的生产工艺为首先选用新鲜的浮法玻璃1，然后通过清洗机清 洗达到要求后，按顺序依次镀制第一电介质层2、第二电介质层3、第三电介质层4、Ag层5、 保护层6、第四电介质层7和第五电介质层8，最后经喷塑胶粉粒处理后用PE布密封包装。更为具体的是其中的第一电介质层2和第五电介质层8是通过旋转交流阴极的 硅铝靶在氮、氩氛围中溅射，其中Si:Al=98:2，其作用为a、阻止玻璃中的Na+向膜层中渗 透；b、保证产品经过热处理后颜色及性能不会受到影响；C、增加膜层和玻璃基片之间的吸 附力；第二电介质层3通过旋转交流阴极的氧化铌靶在氧、氩氛围中溅射，作用是a、增 加膜层之间的结合力；b、使膜层能更好的和Ag层结合，并保护Ag层不被氧化；第三电解质层4通过旋转交流阴极的锌铝靶在氮、氩氛围中溅射，其中 Ζη:Α1=98:2，作用是a、对银层起铺垫作用，银层在其上可以更好地成膜；b、保护银层不被 氧化；而银层5则通过直流平面阴极的银靶在氩气氛围中溅射，作用是功能层反射红 外线；此外，保护层6通过直流平面阴极MCr合金靶在氧氩氛围中溅射，其中 Ni: Cr=SO: 20，作用是保护银层不被氧化；第四电介质层7通过旋转交流阴极的锌锡合金靶在氧氩氛围中溅射，其中 Zn:Sn=50:50，作用是a、保护整个膜层结构，减少氧化，提高物理和化学性能；b、控制膜系 的光学性能和颜色。本实用新型的生产工艺简单，降低了生产成本，辐射率E值低、可见光透过率高， 遮阳系数低，并且能保证产品具有很好的耐摩擦和抗氧化性能，从而保证镀膜后的切割、洗 磨、钢化或者热弯等加工的成品率。以上已以较佳实施例公开了本实用新型，然其并非用以限制本实用新型，凡采用 等同替换或者等效变换方式所获得的技术方案，均落在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种可钢化低辐射玻璃，包括浮法玻璃和镀膜层，其特征在于，镀膜层包括以浮法玻 璃为基础层向外依次镀覆的第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、Ag层、保护层、第 四电介质层和第五电介质层。
2.根据权利要求1所述的可钢化低辐射玻璃，其特征在于，所述的第一电介质层和第 五电介质层的材料为Si3N4。
3.根据权利要求1所述的可钢化低辐射玻璃，其特征在于，所述的第二电介质层的材 料为Nb205。
4.根据权利要求1所述的可钢化低辐射玻璃，其特征在于，所述的第三电介质层的材 料为 ZnAlOx。
5.根据权利要求1所述的可钢化低辐射玻璃，其特征在于，所述的第四电介质层的材 料为 ZnSn03。
6.根据权利要求1所述的可钢化低辐射玻璃，其特征在于，所述的保护层的材料为 NiCrOx0
专利摘要本实用新型公开了一种可钢化低辐射玻璃，包括浮法玻璃和镀膜层，镀膜层包括以浮法玻璃为基础层向外依次镀覆的第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、Ag层、保护层、第四电介质层和第五电介质层。本实用新型通过在膜层中镀覆一层具有红外线反射能力的银层和可减少可见光反射及保护银层的电介质层，且在浮法玻璃上镀上一层新型材料的电介质层，以及部分氧化的金属保护层，使得本实用新型能够在长途运输、切割、洗磨等加工预处理，钢化、热弯等高温处理时，其外观和性能均不会受到影响，并且辐射率E值可以低、可见光透过率高，遮阳系数低，且能保证产品具有很好的耐摩擦和抗氧化性能，从而保证镀膜后的切割、洗磨、钢化或热弯等加工成品率。
文档编号C03C17/36GK201817407SQ201020545380
公开日2011年5月4日 申请日期2010年9月28日 优先权日2010年9月28日
发明者林嘉宏 申请人:林嘉宏