专利名称：：组合物、制品、其制造方法及用途的制作方法
技术领域：
：本发明涉及可成像组合物、平印版前体(在此指未成像印版，在一个表面上负载待成像的涂层)、其制造方法以及其在制作印版(在此指具有即可印刷的涂层的印版，其表示正片或者负片形式的待印刷的图像)中的用途。在此的印版通常指印刷版或可供选择的印刷表面。
背景技术：
：本发明探索改善平印版前体，尤其是阳图型平印版前体。这样的前体具有显影剂可溶的聚合物涂层。在传统的具有碱溶性聚合物如酚醛清漆树脂和重氮萘醌(NQD)部分作为涂层的阳图型平印版前体中，未曝光于紫外(UV)辐射的涂层区域在传统的碱性显影液中具有非常低的溶解率，因为NQD是很强的溶解抑制剂。这意味着其抑制一阻止或延迟一涂层在所述显影液中的溶解。涂层的曝光区域可能经历很多化学和物理变化(可包括体积、极性、构型、化学结构、反应热、氢键、和水解的任一种或全部)，这可能导致它们在碱性显影剂中的溶解速率发生剧烈变化。本发明的方法在曝光区域和未曝光区域之间提供巨大的加工反差，通常对于给定的曝光能量和显影条件，大于100:1。在许多热系统中(例如热计算机直接制版(CTP)正系统)，仅在曝光期间发生的变化是由(通常通过作用在涂层中的IR吸收剂上的IR激光)提供的热量导致的。该热量导致三级结构产生物理变化；例如导致氢键结构的破坏。这引起曝光区域和未曝光区域之间较低的加工反差，通常对于给定的曝光能量和显影条件为10-20:1。为了获得商业可行的阳图型印版前体，涂层的曝光区域在显影剂中的溶解速率必须相当高，并且加工反差应当期望是高的。在显影后必须保留足够的涂层用于印刷，而过量的涂层溶解显著縮短了加工用化学制品的寿命。这使得较高曝光水平的应用成为必要，以提供能量分解抗显影剂涂层。这限制了印刷机的生产率。因而，本发明的目的是用较低曝光水平达到相当的显影剂耐受性；或对相同曝光能量达到更好的显影剂耐受性。US5554664描述了一种包含阳离子(如定义的)和阴离子的能量可激活的盐，其可以是双或三(高度氟化的烷基磺酰基)甲基化物或者双或三(氟化芳基磺酰基)甲基化物。通过电子束、或UV或可见光辐射(约200nm-800nm)来成像。US6841333描述了具有氟化阴离子例如PF6'、SbF6'、CF3S03—、C4H9SCV、和C8HnS0r的光敏产酸剂。所述阴离子据称提供高酸强度和非常强的催化活性；给予快速的成像速度(在正型光刻胶中)和快速的固化速度(在负型光刻胶中)；并且是对环境无害的。通过电子束、离子束、X射线、远UV、深UV、中UV、近UV或可见光辐射来成像。US6358665描述了辐射敏感组合物，包含羟基苯乙烯树脂和产生氟化烷磺酸作为光敏产酸剂的鐵盐前体。所述光敏产酸剂是氟化烷磺酸的锍盐或鎗碘盐；阴离子为CF3CHFCF2S03^CF3CF2CF2CF2S(V。可以用金属卤素灯、碳弧灯、氙气灯和水银灯成像。GB1245924公开了热在酚醛树脂涂层以及许多其它聚合物涂层上的成像应用，以增加曝光区域中的涂层相对于未曝光区域中的溶解度。然而，描述NQDs和其它降低涂层在显影液中的溶解度的抑制剂的同时，需要大量曝光能量以使曝光区域可溶。US4708925描述了使用鐵盐以赋予酚醛树脂耐溶剂性。所述鑰盐抑制酚醛树脂涂层在显影剂中的溶解。然而，一旦曝光于红外辐射，该抑制作用丧失。在此情况下，通过在鐵阳离子上应用光敏酸阴离子(即潜在的布朗斯特德酸)而在曝光时释放酸有助于在相同量的曝光能量下使涂层的曝光区域更易溶于显影剂。该技术也能通过激光曝光后和显影前的加热，而后通过整片UV曝光和显影而用于负极板上。在该专利中，公开很多阴离子和阳离子。所述阴离子包括六氟磷酸根、全氟烷基锍、CF3COO—、SbF5—禾口BF"这两个专利的技术提议也都有与稳定性有关的问题，即当制备好涂层并迅速曝光后，其需要XmJ/cr^的曝光能量以达到最佳结果，但是当持续1周后，其需要YmJ/cm2，其中Y大于X。6Y值受几乎每种包括在酚醛树脂配方中的组分的影响，也受用于制备平印版前体的每个过程的影响。这使得印刷机几乎不可能设定印刷排版；基本上当Y显著大于X时，这两个专利的技术提议在商业上都不可行。US6461795和US6706466认识到该稳定性问题，描述了一种通过使涂覆前体经受至少4小时的40-9(TC的温和热处理来克服所述问题的方法。US5340699公开了鎿类化合物可用于用UV或IR辐射产生阳图型或阴图型印刷版。在该情况下，在显影之前正片曝光版能被直接用于或经受大量加热的过程，这导致由与可熔可溶酚醛树脂一起存在的鎗类潜在布朗斯特德酸产生的酸引起曝光区域的交联。也就是说，该过程全部是明暗相反的。相比能量要求，曝光前和曝光后的相对显影剂溶解性的限制也存在于这些系统中，并且在阳图型中，稳定性也是一个问题。为了阻遏曝光前对曝光后的加工反差和能量需求的问题，EP1024963A用有机硅聚合物作为涂层溶液组分，并提出当其干燥时，其转移至涂层的表面。人们认为，由于有机硅排斥水溶液，涂层的未曝光部分对显影液的耐受性增强。在涂层被加热的区域，表面被破坏，显影液能迅速进入大部分的涂层曝光区域。这使得形成具有与不用有机硅的参照类似的显影剂性能的涂层需要较低的能量，或者在相同的能量需求下具有更好的耐显影剂性能。然而，该技术的问题是，在所公开的液体组合物中负载高水平的有机硅聚合物(3-6%)下，有机硅在所述涂层中具有不稳定性效果。在所述文献中，需要注意的是聚合物涂层中的有机硅(例如通常用作流平和薄膜表面外观助剂(US4510227))通常的用量基本上小于1%。在EP1024963A的3-6%水平下，不相容性引起干燥涂层中的不均匀性，伴随着出现白斑、或涂覆空隙，我们相信这归因于由于有机硅聚合物的不对称分布而导致的区域受保护不足。另一个提出的针对反差和能量需求问题的解决方案是使用两层或更多层构成涂层，尤其是具有不同组成的层。在此，邻接或接近基底的下层应当具有比上层例如表面层或外层更高的显影剂溶解性，如US6153353和US6352812所描述。在这样的实施方案中，当涂层被正片曝光时，未曝光区域的整个涂层具有低溶解率，而在曝光区域，其以典型的速率显影。一旦成像的上层被溶解掉，在显影剂中具有非常高的溶解率的下层非常迅速地溶解。总之，曝光区域比未曝光区域显影快得多，相同能量的加工反差得到提高。然而，此方法存在一些重要的成本问题(资金和收入)。一是需要两个涂覆、干燥和检查机器，另一个是需要的人工操作增加，导致劳动成本增加。另一个问题是较高水平的涂层质量缺陷。涂层质量缺陷在任何涂覆操作中是不可避免的。例如，如果由单独涂层产生的碎片为3%(典型值)，两层系统则预期会增加至约6%。另外，这些基于正型酚醛树脂/环氧树脂涂层的系统随时间的稳定性不足。总之，有辐射敏感组合物的需求，当将其涂覆在基材上以形成平印版前体时，所述组合物具有当曝光于成像能量时具有非常高的显影剂溶解率的区域，而在未曝光于成像能量的区域中具有高的显影剂耐受性；而不显著增加实际需要的曝光能量(换句话说，不降低印版前体的"速度")。一个主要目的是改善"单层"涂层。然而，对由两层或更多层形成的涂层的改善也包括在内。
