专利名称：一种光学膜的结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及的是一种光学膜的结构，特别是以PSA胶作为电磁波遮蔽(EMI)层与近红外线(NIR)吸收层间结合的黏着剂所成的结构。
背景技术：
习知的电浆平面显示器及阴极射线管显示器等发光装置的光学膜常见的设计考虑包括，因电磁波发射问题而有健康方面的疑虑，故其光学膜结构中具有类似金属网状构造以遮蔽电磁波；其次，当外界光线通过滤光片时，外界光线会反射至使用者的眼睛而产生目眩现象；再者，由于显示器装置所发出的光线图案必须符合高色纯度及亮度的要求等，因此，具有电磁波防护层(EMI)以及保持相关光学性能包括具抗反射或吸收近红外线的光学膜结构及制法，乃为业界持续研发的课题。
关于前述的具有EMI防护功能的光学膜，例如US 2,002,180,324公告专利，系揭示一种具有足够透光率的金属网目，其覆以透明树脂所构成的光学膜，特征在于使用透明树脂的组成而可维持光学膜的透光率，惟其仅揭示透光率而不包括其它抗反射或吸收近红外线的性能，且该电磁波防护层的制法仍嫌复杂。再者，习知技术对于具有EMI防护层的制法，主要步骤必须包括金属网目部分的透明化程序，否则无法提升光学膜的透射率及改良其雾度，而致产品整体的透射率降低；然而，该透明化程序关键在于透明化树脂的使用，务必须能精确掌控树脂的配方及操作条件，致研发及操作人力的需求也呈相对性增加。
本案申请人的先前专利，中国台湾专利公告第592,035号，揭示一种电磁波遮蔽层结构及制造方法。其中，结构包括一透明基材，具有第一面与第二面；以及一网状膜，具有第一面与第二面，该网状膜第一面涂布有一适当厚度的一感压胶，该网状膜第一面与该透明基材的第二面贴合。其制作方法包括将一网状膜贴合于一透明基材的表面上；以及在该网状膜与该透明基材贴合面相对的该网状膜表面上涂布一适当厚度的一感压胶。然而，前述专利中尚未揭示一种光学膜结构，其具有电磁波防护层以及保持相关光学性能，包括具抗反射或吸收近红外线的层膜。
发明内容
为了克服现有技术中的不足，本实用新型的目的是提供具有近红外线吸收(NIR)功能及电磁波辐射防护(EMI)功能的结构，其特征在于将习知结构中的电磁波遮蔽层与近红外线吸收层结合，利用近红外线吸收层的上且接近电磁波遮蔽层的网状金属面侧涂布PSA胶及脱泡处理，以达到透明化及降低雾度的光学性能。
为了实现上述目的，本实用新型提供一种光学膜结构，其特征在于至少包括一电磁波遮蔽层，其具透明基材面与网状金属面；以及一近红外线吸收层，其接近该电磁波遮蔽层的网状金属面侧涂布有一层黏着剂或接着剂而与该电磁波遮蔽层的网状金属面贴合。
本实用新型具有的优点将习知结构中的电磁波遮蔽层与近红外线吸收层结合，利用近红外线吸收层的上且接近电磁波遮蔽层的网状金属面侧涂布PSA胶及脱泡处理，以达到透明化及降低雾度的光学性能。同时相较习知技术的制程，已显著减少涂布步骤的工序，而该制程及条件的改善，不但获得简化膜层数量的功效，也使制作成质量均一且降低生产的成本。
图1为习知光学膜结构示意图；图2为本实用新型的光学膜结构示意图；图3为实施该本实用新型光学膜结构的制作流程图；图4为依据本实用新型完成贴合的光学膜结构进行的高压脱泡步骤及实施条件范例。
附图标记说明01-电磁波遮蔽层；02-感压胶；03-离型膜；04-玻璃基板；05-近红外线吸收层；06-PSA胶。
具体实施方式
有关本实用新型的技术内容及实施手段参照附图说明本实用新型的较佳实施例。第1图为习知光学膜结构示意图，该结构主要包括一电磁波遮蔽层01，其具有第一面与第二面；以及两片离型膜03，其涂布有一适当厚度的感压胶02，而分别与透明基板的第一面及第二面贴合。习知光学膜结构的制作方法，系先提供具有网状金属的透明基材；在该透明基材01的第一面及第二面侧涂布一适当厚度的一感压胶02，然后分别与离型膜03贴合。
第2图为本实用新型的光学膜结构示意图，第3图则为实施该光学膜结构的制作流程图。该结构主要包括一电磁波遮蔽层01，其具有透明基材面与网状金属面，该网状金属面系以黏着剂或接着剂而与该透明基材贴合，其中透明基材可为聚对苯二甲酸乙二酯(PET)材质或三醋酸纤维(TAC)，网状金属层可为铜金属网状层，黏着剂或接着剂可为PSA胶、UV胶或热融胶其中之一。以及一近红外线吸收层05，其接近该电磁波遮蔽层01的网状金属面侧涂布有一适当厚度的PSA胶06而与该电磁波遮蔽层01的网状金属面贴合。该结构更包括于电磁波遮蔽层01的透明基材面侧，另以黏着剂或接着剂而与玻璃基板04贴合。黏着剂或接着剂可为PSA胶或热融胶其中之一；或者为PSA胶、UV型态或热融型态其中之一。涂布的黏着层于贴合完成后，系经高压脱泡步骤而达到透明化，使其为透明的黏着层。
