本实用新型涉及自动化设备领域，尤其涉及一种可控力摆臂吸取装置。
背景技术：
摆臂吸取装置一般用于晶元的吸取，所以对于接触力的大小精度要求较高，不同大小的晶元对于受力的大小又差异较大，所以一种摆臂往往只能针对一种晶元，这样直接就增加了机构成本,所以需要一种能够有较大兼容性的摆臂吸取机构。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于克服上述现有技术的问题，提供了一种可控力摆臂吸取装置，通过可调节电流的电磁铁来实现精度到0.01N的接触力，通过可调节螺母来调节弹簧实现不同范围的力的变化，两者结合便可实现在不同的、高精度的受力条件下的变化。
上述目的是通过以下技术方案来实现：
一种可控力摆臂吸取装置，包括摆臂、螺纹杆和底座，所述摆臂包括前臂、支点和后臂，所述后臂嵌设于所述底座中；还包括连接块，在所述连接块上设置有螺纹杆通孔和触电连杆通孔，螺纹杆一端穿过所述螺纹杆通孔并与所述后臂垂直固定，在所述螺纹杆的另一端套设有弹簧，并通过调节螺母进行限位；正极触电连杆穿过所述触电连杆通孔，与设置于所述后臂上的负极触点连杆向匹配；所述连接块与所述底座的上表面固定。
进一步地，在所述后臂上还安装有平头螺钉，与所述平头螺钉对应的底座上端安装有电磁铁。
进一步地，所述电磁铁的底部与所述平头螺钉的顶部之间有1mm-3mm的间隙。
进一步地，在所述底座靠近所述支点的位置设置有斜坡，所述斜坡角度为5-15度。
进一步地，在所述支点与所述底座连接处的底部设置有垫片，所述垫片通过摆臂固定片与所述支点底部固定，所述垫片通过底座固定片与所述底座固定。
有益效果
本实用新型所述一种可控力摆臂吸取装置，通过可调节电流的电磁铁来实现精度到0.01N的接触力，通过可调节螺母来调节弹簧实现不同范围的力的变化，两者结合便可实现在不同的、高精度的受力条件下的变化。本装置不仅结构简单，成本低，而且安装方便，兼容性强，工作效率高。
附图说明
图1为本实用新型所述一种可控力摆臂吸取装置的主视图；
图2为本实用新型所述一种可控力摆臂吸取装置的内部结构示意图；
图3为本实用新型所述一种可控力摆臂吸取装置的俯视图；
图4为本实用新型所述一种可控力摆臂吸取装置的仰视图。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型实施例作详细说明。
如图1-图4所示，一种可控力摆臂吸取装置，包括摆臂1、螺纹杆3和底座2，所述摆臂1包括前臂1-1、支点1-2和后臂1-3，所述后臂1-3嵌设于所述底座2中；还包括连接块8，在所述连接块8上设置有螺纹杆通孔和触电连杆通孔，螺纹杆3一端穿过所述螺纹杆通孔并与所述后臂1-3垂直固定，在所述螺纹杆3的另一端套设有弹簧5，并通过调节螺母4进行限位；正极触电连杆6穿过所述触电连杆通孔，与设置于所述后臂1-3上的负极触点连杆7向匹配；所述连接块8与所述底座2的上表面固定。
作为本装置的一种改进，在所述后臂1-3上还安装有平头螺钉10，与所述平头螺钉10对应的底座2上端安装有电磁铁9。具体的，所述电磁铁9的底部与所述平头螺钉10的顶部之间有1mm-3mm的间隙。
在所述底座2靠近所述支点1-2的位置设置有斜坡，所述斜坡角度为5-15度。具体的，斜坡与支点1-2之间形成摆臂1的可活动角。
在所述支点1-2与所述底座2连接处的底部设置有垫片11，所述垫片11通过摆臂固定片12与所述支点1-2底部固定，所述垫片11通过底座固定片13与所述底座2固定。
工作原理：摆臂1的左边顶端为吸嘴和晶元接触的点，通过在摆臂1和底座2接触点底部处安装垫片11来形成旋转运动的支点（如图2和图4所示）。将平头螺钉10和螺纹杆3分别安装在摆臂1的后臂1-3处，在底座2与平头螺钉10对应位置处安装上电磁铁9，而调节螺母4压住弹簧5安装在螺纹杆3上以实现力范围的调节，两者力的总和便是接触所需要的预设力。整个装置安装在带有Z向运动的旋转摆臂机构上，正极触点连杆6安装在底座2上并连接有正极电压，对应的在后臂相同位置安装有负极触点连杆7并连接有负极电压，将正极触点连杆6负极触点连杆7与接通，当接触力大于预设力的瞬间，摆臂1以支点1-2旋转，此时，正极触点连杆6负极触点连杆7断开，Z向停止运动，从而实现接触力小于等于产品能承受的力的极限。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉该技术的人在本实用新型所揭露的技术范围内，均可想到的变化或替换都涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求保护的范围为准。