发明内容依据本发明的第一方面，提供一种包含聚合物的组合物，所述聚合物含有羟基，所述组合物适用作可IR成像的平版印刷前体的涂层，所述组合物包含一种或多种实施以下功能的试剂a)吸收波长大于800nm的IR辐射并因此产生热量；b)用作不溶剂，其在显影期间抑制所述涂层的非成像区域在显影剂中的溶解，但是允许成像区域的溶解；和c)提高对非成像区域的溶解的抑制和/或成像区域的溶解，以改善非成像/成像区域的溶解反差比(DCR);其中实施功能c)的试剂包含具有离子和优选疏水特征的部分。在该第一方面的优选组合物中，所述用作不溶剂的试剂在吸收IR辐射时不分解。优选这样的试剂，在辐射导致其丧失使不溶解的作用后，随着时间再恢复其使不溶解的作用。优选试剂吸收波长为805nm-1500nm，优选805-1250nm的辐射。所述羟基可包括直接在各自聚合物的骨架上的羟基。或者或另外，羟基可包括为较大侧基的一部分的羟基，例如羧基(-COOH)或其盐、或磺8酸基(-S03H)或醇(-CH2OH)或其混合物。优选成像后，聚合物在水中或在水溶液中可溶或可分散，溶液的pH超过5，优选超过7，最优选超过8.5。适合的聚合物是酚醛聚合物，例如可熔可溶酚醛树脂或酚醛清漆树脂；或聚乙烯基苯酚(例如羟基苯乙烯的均聚物或杂聚物)。最优选其为酚醛清漆树月旨。实施功能a)、b)和c)的试剂可以分别是单独的化合物，或者可以由一种化合物实施两个或三个这样的功能。因此，一种化合物可以实施功能a)和b);或者一种化合物可以实施功能a)和c);或者一种化合物可以实施功能b)和c)。或者一种混合物可以实施功能a)、b)和c)。实施功能a)、b)和c)的试剂可以是单独的化合物，或者可以是聚合物携带的可离解的侧基。原则上，实施功能a)、b)和c)的试剂可以全部是聚合物携带的。优选可成像平版印刷前体为印版前体、用于印刷的掩膜、或电子部件。我们己经发现，通过使用实施功能c)的试剂以改善DCR，我们得到关于在成像区域和非成像区域之间在显影剂中的溶解率方面优越的选择性，而达到所述差异(或"操作速度")所需的能量基本上不受损害。优选用液体显影剂实施成像，但是免处理操作原则上是可能的(例如在印版的情况下的在机显影)。优选组合物是阳图型。因此，在这样的实施方案中，我们得到关于在成像的可溶性区域和非成像的耐显影剂的区域(成像时使不溶解作用丧失)之间显影剂中的溶解率方面优越的选择性；而达到所述差异所需的能量不党fe告。本发明的优选组合物形成可在普通室内照明条件下进行操作而不受到破坏的涂层，所述室内照明条件包括环境自然光通过窗户照进室内和在标准洁净室照明下。优选不需要UV安全照明。本发明第一方面的组合物的期望的其它组分是乙酸酞酸纤维素(CAHPh)。CAHPh在赋予所述组合物对用于印刷的溶剂的耐受性，从而增加所述涂层在溶剂(包括侵蚀性溶剂)存在下的运转周期能力上是特别有用的。CAHPh对于使用硅氧垸来助长显影剂耐受性的现有组合物是期望的添加，但由于硅氧烷和CAHPh之间的物理不相容性该添加仅在有限的水平下。在本发明的组合物中，优选不存在硅氧垸。在这样的实施方案中，CAHPh能以较高的水平添加，例如2-10重量％，优选3-8%。现在将说明优选的试剂种类。通常疏水性能可以来自阳离子或阴离子、或来自两者。优选该试剂包含鑰阳离子或碳阳离子。鑰阳离子的实例包括碳鐺、铵、重氮盐、锍、氧化锍、磷鎗或碘鎿阳离子。碳阳离子的实例为碳正离子。碳正离子、铵、碘鐺和，尤其是磷鏠阳离子是优选的。鐺或碳正离子部分可以是聚合物的侧基，但是优选为一种或多种单独化合物的形式。鐺或碳正离子部分可以具有连接在无机中心(或在碳正离子的情况下的碳中心)上的烷基或芳基官能团。鎗阳离子优选实施上述不溶性功能b)。其为离子的，并可以是疏水的，并且也实施上述功能c)。在这样的实施方案中，其优选具有至少一种下列促进疏水方式-至少一个具有至少6个碳原子，优选6-24个碳原子，尤其是8-16个碳原子的疏水垸基(优选至少两个或至少三个或至少四个所述基团)；-至少一个具有至少1个碳原子，优选至少2个，优选1-12个，最优选2-8个碳原子的疏水氟化烷基(优选至少两个或至少三个或至少四个所述基团)；所述或每个氟化垸基优选为全氟化烷基。-至少一个疏水含硅基团，例如式SiJl2^—的甲硅烷基，其中每个R独立地为氢或CM烷基，n为l-8;禾口-至少一个芳基，尤其是苯基(优选至少两个或至少三个或至少四个芳基基团)，其任选被至少1、2或3个选自如下的疏水部分取代具有至多24个碳原子的垸基，其任选为疏水烷基(正如上所限定的)；氟原子；疏水氟化烷基(正如上所限定的)和疏水含硅基团(正如上所限定的)。优选的磷鎗阳离子可以具有下式10<formula>formulaseeoriginaldocumentpage11</formula>n表示O或1-5的整数;R1水.'表示氢原子或氟原子或垸基或d.12氟化烷基；和在具有超过一个R1的情况下它们可以相同或不同。m表示O或1-5的整数；^表示氢原子或氟原子或C,.24垸基或d.,2氟化烷基；和在具有超过一R2的情况下它们可以相同或不同。p表示0或1-5的整数；^表示氢原子或氟原子或C,-24烷基或Cw2氟化烷基；和在具有超过一W的情况下它们可以相同或不同。q为1-4的整数；S表示0或1-5的整数；禾口R"表示氢原子或氟原子或C,.24垸基或Cm2氣化院基；和在具有超过一,R"的情况下它们可以相同或不同。优选的烷基R1、112和113含有l-16个碳原子，优选1-12个碳原子。优选的氟化烷基R1、112和R3实质上全部被氟原子取代(即，R1、R2和R3优选为全氟烷基)。优选的氟化烷基为Cl8氣化院基，优选三氟甲基或全氟庚基。在一个优选实施方案中，n是5而每个R'是氢；或每个R'是氟；或每个R1是三氟甲基<水d4水在一个优选实施方案中，n是5而每个W是氢；或每个112是氟；或每W是三氟甲基。在一个优选实施方案中，n是5而每个Fe是氢；或每个113是氟；或每个RS是三氟甲基。在一个优选实施方案中，n、m和p全部是5而每个R1、E和W都是氢。在另一个优选实施方案中，n、m和p全部是5而每个R1、W和R都是氟。在另一个优选实施方案中，n、m和p全部是5而每个R1、112和113都是三氟甲基。