本实用新型光学膜结构的制作，系首先提供一具有铜丝织成网状的PET透明基材的电磁波遮蔽层01上，使该电磁波遮蔽层01的网状金属面与TOYOBO NIR(商品名)近红外线吸收层05贴合，在贴合之前该近红外线吸收层05已经涂布一层PSA胶06作为黏着剂。在完成上述贴合程序之后，即进行高压脱泡步骤，以将原有残留空气及气泡空间全数赶出，同时进行透明化步骤而可降低雾度，该其中高压脱泡步骤的操作条件及操作次数，可视脱泡情况而调整。例如第4图中显示依据本实用新型完成贴合的光学膜结构进行第一次的高压脱泡步骤，其设定条件为压力6.5kgf，温度65℃，及时间/批次20mins/25枚，其结果产生气泡在贴合处的上半部；经进行第二次的高压脱泡，其设定条件为压力6.5kgf，温度65℃，及时间/批次25mins/24枚，其结果产生气泡移向贴合处的中线部分；当进行第三次高压脱泡步骤的后，其结果为先前的气泡均被移除，而第三次的高压脱泡，其设定条件为压力7.0kgf，温度65℃，及时间/批次50mins/25枚。
比较上述本实用新型完成贴合的光学膜结构，于进行高压脱泡步骤前后的透明化及不透明化测试结果如表一；其中，类似光学膜构造的市售商品，被列为测试实验的对照组。测试结果如表一所示，本实用新型完成贴合的光学膜结构，在完成高压脱泡的后，其雾度值从49.9降至5.40；即使市售商品，经本实用新型的该高压脱泡步骤后，也会呈现相同效果。另外，本实用新型完成贴合的光学膜结构，无论在产品良率，亮度及其它光学性质的测试数据部份，也都符合客户端的需求，例如面板制造厂家的规格需求，然而，上述本实用新型的制作方法，相较习知技术的制程，已显著减少涂布步骤的工序，却仍保有原有结构中的各项光学特性，而该制程及条件的改善，不但获得简化膜层数量的功效，也使制作成质量均一且降低生产的成本。
虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本实用新型，任何熟悉本技艺的人士，在不脱离本实用新型的精神与范围内，当可做些许的更动与润饰，因此本实用新型的保护范围当视后附的申请专利范围所界定者为准。
表一本实用新型完成贴合的光学膜结构于进行高压脱泡步骤前后的透明化测试
注市售商品并未经本实用新型的高压脱泡步骤处理时，其雾度值约47.70；此处对市售商品进行本实用新型的高压脱泡步骤处理，系为说明本实用新型的手段亦可推及习知产品。
综上所述，仅为本实用新型的较佳实施例而已，当不能以的限定本发明所实施的范围。即大凡依本实用新型申请专利范围所作的均等变化与修饰，皆应仍属在本发明专利涵盖的范围内。
权利要求1.一种光学膜结构，其特征在于至少包括一电磁波遮蔽层，其具透明基材面与网状金属面；以及一近红外线吸收层，其接近该电磁波遮蔽层的网状金属面侧涂布有一层黏着剂或接着剂而与该电磁波遮蔽层的网状金属面贴合。
2.如权利要求1的光学膜结构，该电磁波遮蔽层的透明基材面侧另以黏着剂或接着剂而与玻璃基板贴合。
3.如权利要求1的光学膜结构，其特征在于，涂布的黏着剂或接着剂为PSA胶或热融胶其中之一。
4.如权利要求2的光学膜结构，其特征在于，黏着剂或接着剂可为PSA胶、UV型态或热融型态其中之一。
5.如权利要求1的光学膜结构，其特征在于，涂布的黏着层为透明的黏着层。
6.如权利要求1的光学膜结构，其特征在于，电磁波遮蔽层，至少包含一透明基材；以及一网状金属层，其系以黏着剂或接着剂而与该透明基材贴合。
7.如权利要求6的光学膜结构，其特征在于，透明基材可为聚对苯二甲酸乙二酯材质或三醋酸纤维。
8.如权利要求6的光学膜结构，其特征在于，网状金属层可为铜金属网状层。
9.如权利要求6的光学膜结构，其特征在于，黏着剂或接着剂可为PSA胶、UV胶或热融胶其中之一。
专利摘要本实用新型是一种光学膜结构，特别是以电磁波遮蔽(EMI)层与其它光学膜进行贴合的结构，其改进习知电磁波遮蔽层与其它光学膜结合时所发生透射率下降及雾度增加的缺点。本实用新型的光学膜结构，包括一电磁波遮蔽层，具有网状金属面及透明基材面；以及一近红外线吸收(NIR)层，其面侧涂布有一适当厚度的PSA胶而与该电磁波遮蔽(EMI层的网状金属面贴合；其中该涂布及经贴合后的PSA胶，经过高压脱泡步骤进行脱泡处理，藉此将原有残留空气及气泡空间全数赶出，并达到透明化的功效。
文档编号B32B33/00GK2929917SQ20052014279
公开日2007年8月1日 申请日期2005年12月23日 优先权日2005年12月23日
发明者徐月香, 彭盛昌, 王坤保, 钟伟明 申请人:力特光电科技股份有限公司