专利名称：锰锌铁氧体材料抗干扰磁环制造方法
技术领域：
本发明涉及一种抗干扰磁环的制造方法，具体涉及锰锌铁氧体材料抗干扰磁环制造方法。
背景技术：
铁氧体抗干扰环是近几年发展起来的新型抗干扰抑制器件，其作用相当于低通滤波器，较好地解决了电源线、信号线和连接器的高频干扰抑制问题，而且具有使用简单、方便、有效，占用空间不大等一系列优点，用铁氧体抗干扰磁环来抑制电磁干扰(EMI)是经济简便而有效的方法，已广泛用于计算机等各种军用或民用电子设备。铁氧体抗干扰磁环的材料主要有镍锌铁氧体和锰锌铁氧体两种材料，前者的高频特性优于后者。锰锌铁氧体的磁导率在几千-上万，而镍锌铁氧为几百-上千。铁氧体的磁导率越高，其低频时阻抗越大，高频时的阻抗越小。所以在高频干扰时，选用镍锌铁氧体； 反之则用锰锌铁氧体，或在同一束电缆上同时套上锰锌和镍锌铁氧体，这样可以抑制的干扰频段较宽(俗称宽频)。通常抗干扰磁环在高频(IMHz——100MHz)抗干扰状态使用的量很大，而低频状态 (IKHz——ΙΟΟΟΚΗζ)用量较小，前面已经阐述镍锌铁氧体材料具有高频抗干扰特性，因此在应用过程中镍锌铁氧体磁环的产量较大，而镍锌铁氧体它是由主要材料为三氧化二铁、氧化镍、氧化锌渗合通过一系列工艺过程制造而成，其中镍材料价格较高，通常在17-18万元每吨，所以镍材料生产的抗干扰磁环生产成本较高。
发明内容
本发明的目的是提供一种锰锌铁氧体材料抗干扰磁环制造方法，它改变了加工材料，制造工艺简单，大大降低了生产成本，不会影响产品的抗干扰性能。为了解决背景技术所存在的问题，本发明是采用以下技术方案它的配方组成为 三氧化二铁(Fe2O3) 60-68%、四氧化三锰(Mn3O4) 15-25 %、氧化锌(ZnO) 10-16 %、氧化铜 (CuO)0. 5-1. 6%、三氧化二钴(Co2O3)O. 5-1. 5%。它的制备工艺为配料一干式强混一造球一预烧一粗粉碎一砂磨一喷雾干燥造粒 —成形一烧结一磨加工一检测。本发明改变了加工材料，制造工艺简单，大大降低了生产成本，不会影响产品的抗干扰性能。
具体实施例方式本具体实施方式
采用以下技术方案它的配方组成为三氧化二铁 O^e2O3) 64.2%、四氧化三猛(Mn3O4) 20. 5%、氧化锌(ZnO) 13. 2 %、氧化铜(CuO) 1. 1%、三氧化二钴(Co2O3) 1 %。它的制备工艺为配料一干式强混一造球一预烧一粗粉碎一砂磨一喷雾干燥造粒
3—成形一烧结一磨加工一检测。所述的三氧化二铁别名磁性氧化铁红、高导磁率氧化铁、烧褐铁矿、烧赭上、铁丹、 铁粉、红粉、威尼斯红(主要成分为氧化铁)，三氧化二铁化学式!^e2O3，溶于盐酸，为红棕色粉末。其红棕色粉末为一种低级颜料，工业上称氧化铁红，用于油漆、油墨、橡胶等工业中， 可做催化剂，玻璃、宝石、金属的抛光剂，可用作炼铁原料。所述的四氧化三锰主要用于电子工业生产软磁铁氧体，用作电子计算机中存储信息的磁芯、磁盘和磁带，电话用变压器和商品质电感器，电视回归变压器，磁头，电感器，磁放大器，饱和电感器，天线棒等，还可用作某些油漆或涂料的颜料。所述的氧化锌俗称锌白，是锌的一种氧化物，难溶于水，可溶于酸和强碱。氧化锌是一种常用的化学添加剂，广泛地应用于塑料、硅酸盐制品、合成橡胶、润滑油、油漆涂料、 药膏、粘合剂、食品、电池、阻燃剂等产品的制作中。氧化锌的能带隙和激子束缚能较大，透明度高，有优异的常温发光性能，在半导体领域的液晶显示器、薄膜晶体管、发光二极管等产品中均有应用。此外，微颗粒的氧化锌作为一种纳米材料也开始在相关领域发挥作用。所述的氧化铜是一种铜的黑色略显两性，氧化物，稍有吸湿性。相对分子质量为 79. 545，密度为6.3-6. 9g/cm，熔点13 °C。不溶于水和乙醇，溶于酸、氯化铵及氰化钾溶液，氨溶液中缓慢溶解。可用于气体分析中测定碳、有机反应催化剂、制造人造丝和其他铜化合物、光学玻璃发光剂、作为色料用于人造宝石、有色玻璃、陶瓷釉彩。所述的三氧化二钴为深棕色或灰黑色结晶粉末，不溶于水和醇，用作颜料、釉料、 氧化催化剂、分析试剂，也用于从镍中分离钴，用于制取钴和不含镍的钴盐。本具体实施方式
改变了加工材料，制造工艺简单，大大降低了生产成本，不会影响产品的抗干扰性能。
权利要求
1.锰锌铁氧体材料抗干扰磁环制造方法，其特征在于它的配方组成为三氧化二铁 60-68%、四氧化三锰15-25%、氧化锌10-16%、氧化铜0. 5-1. 6%、三氧化二钴0. 5-1. 5%0
2.根据权利要求1所述的锰锌铁氧体材料抗干扰磁环制造方法，其特征在于它的制备工艺为配料一干式强混一造球一预烧一粗粉碎一砂磨一喷雾干燥造粒一成形一烧结一磨加工一检测。
全文摘要
锰锌铁氧体材料抗干扰磁环制造方法，它涉及一种抗干扰磁环的制造方法。它的配方组成为三氧化二铁60-68％、四氧化三锰15-25％、氧化锌10-16％、氧化铜0.5-1.6％、三氧化二钴0.5-1.5％；它的制备工艺为配料→干式强混→造球→预烧→粗粉碎→砂磨→喷雾干燥造粒→成形→烧结→磨加工→检测。它改变了加工材料，制造工艺简单，大大降低了生产成本，不会影响产品的抗干扰性能。
文档编号C04B35/26GK102424571SQ20111025642
公开日2012年4月25日 申请日期2011年9月1日 优先权日2011年9月1日
发明者杨美华 申请人:南通华兴磁性材料有限公司