在一个优选实施方案中，n是l而R'是全氟C4一8垸基，优选全氟庚基，优选连在P+原子的对位。在一个优选实施方案中，111是1而112是全氟<34.8烷基，优选全氟庚基，优选连在对位。在一个优选实施方案中，p是1而113是全氟(:4.8烷基，优选全氟庚基，优选连在对位。在一个优选实施方案中，n、m和p都是l，而R1、&和113都是全氟C^烷基，优选都是全氟庚基；各个氟化烷基优选连在对位。优选W是氟原子、Q.24垸基或Cw2氟化烷基。优选s为l、2或3。尤其优选R"是氟和三氟甲基。在一个尤其优选的实施方案中，s为1和R"是三氟甲基，该取代基在对位。适合的q为l-4的整数；尤其是l。一个尤其优选的疏水阳离子为(m，m-双(三氟甲基)节基)三苯基磷鏠。疏水磷鎿阳离子的其它实例包括如下12R=CF3,H甲硅烷化阳离子的实例包括如下:适当的阳离子可以为染料阳离子，如三芳基甲垸阳离子(例如结晶紫、FlexoBlue636或乙基紫的情况)；菁染料，例如产自FEWChemie的S0094或S0253;噻嗪染料，例如亚甲基蓝；或噁嗪染料，例如NileBlue。这些可以用上述方式进行疏水改性，例如通过将烷基官能度换成更长链的烷基官能度或氟化垸基官能度。例如，结晶紫具有三个二甲氨基官能度，而在它们的位置上具有三个二(三氟甲基)氨基官能度的类似但更疏水的染料材料能被制备。同样地，乙基紫具有三个二乙氨基，而在它们的位置上具有三个二(五氟乙基)氨基的类似但更疏水的染料材料能被制备。前面讨论了对阳离子可能的促进疏水改性，但是实际上，依据本发明，优选未改性的阳离子，优选对阴离子进行改性。优选用于本发明的未改性磷鐵阳离子的实例包括二苯基苄基磷鎿和，尤其是，三苯基苄基磷錄，和三芳基甲烷染料，特别是结晶紫。优选阴离子是pKa小于15，优选小于12，更优选小于9，最优选小于6的酸的共轭碱。优选阴离子是疏水性的，并因而可实施上述功能c)。优选其通过氟、硅、脂肪垸基或芳基官能性的存在而得到所述性质。在阴离子是疏水性的实施方案中，优选其具有至少一种下述促进疏水方式-至少一个具有至少6个碳原子，优选6-24个碳原子，尤其是8-16个碳原子的疏水烷基(优选至少两个或至少三个或至少四个所述基团)；-至少一个具有至少1个碳原子，优选至少2个，优选l-20个，最优选2-10个碳原子的疏水氟化烷基(优选至少两个或至少三个或至少四个所述基团)；所述氟化烷基优选为全氟垸基；-至少一个疏水含硅基团，例如硅氧烷基团或式为SinF^+r的甲硅烷基团，其中每个R独立地为氢或CM烷基，n为l-8;和-至少一个芳基，尤其是苯基(优选至少两个或至少三个或至少四个芳基)，其任选被至少l、2或3个选自如下的疏水部分取代具有至多24个碳原子的烷基，其任选为疏水垸基(正如上所限定的)；氟原子；疏水氟化烷基(正如上所限定的)和疏水含硅基团(正如上所限定的)。一个实例包括鎿盐或碳正离子的甲硅烷基反离子，例如<formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula>其中在第一个化合物中，每个R和R'独立地表示任选取代的C(l-20)烷基或任选取代的芳基(尤其是任选取代的苯基)，x是整数，和y是1-8的整数；和其中在第二和第三个化合物中，硅原子和磺酸基部分之间的链总共有1-20个碳原子，优选3-12个碳原子。优选任何阴离子，包括上述那些，可以用以下基团中的一种来封端-03S-、-02C-、-02S-、H2P04-、-HP03。适合的具有芳基的疏水阴离子的实例包括二甲苯磺酸根、均三甲苯磺酸根和，尤其是，甲苯磺酸根。在此所述和限定的特定阳离子和阴离子是新的并如下进一步限定为(1)具有新的或已知的阴离子和阳离子的化合物，其中所述阳离子具有-至少一个上面所限定的疏水垸基；-至少一个上面所限定的疏水氟化烷基；-至少一个上面所限定的疏水含硅基团；和-至少一个芳基，其任选被至少l、2或3个选自氟原子或垸基、氟化烷基或含硅基团的部分取代。在这样的实施方案中，所述阴离子可以是新的(如下所限定)或其自身可以是已知的；例如CF3COCT、SbF6-、BF4-、PF6\SbF6\CF3S03-、C8H17SCV、CF3CHFCF2S03，CF3CF2CF2CF2S03。优选的阳离子是氟化磷鐵阳离子，如氟化BnPh3P+，优选(二CF3)BnPh3P+。(2)具有新的或已知的阳离子和阴离子的化合物，其中所述阴离子具有-至少一个上面所限定疏水垸基；-至少一个上面所限定的疏水含硅基团；和-至少一个芳基，其任选被至少1、2或3个选自氟原子、或者上面所限定的烷基、氟化烷基或含硅基团的部分取代。传统上，在此应用的符号Bn表示苄基-CH2-Ph。在这样的实施方案中，所述阳离子可以是新的(如上所限定)或其本身可以是已知的；例如其可以是已知的磷鐵盐如(Ph)3BnP+、或(Ph)/或可以是三芳基甲烷染料，如结晶紫和乙基紫。令人感兴趣的新化合物可以包括磷鐺阳离子如(Ph)3BnP+，疏水改性的或传统的，具有通过氟、硅、脂肪垸基或芳基部分的存在而具有疏水性的垸基或芳基羧酸根或磺酸根阴离子，如上所限定。令人感兴趣的新化合物可以包括三芳基甲垸染料如结晶紫和乙基紫的盐，疏水改性的或传统的，具有通过氟、硅、脂肪垸基或芳基部分的存在而具有疏水性的羧酸根或磺酸根阴离子，如上所限定。新化合物代表本发明的第二方面。我们不要求下述化合物作为本发明的新化合物-在US5,554,664中更精确限定的氟化甲基化物或酰亚胺化合物，在此被更精确地定义。-在US6,841,333中更精确限定的具有嵌段烷烃-氟碳-磺酸根阴离子的化合物。-在US6,358,665中更精确限定的氟化烷磺酸的锍盐或碘鑰盐。然而，应当注意的是，由于在本发明中对所述化合物的应用不同于US5，554，664、US6，841,333和US6,358,665中所公开的，这样的应用被认为是本发明的一个方面。依据本发明的第三方面，提供一种制备第二方面所述的新化合物的方法。当化合物是鎿盐时，合适的反应是适宜在正常条件下进行的亲核取代。如下举例说明磷鐺盐的制备方法16方案1个rA,P、Ar方案2个「Ar,、ArAr个rAr111Ar'八YIV个r产P十-ArY-ArV阴离子A交换^ArIII7^T制备通式in的化合物的方法在方案1和2中进行了描述，其中-化合物I是三芳基膦或其任何稳定的盐。Ar是芳基或杂芳基；优选苯基、垸基取代的苯基、烷氧基取代的苯基、呋喃基、a-和卩-萘基。每个Ar可以相同或不同，并可以任选被任何上面限定的促进疏水部分所取代。-化合物II中的Ar'是芳基或杂芳基，与Ar相同或不同；优选苯基、烷基取代的苯基、垸氧基取代的苯基、羧苯基、烷氧基羰基苯基、a-和p-萘基。Ar'可以任选被任何上面限述的促进疏水部分所取代。-X是任何通常本领域技术人员用于亲核取代反应的离去基团。优选用于方案1中的方法的基团为OH、OAc、OOC(CF2)0-20CF3、O3S(CF2)0-20CF3。优选用于方案2中的方法的基团为F、Cl、Br、I、OH、OAc、d-Cso链烷磺酸酯基、苯磺酸酯基和单取代或多取代芳基磺酸酯基(特别包括被一个或多个下述优选基团取代CH3、N02、F、Cl、Br、I、O-烷基或其任意组合)。-Y是任何通常本领域技术人员用于亲核取代反应的离去基团。优选用于方案2中的方法的基团为F、Cl、Br、I、OH、OAc、C广C2。链烷磺酸酯基、苯磺酸酯基和单取代或多取代芳基磺酸酯基(特别包括被一个或多个下述优选基团取代CH3、N02、F、Cl、Br、I、O-烷基或其任意组合)。方案1的方法包括对本体或悬浮或溶解在适当的溶剂(例如二甲苯)中的I/II化学计量比为0.1-10的化合物I和II进行加热(例如在100-150°C下)1-24小时，任选在选自强质子酸(优选硫酸、硝酸、盐酸、氢溴酸、氢碘酸、三氟乙酸、C,-C20链垸磺酸、苯磺酸和单取代或多取代芳基磺酸(特别包括用一个或多个下述优选基团取代CH3、N02、F、Cl、Br、I、O-垸17基或其任意组合)、路易斯酸、沸石、酸性离子交换树脂的酸催化剂的存在或不存在下。微波和/或超声波可用于增加产率和减少反应时间。方案2的方法包括对本体或悬浮或溶解在适当的溶剂中的I/IV化学计量比为0.1-10的化合物I和IV进行加热1-24小时，任选在选自强质子酸(优选硫酸、硝酸、盐酸、氢溴酸、氢碘酸、三氟乙酸、C,-C2o链垸磺酸、苯磺酸和单取代或多取代芳基磺酸(特别包括用一个或多个下述优选基团取代CH3、N02、F、Cl、Br、I、O-垸基或其任意组合)、路易斯酸、沸石、酸性离子交换树脂的酸催化剂的存在或不存在下。微波和/或超声波可用于增加产率和减少反应时间。通过用于阴离子置换的常用系统处理V来实施化合物V到化合物III的转化。所述转化最好通过以下方式来实施用阴离子X—的适当盐的第二溶液从m的溶液中沉淀出III;或者用阴离子交换树脂处理V的溶液或悬浮液；或者将V的溶液流过离子交换树脂填充柱并随后洗脱期望的化合物III;或者用期望的阴离子X—的第二溶液分离V溶液来实施，后者溶液部分与第一溶液混溶，导致III被萃取到这两种溶液之一中。化合物III的回收通过蒸发或冷冻干燥相应的溶液或通过添加适当的低极性溶剂沉淀III而实施。通式V的化合物的制备的典型实例可以在下述参考中找到1)JOC1985，10872)J.Phys.Org.Chem.2005，9623)ICA2003,35，39所述方法可用于其它在此所述的鑰盐中。疏水改性的鎗阳离子可以通过由适当的可商购的前体化合物n或iv，例如可商购的(CF3)2Bn-Br开始应用上述方式而得到。依据本发明的第四方面，本发明提供一种涂覆的用于成像的平版印刷前体，其涂层通过施涂前述组合物到平版印刷基材上而形成。优选施涂组合物在溶剂中的溶液，并干燥以形成涂层。优选进行一次施涂，并干燥以形成均匀干燥涂层。然而，不排除一次施涂，并干燥以形成组分分离的非均匀干燥涂层；或者进行了两次或多次施涂。依据第五方面，本发明提供一种制造第二方面的前体的方法。我们已经发现对所述前体进行热处理作为其制造的一部分是有益的。对前体的稳定热处理本身是已知的。WO99/21715描述了一种热处理，其中对巻绕或堆叠的印版在适度温度例如40-9(TC下进行热处理较长的时间，例如至少4小时。然而，这存在的问题是在接近堆材或巻材的末端的性能可能很差，例如在顶部或底部，和在边缘区域。EP1074889A提出进行类似的热处理，但是在热处理期间抑制湿气从前体中除去的条件下。这在更大面积上优化了前体的性能。在EP1074889A中提及，这可能需要在提供相对湿度为至少25%，或绝对湿度为至少0.028的气氛的炉中进行热处理步骤。还提到优选在至少4(TC的温度下进行热处理。EP1074889A的方法被认为是有效的同时，其的确需要仔细和可靠的工艺控制并带来显著的资本成本。我们已经设计了一种可选的热处理，同样有效，而且实施简单，其对依据本发明的前体是有效的。因此，优选依据第四方面的前体经历包括如下阶段的热处理作为其制造的一部分第一阶段，其中将前体处于等于或超过参考温度的温度下和未超过20%的相对湿度和/或未超过0.025的绝对湿度下；和第二阶段，在第一阶段后，其中将前体处于低于参考温度的温度下和至少30%的相对湿度和/或至少0.032的绝对湿度下。在此限定的相对湿度是空气中存在的水蒸气的量，表示为相同温度下饱和所需要的量的百分数。在此限定的绝对湿度是在水蒸汽-空气混合物中水蒸气的质量对空气的质量的比率。所述参考温度优选为35-50°C，例如35'C、45°C、5(TC或，优选40。C。优选第一阶段持续至少4小时，优选至少8小时，优选至少12小时，最优选至少24小时。优选在整个第一阶段中都使前体处于等于或超过参考温度的温度下和限定的湿度条件下。优选第一阶段期间的温度可以达到35-70°C，优选45-65°C，最优选50-60°C;在任何情况下，都优选在参考温度之上。为结束第一阶段，使温度优选达到参考温度。这可通过停止供热的简单方法来实现。前体位于其中的炉是良好绝缘的，炉温可能需要至少1小时才能从优选的高温降至参19考温度，这是第一阶段和第二阶段间的转变点。在第一阶段过程中，在第一阶段持续时间的至少50%，和优选至少70%的时间，即在至少参考温度的温度下的时间期间中，温度优选为35-70°C，优选50-65。C，和最优选50-6(TC。当我们在此提到温度时，我们指前体或者前体堆材或巻材的平衡温度。在堆材或巻材的情况下，一旦位于堆材或巻材的中心区域的热电偶达到稳定态温度，等于炉温或堆材或巻材的周围区域的温度时，达到平衡温度。在第一阶段期间，优选不进行湿度的控制；或者控制湿度至相对湿度最大值为20%和/或绝对湿度最大值为0.025。在特定条件下，在第一阶段中，控制相对湿度至最大值为15%，适当地为10%，适当i也为5%。在特定条件下，在第一阶段中，控制相对湿度至最小值为5%，适当地为10%，适当地为15%。在特定条件下，在第一阶段中，控制绝对湿度至最大值为0.015，适当地为0.01，适当地为0.005。在特定条件下，在第一阶段中，控制绝对湿度至最小值为0.005，适当地为0.01，适当地为0.015。优选基本上在第二阶段开始时，湿度水平上升。控制相对湿度为至少30%，优选至少35%，和最优选至少38%。优选控制相对湿度不高于100%，优选不高于80%，优选不高于60%，优选不高于50%，和最优选不高于42%。优选在第二阶段期间，温度下降。一旦温度下降至参考温度以下，第二阶段就开始了。在优选实施方案中，随着供热被停止，炉及其内容物的温度下降，使温度自然下降；但是如果期望，可供给选定温度下的空气以进行可控的冷却。这在环境温度高于参考温度的情况下是特别有用的。在第二阶段中，使温度降至环境温度需要至少1小时，优选至少2小时，优选至少4小时，更优选至少12小时。优选第二阶段的持续时间为至少1小时，优选至少2小时，优选至少4小时，更优选至少8小时。其可以比降至环境温度需要的时间更长，因为甚至在已降至环境温度后，前体仍可能经受在参考温度以下的可控温度条件，或者在达到环境温度后仍留在炉中。然而，优选达到环境温度的前体就是热处理的终点。当有前体堆材或前体巻材时，优选当堆材或巻材达到环境温度时，或当堆材或巻材的所有部分都不高于环境温度l(TC时，或优选不高于环境温度5'C时，达到热处理的终点。优选在整个第二阶段期间，前体始终处于参考温度以下的温度，和所限定的湿度条件下。在热处理的终点，可以取出前体，并包装销售。在开始热处理时，温度必须从环境温度上升。从在环境温度下开始到达到参考温度的时间段可以认为是预备阶段。一旦达到参考温度，第一阶段开始。优选在整个第二阶段期间，都对湿度进行控制。优选同时对前体堆材进行热处理。合适的堆材包括至少100个，和通常至少500个经历热处理的前体。或者，对具有一些涂层的前体巻材进行热处理，之后切割成单独的前体。通常，这样的巻材具有至少20001112的可成像表面。尽管EP1074398A发明涉及在整个热处理过程中对湿度的控制，我们发觉这是不必要的。热处理的主要部分，我们称为第一阶段，能以非常普通的方式进行，不进行任何控制或者控制相对湿度达到20%和/或绝对湿度达到0.025。进行包层以作为防潮层是不需要的，优选不实施。如果进行包层，其优选不是防潮层而是简单的防尘层。可以合理地预期，在例如堆材或巻材的边缘区域将会有一些水分损失。然而，第二阶段期间对湿度的控制显示具有完全恢复的效果。以这种方式经受热处理的前体的性能是优越的。我们相信，不受理论的限制，尽管在第一阶段中，外围或暴露区域可能有脱水效果，第二阶段致使再水化。依据本发明的第六方面，本发明提供一种用于印刷的平印版前体，或一种用于蚀刻或用于掺杂的电子零件前体，其由对依据本发明第二方面的平印版前体或电子部件前体进行成像，以在涂层中形成潜像并对图像显影而得到，得到的成像印版或电子部件前体具有期望的残留涂层的图案。优选在成像后用显影剂对印版或电子部件前体显影。依据本发明的第七方面，本发明提供一种制造第五方面的平印版或电子部件前体的方法。21依据本发明的第八方面，本发明提供平印版前体在印刷中的用途，或电子部件前体在电子部件制造中的用途，每种情况下都是负载待成像的涂层的平版印刷基材，所述涂层通过在平版印刷基材上施涂并干燥包含聚合物的液体组合物而形成，所述组合物适用作IR可成像平版印刷前体的涂层，其包含一种或多种实施以下功能的试剂a)吸收波长超过800nm的IR辐射并因此产生热量；b)作为不溶剂，其抑制所述涂层的非成像区域在显影剂中的溶解，但是允许成像区域的溶解；和c)提高对非成像区域的溶解的抑制和/或成像区域的溶解，以提高非成像/成像区域的溶解比；其中试剂c)包含具有疏水和离子特征的部分；使平版印刷前体经受波长超过800nm的成像用IR辐射，而后在显影剂中选择性地去除接受辐射的区域或未接受辐射的区域；而后进行施涂或处理步骤；在平印版前体的情况下，所述施涂或处理步骤是供给印刷油墨，所述油墨聚集在去除区域或者未去除区域；在电子部件前体的情况下，所述施涂或处理步骤是蚀刻或掺杂步骤。依据本发明的第九方面，本发明提供一种或多种实施以下功能的试剂在包含聚合物的可成像涂料中的用途a)吸收波长超过800nm的IR辐射并因此产生热量；b)用作不溶剂，其抑制所述涂层的非成像区域在显影剂中的溶解，但是允许成像区域的溶解；和c)提高对非成像区域的溶解的抑制和/或成像区域的溶解，以提高非成像/成像区域的溶解比率；其中试剂c)包含具有疏水和离子特征的部分。优选用于本发明任何方面的显影剂是显影剂水成液，优选碱性显影剂水成液。优选的碱性显影剂水成液包括偏硅酸钠溶液或偏硅酸钾溶液或偏硅酸钠/钾混合溶液。适当的是，偏硅酸钠和/或钾构成5-20重量％，优选8-15重量％的显影液。在偏硅酸钠/钾混合溶液中，偏硅酸钠优选多于偏硅酸钾(重量比)，其比例优选为1.5-2.5(w/w)，最优选1.8-2.2。根据需要，可以在组合物中添加表面活性剂，以得到印刷版需要的特征。使用表面活性剂以增强涂料在铝或聚酯载体上的施涂。可用的表面活性剂包括氟碳表面活性剂，如产自3MCorporation的FC-430或产自DuPont的ZonylNs;产自BASF的被称为Pluronic的环氧乙垸和环氧丙垸的嵌段聚合物；和聚硅氧垸表面活性剂，如产自BYKChemie的BYK377。这些表面活性剂在施涂到基材上的过程中改善涂料组合物外观，避免层上出现缺陷和空隙。表面活性剂的用量基于组合物中固体总重量为0.01-0.5重量％。优选用于此的碱性显影剂水成液含有甜菜碱表面活性剂，其含量优选占显影液的0.05-2重量％，更优选0.2-1%(活性甜菜碱含量)。甜菜碱表面活性剂是具有阳离子官能团如铵或磷鐺离子、或其它鐺离子和负电荷官能团如羧基的化合物。优选在此使用的甜菜碱具有脂肪烷基链。优选在此使用的甜菜碱为具有如下通式的水溶性化合物其中R,是具有10-20个碳原子，优选12-16个碳原子的烷基；或酰氨基:其中R是具有9-19个碳原子的烷基，a是l-4的整数；R2和R3各自为具有1-3个碳原子，优选1个碳原子的垸基；R4是具有1-4个碳原子和任选一个羟基的亚垸基或羟基亚垸基。垸基二甲基甜菜碱包括癸基二甲基甜菜碱、2-(N-癸基-N，N-二甲基-氨)乙酸盐、椰油二甲基甜菜碱、2-(N-椰油基N，N-二甲氨基)乙酸盐、肉豆蔻基二甲基甜菜碱、棕榈基二甲基甜菜碱、月桂基二甲基甜菜碱、十六垸基二甲基甜菜碱和十八烷基二甲基甜菜碱等。酰氨基甜菜碱包括椰油酰氨基乙基甜菜碱、椰油酰氨基丙基甜菜碱，椰油(C8-C18)酰氨基丙基二甲基甜菜碱等。优选在此使用的碱性显影剂水成液含有磷酸酯，其含量优选占显影液的0.2-5重量％，优选0.2-2%，尤其是0.3-1%(活性磷酸酯含量)。优选的磷酸酯包括芳族乙氧基化合物的碱金属磷酸盐、芳族乙氧基化合物、钾盐，23例如在售的产自Rhodia的RHODAFACH66。优选在此使用的碱性显影剂水成液含有螯合剂，尤其是螯合铝离子的螯合剂，其含量优选为0.1-5重量％，优选0.2-2重量％，尤其是0.3-1重量%(螯合剂的活性含量)。适合的螯合剂包括膦酸和膦酸盐，例如五亚乙基六胺八(亚甲基膦酸)的钠盐。用于本发明的尤其优选的碱性显影剂水成液本质上由在水中的7-9%偏硅酸钠、3.5-4.5%偏硅酸钾、0.2-1%甜菜碱表面活性剂、0.2-1%磷酸酯和0.2-1%螯合剂(所述为活性含量)组成。上面给出的定义适用于本发明的所有方面，除非另外陈述或除非上下文不允许。具体实施例方式本发明现在参照随后的实施例来进一步说明。实施例组1下面的化合物被用作在实施例组1中被测试的组合物中的DCR改进剂。<table>tableseeoriginaldocumentpage25</column></row><table>ASl、2......10分别含有DCR改进剂MSl、2......10。ASO禾HASl是对比例。EP3525是源自Asahi，Japan并由DKSHFranceS.A.分销的酚醛清漆树脂。LB744是源自HexibnSpecialityChemicalGmbH，Germany的甲酚醛树脂。S0094是源自FewChemicalGmbH，Germany的IR吸收花菁染料。S0253是源自FewChemical的IR吸收花菁染料。CV是结晶紫IR染料，也被称为甲基紫10B，其具有三(二甲氨基苯基)甲垸阳离子和氯阴离子，源自DKSH，France的SiberViolet。在溶剂DowanolPM(l-甲氧基-2-丙醇)/甲乙酮(90/10wt/wt混合物)中制备组合物，组合物在溶剂中的浓度为约15/100wt/wt。将组合物涂覆到平版印刷基材上，基材的一个实例由平版印刷级1050A铝通过以下过程而制备1)在4(TC下，在氢氧化钠溶液(24g/l)中脱脂20秒，而后冲洗，2)在30。C下，在乙酸(13g/l)和盐酸(7g/l)的混合物中电化学蚀刻40秒，而后冲洗，3)在54。C下，在磷酸(240g/l)中除去蚀刻金属20秒，而后冲洗，4)在32r下，在硫酸(240g/l)中进行阳极化40秒，而后冲洗和5)用含有磷酸二氢钠(44g/l)和氟化钠(0.5g/l)的溶液在70。C下处理阳极化基材30秒，而后冲洗。其一个实例通过l)用由UraiS.p.A.，Italy提供的来自Mayer的线绕刮条，2号刮条，制备，并在炉中(型号600，产自MemmertGmbH&Co.，Germany)ll(TC下干燥3分钟。干燥后的涂层重量为约1.5gm-2。在涂覆的8小时内对涂覆的测试基材测试其成像性能。对涂覆的测试基材用由DainipponScreenMfg.Co,Ltd.，Japan提供的PlateRite4100机器，用700rpm的速度和约808nm的波长进行成像。在成像后，在由O.V.I.T.，Italy提供的Sirio85显影冲洗机中，在可商购的显影剂GOLDSTAR(KodakPolychromeGraphics的商标名)中以85mS/cm的显影剂活性值立即对它们进行显影。为了对比，测试包括基准商业印版ELECTRA(KodakPolychromeGraphics的商标名)——旧(12个月)和新(3个月)样品，每个情况下的组合物都依据EP825927B。然后对测试基材和ELECTRA产品进行如下三个性能的测试26涂层损失显影时，使用显像密度计(型号VIPLATE115VIPTRONIC;供应商TecnologieGrafiche,Italy)。在版的非成像部分上划一个圈，读取并记录密度一这被称为D-初始。曝光和显影后，重新测量相同的区域(D-最终)，计算D-初始与D-最终间的差并记录一此数字被表示为A。实践中，对每个样品进行三次所述测量，使用平均值以使实验误差最小化。版上的清洁基材的密度也被记录为D-基材。涂层损失百分数现在通过下式给出(D-初始_D-最终)x100=A》(D-初始—D-基材)实践中，显影时间、温度或显影剂浓度可以变化，这个测试是显示涂层对更具侵蚀性的显影条件的耐受性如何。实际值依据配方组合物，尤其是树脂混合物的选择，而在所有情况下都是A。/。越低越好。光学点由一系列强度曝光(例如808rpm下，以5%的增量从40%光强增至100%光强)，这是不同宽度(几十微米级)的平行线组肉眼显示具有相同密度的能量。在曝光能量高于此时，较细的线显得比光学点更暗，而在曝光能量低于光学点时，较宽的线显得更暗。在这点，50%棋盘格读取大约48%。该值由曝光和处理的版通过肉眼用放大镜简单读取。澄清点澄清点也由一系列强度曝光试验(见上)读取，但是在这个情况下，评价的是趋于含有0%点(完全曝光)的区域。在低能量下，涂层尚未接收足够的能量以完全曝光，因而保留未显影涂层的黑暗。在光学点，基材是透明的，透明被定义为具有比清洁基材高O.01密度单位的密度。澄清点是产生<0.01单位的背景密度的最低曝光能量，比光学点低至少25%光强。这被称为密度澄清点(DCP)。澄清点在实践中上是重要的，以使版能适应比通常情况侵蚀性更小的显影时间、温度和显影剂强度的变化。值越低，版的耐受性越强。一个可选的、更主观的方法是，将一滴丙酮滴到100%曝光而后显影的版上，寻找由于任何的残留物导致的有色环。所述视觉澄清点(VCP)是最低的能量，此能量下溶剂导致的环是看不见的。该方法由于个人眼睛感受性和"阈值"以及照明而更主观。理想情况下，澄清点用显像密度计进行数字测定(DCP),然而，在一些情况下，例如在大幅版上或存在交叉网面基材不平整的情况，基材密度的变化可能足够大以掩蔽残留涂层或污点的水平。在这些情况下，使用更主观的视觉澄清点(VCP)方法。结果如下。样品光学点△(%)澄清点(DCP)/%Electra(旧)1005.470Electra(新)906.3050AS0857.145AS11005.280AS292.54.565AS3905.160AS41004.365AS592.54.470AS61004.170AS797.53.667.5AS1095665Electra实例、AS0和AS1是为了对比，而不是本发明的一部分。AS0表明显影后成像破坏的A。/。上是不可接受的，但澄清点和光学点很好。当我们添加抑制剂AS1以改善对显影剂的耐受性时，15%的光学点能量和35%的澄清点能量损失。可见，通过在样品AS2-AS10中使用化合物MS2-MS10，我们得到在成像的可溶性区域和未成像的耐受显影剂区域之间在显影剂中的溶解率方面优越的选择性；同时达到所述差别(或"操作速度")需要的能量基本上不受损害。实施例组2在实施例组2中，3-三甲基甲硅烷基丙基-l-磺酸节基三苯基磷鑰(MS12)和全氟辛基-l-磺酸结晶紫(MS13)作为可能的DCR改进剂被评价。这些用DowanolPM和MEK的90:10混合物的15%溶液被再次涂覆，以产生约1.5gm—2的薄膜重量。实例BS1-BS4在13(TC下干燥3分钟，而实例BS5-BS10在ll(TC下干燥3分钟。28测试的组合物如下(以重量份表示):组合物BS1BS2BS3BS4BS5BS6BS7BS8BS9BS10EP40502.1742.1742.1742.1742.1912.1912.1912.1912.1912.191FB6360.0400.0400.0400扁000000结晶紫000G0.04500000S00940.0230,0230.0230.0230.0230.0230.0230.0230.0230.023S02530.0140.0140.0140.0140.0140.0140.0140.0140.0140.014MS100.045000.0230.0230.0230.023.0.0230.023MS12000.0450.09000000MS13000000.0110,0230.0450扁0細总和2.2512.2962.2962.3412.2962.3072.3192.3412.3642.386成像、显影和测试如实施例组1所述进行。BS1、BS2和BS5是对比例，不是本发明的实施例。结果如下。样品光学点/%A(%)澄清点(DCP)/%澄清点(VCP)/%BS1NM8.14550BS2854.15580BS3856.05570BS4956.46080BS5卯5.760>100BS6丽7.3<40<40BS772.56.7<4045BS8806.4<4045BS9806.34560BS10805.84565NM表示不可测量的。第一实施例BS1不含鐵抑制剂，具有非常差的显影剂耐受性，BS2含有MS1作为鑰抑制剂，其不含疏水部分。BS3和BS4分别含有2和3%的MS12代替MS1。我们可以用肉眼观察到2。/。的MS12水平下的澄清点，其比在相同水平下使用MS1时少需要10%的能量以使背景清晰，而速度不受29损害。BS5是改性结晶紫錄MS13的参考实施例，含有约2重量％的固体水平的结晶紫。BS6-BS10没有结晶紫，分别代替有0.5、1.0、2.0、3.0禾卩4.0%的MS13。由于MS13的分子量显著高于结晶紫，与BS5着色力相当的是BSIO。我们可以观察到对于相同的显影剂耐受性(△%)，MS10在低15%的能量下清晰并少需要10%的能量以达到光学点。实施例组3在实施例组3中，在含有DCR改进剂并含有作为不溶剂的结晶紫的组合物与其中用改性成为DCR改进剂的结晶紫(MS14)代替标准结晶紫的组合物之间进行对比。改性结晶紫(MS14)具有通常的三(二甲氨基苯基)甲垸结晶紫阳离子，而用阴离子CF3CF2C(V代替氯离子。测试的组合物如下(以重量份表示):组分CS1CS2CS3CS4CS5CS6CS7CS8EP405097.496.495.494.497.496.495.494.4S009411111111S02530.60.60.60.60.60.60.60.6cv1240000MS1400001234总和100100100100100100100100CSl-4是为了对比存在，而不是本发明的一部分。成像、显影和测试如实施例组1所述进行。结果如下。30<table>tableseeoriginaldocumentpage31</column></row><table>NM表示不可尽管只含有未改性的结晶紫的实施例CS1-4在3和4%的CV下给出非常好的重量损失值，但是以差的光学点值和不可测的澄清点值为代价的。相反，含有改性的结晶紫的实施例CS5-8在这些测试中的所有性能表现良好。实施例组4在实施例组4中，上述一些DCR改进剂在受到稳定化或"回火"热处理的组合物中被评价。所选的DCR改进剂为MS2、MS3、MS4和MS5。MS1也作为对比被测试。调节DCR改进剂的量以给出摩尔当量。所使用的组合物如下(以重量份表示)<table>tableseeoriginaldocumentpage32</column></row><table>CAHPh为乙酸邻苯二甲酸纤维素。成像、显影和测试如实施例组1所述进行，不同之处是进行调节热处理。将平版印刷版堆叠，通过插入纸(未涂布的，纸重40gm勺而彼此分离，用相同的纸包裹，并在55'C和相对湿度(RH)为40%的调节炉中放置96小时。结果如下。<table>tableseeoriginaldocumentpage32</column></row><table>用DS1作为不含疏水部分的参照鏺，我们能看到，在没有损害版的灵敏度的情况下在澄清点和显影剂耐受性(△%)上的显著改善。实施例组5在实施例组5中，不同样品的△值被评价。这些样品如实施例组1所述制备，其组合物如下ES1ES2LB74474.0059.50EP352521.4034.40CAHPh1.001.00MS10.000,00MS20.001.50S02540.600.60S00941.001.00CV2.002.00ES2依照本发明。所述样品如实施例组4所述进行"回火"热处理。显影剂是用RecordgraphS.R.L.ofBologna,Italy提供的在水(98。/。w/w)中含有10-20%w/w偏硅酸钠和l-3%w/w硅酸钠的显影剂SLT900和由AmericanDyeSource,Inc.,Quebec,Canada或DKSHItalyS.R.L.Milan,Italy得到的Lunasperse(商标名)(2%w/w)配制的自制显影剂。Lunasperse被认为在水中含有20%w/w的甜菜碱活性物质，一种单和二垸基乙氧化胺乙酸甜菜碱盐的混合物。得到的A值如下A%ESI21.27ES25.36实施例组6在实施例组6中，上述一些DCR改进剂在受到另一种可选的更简单的"回火"热处理的组合物中被评价，在所述热处理中在第一阶段湿度低—20%RH或者未受控制的湿度(实践中通常指低于5。/。RH);随后在第二33冷却阶段，湿度较高，为30%朋。将涂料组合物以实施例组1的方式施涂在如实施例组1所述的基材上，并如实施例组1所述进行干燥。组合物如下(在此称为FSO):FSOLB74449.00EP352543.卯CAHPh1.00MS11.00MS21.50S02540.60S00941.00CV2.00样品FS1、FS2和FS3经历如下不同的热处理方式，用在FS1的情况下的4(TC作为前述"参照温度"培胜第一阶段第二阶段FS155°C，RH20%，72小时冷却至环境温度。40。C和低于40%的RHFS255°C，RH40%，72小时冷却至环境温度，RH未控制FS355°C，72小时，RH未控制冷却至环境温度，RH未控制对得到的样品如实施例组1所述进行成像，并用如实施例组5所述的显影剂显影。样品得到如下A值。<table>tableseeoriginaldocumentpage35</column></row><table>对FS1和FS2两个样品的结果在整个表面上，从一边到另一边，都是可接受的。FS3在边缘行为和点再现上是不可接受的。实施例组7实施例组7使用与实施例组5的样品ES1和ES2相同的组合物，并使用与实施例组4相同的制造条件和处理条件，但是使用下述自配的试验显影剂成分组合物(%w/w)偏硅酸钠7.7偏硅酸钾3.9用于A1的螯合剂(五亚乙基六胺八(亚甲基膦酸)的钠盐的中性水溶液，250/ow/w活性成分，CAS号93892-82-1)2.0表面活性剂(脂肪酸酰氨基垸基甜菜碱TEGObetaineL7(商标名)，30。/。w/w活性成分，CAS号61789-40-0)0.7表面活性剂(磷酸酯，芳香乙氧基化合物，钾盐，50y。w/w活性成分，CAS号66057-30-5)1.2水至100这被用于与上述提供的不含甜菜碱表面活性剂的显影剂SLT900对比。A结果如下使用SLT900的△%使用试验显影剂的A。/。GS1(=ES1)37.9817.32GS2(=ES2)50.009.30可见，在该实施例组中，使用SLT900的A值较高，而当使用试验显影剂时，A值低很多。还能进一步发现，当使用不含甜菜碱表面活性剂SLT900的显影剂时，与不含MS2(GS1)的样品相比，对含有MS2(GS2)的样品没有额外的保护，实际上，性能较差。当使用含甜菜碱的表面活性剂时，涂层通常具有改善的性能，含MS2的配方GS2现在具有比不含MS2的配36方GS1优越的性能。在全部上述实施例组中，所述的结果都是至少三个结果的平均，并且是在印版前体的中心区域测量的，除非另外指明。权利要求1.一种包含聚合物的组合物，所述聚合物含有羟基，所述组合物适用作可IR成像的平版印刷前体的涂层，所述组合物包含一种或多种实施以下功能的试剂a)吸收波长大于800nm的IR辐射并因此产生热量；b)用作不溶剂，其在显影期间抑制所述涂层的非成像区域在显影剂中的溶解，但是允许成像区域的溶解；和c)提高对非成像区域的溶解的抑制和/或成像区域的溶解，以提高非成像/成像区域的溶解反差比(DCR)；其中实施功能c)的试剂包含具有疏水和离子特征的部分。2.权利要求1所述的组合物，其中用作不溶剂的试剂在吸收IR辐射时不分解。3.权利要求1或2所述的组合物，其中所述试剂吸收波长为805-1500nm，优选850-1250nm的IR辐射。4.一种涂覆的用于成像的平版印刷前体，其涂层通过在平版印刷基材上施涂前述权利要求之一所述的组合物而形成。5.—种用于印刷的平印版或用于蚀刻或用于掺杂的电子部件前体，其由对权利要求4所述的前体进行成像以在涂层中形成潜像并对图像显影而得到，所得到的成像印版或电子部件前体具有期望的残留涂层的图案。6.平印版前体在印刷中的用途，或电子部件前体在电子部件制造中的用途，每种情况下都为负载待成像的涂层的平版印刷基材，所述涂层通过在平版印刷基材上施涂和干燥包含有含羟基的聚合物的液体组合物而形成，所述组合物适用作IR可成像平版印刷前体的涂层，其包含一种或多种实施以下功能的试剂a)吸收波长超过800nm的IR辐射并因此产生热量；b)用作不溶剂，其抑制所述涂层的非成像区域在显影剂中的溶解，但是允许成像区域的溶解；和c)提高对非成像区域的溶解的抑制和/或成像区域的溶解，以提高非成像/成像区域的溶解比；其中试剂c)包含具有疏水和离子特征的部分；将平版印刷前体经受波长超过800nm的成像用IR辐射，而后在显影剂中选择性去除接受辐射的区域或未接受辐射的区域；而后进行施涂或处理步骤；在平印版前体的情况下，所述施涂或处理步骤是供应印刷油墨，所述油墨聚集在去除的区域或者未去除的区域；在电子部件前体的情况下，所述施涂或处理步骤是蚀刻或掺杂步骤。7.权利要求6所述的用途，其中所述处理步骤使用包含甜菜碱表面活性剂的碱性显影剂水成液。8.含有羟基的聚合物和一种或多种实施以下功能的试剂在可成像涂层中的用途a)吸收波长大于800nm的IR辐射并因此产生热量；b)用作不溶剂，其在显影期间抑制所述涂层的非成像区域在显影剂中的溶解，但是允许成像区域的溶解；和c)提高对非成像区域的溶解的抑制和/或成像区域的溶解，以提高非成像/成像区域的溶解比；其中试剂c)包含具有疏水和离子特征的部分。9.一种制造权利要求4所述的平印版前体的方法，其中作为制造的一部分，使其经历热处理，所述热处理包括第一阶段和在第一阶段后的第二阶段，在所述第一阶段中使所述前体处于等于或超过参考温度的温度和不超过20%的相对湿度和/或不超过0.025的绝对湿度下；而在所述第二阶段中，使所述前体处于低于参考温度的温度和至少30%的相对湿度和/或至少0.032的绝对湿度下。10.—种盐，其阳离子选自疏水垸基、氟化烷基、疏水含硅基团和疏水芳基中的至少一种，所述疏水芳基任选被至少l、2或3个选自氟、垸基、氟化烷基和含硅基团的部分取代。11.一种盐，其阴离子选自疏水烷基、疏水含硅基团和疏水芳基中的至少一种，所述疏水芳基任选被至少1、2或3个选自氟、烷基、氟化烷基和含硅基团的部分取代。12.—种磷鐵阳离子和烷基或芳基羧酸根或磺酸根阴离子的盐，其由于氟、硅、脂肪烷基或芳基部分的存在而具有疏水性。13.—种三芳基甲垸阳离子和羧酸根或磺酸根阴离子的盐，其由于氟、硅、脂肪烷基或芳基部分的存在而具有疏水性。全文摘要本发明涉及一种包含聚合物的组合物，所述聚合物含有羟基，所述组合物适用作可IR成像的平印版前体的涂层，其包含一种或多种实施以下功能的试剂a)吸收波长大于800nm的IR辐射并因此产生热量；b)用作不溶剂，其在显影期间抑制所述涂层的非成像区域在显影剂中的溶解，但是允许成像区域的溶解；和c)提高对非成像区域的溶解的抑制和/或成像区域的溶解，以提高非成像/成像区域的溶解反差比(DCR)；其中实施功能c)的试剂包含具有疏水和离子特征的部分；所述组合物对于成像和非成像区域之间在显影剂中的溶解上能显示出优越的选择性，同时达到所述差别(或“操作速度”)所需要的能量不受损害。文档编号B41C1/10GK101495312SQ200780024803公开日2009年7月29日申请日期2007年7月2日优先权日2006年6月30日发明者P·A·R·贝内特,R·M·阿莱格里尼申请人:海德堡亚洲采购中心私人有限公司