专利名称：层压薄膜、显示用过滤器和显示器的制作方法
技术领域：
本发明涉及在例如阴极射线管(CRT)、液晶显示元件(LCD)、等离子体显示器(PDP)等显示器显示面上配置的、作为防反射过滤器使用并且耐摩擦性、透明性特别优异的层压膜和显示用过滤器。
背景技术：
在电视机、个人电脑监视器等显示器的显示装置中，由于其表面反射和映入太阳光或荧光灯等的外光，因此存在难以看见显示图像的问题。为解决该问题，如在特开平12-329905号公报和特开平13-264508号公报中提出了通过在表面上设置凹凸结构使外光发生漫反射，或者将低折射率和高折射率的薄膜交互层叠防止光反射的方法。
但是，用使外光发生漫反射的方法，不能看清楚显示器上的图像，因此产生新的问题。另外，诸如在特开平4-355401号公报、特开平11-92750号公报或特开平11-174971号公报中提出的、在表层设置折射率低的含氟化合物的方法中，由于氟化物表面硬度低、无耐摩擦性，因此在组装显示器或者对表面进行清扫时产生刮伤，存在不能看清图像的问题。
发明的公开本发明的目的是提供一种通过提高低折射率层的表面硬度以改善表面耐摩擦性，并且低反射、透明性优异的适于作为防反射膜使用的层压膜及其制造方法。
作为解决上述课题的方案，本发明的层压膜主要具有以下结构。即，一种层压膜，其是通过在基材薄膜(a)的至少一个表面上层叠包含(甲基)丙烯酸酯化合物的硬涂层(b)、包含导电性颗粒的导电层(c)、含氟化合物的树脂层(d)形成的层压薄膜，其特征为在树脂层(d)的表面上具有微细的凹凸结构，该凹凸结构的算术平均粗糙度Ra值在0.003微米～0.025微米，并且该树脂层(d)侧的层压膜表面的反射率不足2％。
此外，本发明的显示器用薄膜主要有以下结构。即，一种显示器用薄膜，是通过在与上述层压膜的树脂层(d)相对面的基材薄膜侧设置粘结层或粘结剂层，在粘结层或粘结剂层面上贴付保护膜形成的。
此外，本发明的显示器用过滤器主要有以下结构。即，一种显示器用过滤器，是通过粘结层或粘结剂层将上述层压膜贴付在显示器面的表面上形成的。
另外，本发明的等离子体显示器面板用前面保护板主要有以下结构。即，一种等离子体显示器用前面保护板，是通过粘结层或粘结剂层将上述层压膜贴付在等离子体显示器面板用前面板的表面上形成的。
附图的简要说明
图1为用于示意性显示本发明的层压膜的层压结构的薄膜剖面图的一个实例。
图2为采用本发明的层压膜的PDP前面板的形式图的一个实例。
符号1为层压膜、符号2为基材薄膜、符号3为硬涂层、符号4为导电层、符号5为树脂层、符号6为导电性颗粒、符号7为二氧化硅颗粒、符号8为等离子体显示器用前面保护板、符号9为具有屏蔽电磁波功能的玻璃、符号10为粘结层。
实施发明的最佳形式本发明的层压膜是通过在基材薄膜(a)的至少一个表面上层叠包含(甲基)丙烯酸酯化合物的硬涂层(b)、包含导电性颗粒的导电层(c)、含氟化合物的树脂层(d)形成的。
在本发明的层压膜中，其优选形式分别为(1)树脂层(d)的表面凹凸结构的算术平均粗糙度Ra值在0.003微米～0.025微米，并且该树脂层(d)侧的层压膜表面的反射率不足2％；(2)层压膜的浊度不足3％；(3)基材薄膜(a)由一种聚合物构成，该聚合物的一个结构单元选自酯、烯烃、醋酸酯、苯乙烯、碳酸酯、砜、醚乙基酮、二酰亚胺、氟、尼龙、丙烯酸酯、脂环族烯烃；(4)基材薄膜(a)由一种聚合物构成，该聚合物的一个结构单元选自酯、醋酸酯、丙烯酸酯；(5)导电层(c)的层厚为0.01微米～1.0微米；(6)导电层(c)的导电性颗粒的含量为70重量％～90重量％；(7)树脂层(d)由含有粒径为0.001微米～0.2微米的二氧化硅微粒的组合物构成；(8)二氧化硅微粒由2种成分或其以上的粒径分布的组合物构成；(9)树脂层(d)由包含用通式R(1)aR(2)bSiX4-(a+b)表示的硅烷偶合剂、其水解产物或其反应物的组合物构成(其中，R(1)、R(2)分别表示烷基、链烯基、烯丙基、或具有卤基、环氧基、氨基、巯基、甲基丙烯酰氧基、氰基等的烃基、X为选自烷氧基、烷氧基烷氧基、卤基和酰氧基的可水解的取代基、a，b分别为0、1或2，并且a+b为1，2或3)；(10)树脂层(d)的氟化物由含有烷氧基甲硅烷基的组合物构成；(11)采用上述层压膜的显示用薄膜；(12)采用上述显示用薄膜的显示器；(13)采用上述层压膜的显示用过滤器；(14)采用上述层压膜的等离子体显示器面板用前面保护板、(15)由采用上述等离子体显示器面板用前面保护板的等离子体显示器。这些优选形式可进一步发挥本发明的目的效果。
以下作进一步详细说明。
由于本发明中的基材薄膜(a)作为显示装置用的构件(以下称为显示构件)使用，因此优选光线透过率高并且浊度值低的薄膜。例如在400～800nm波长处的光线透过率优选在40％或其以上，更优选在60％或其以上，此外，浊度值优选在5％或其以下，更优选在3％或其以下。当这些条件之一或两个均不满足时，在将其作为显示构件使用时，有图像的鲜明性不足的倾向。另外，从发挥这种效果方面看，作为可能的范围，光线透过率的上限值至99.5％左右，而浊度值的下限值至0.1％左右。
对构成基材薄膜(a)的树脂材料没有特别限制，可从公知的塑料基材薄膜中采用的树脂原材料中适宜地选择使用。作为这种基材薄膜(a)用的树脂原材料，可列举出从例如酯、乙烯、丙烯、二醋酸酯、三醋酸酯、苯乙烯、碳酸酯、甲基戊烯、砜、醚乙基酮、二酰亚胺、氟、尼龙、丙烯酸酯、脂环族烯烃类等中选出的一种作为构成单元的聚合物或共聚物。
这些树脂中，由于以从对苯二甲酸乙二醇酯等的酯类、三乙酰基纤维素等的醋酸酯类和聚甲基丙烯酸甲酯等的丙烯酸酯类中选出的一种为构成单元的聚合物或共聚物透明性、强度和厚度的均一性优异，因此优选使用。特别是从透明性、浊度值、机械特性的观点出发，特别优选基材薄膜(a)由以酯类作为构成单元的聚合物形成。
作为这种聚酯类树脂，可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚2，6萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚α，β-二(2-氯代苯氧基)乙烷-4，4’-二羧酸乙二醇酯等。此外，这些聚酯也可以进一步与20摩尔％或其以下的其它二羧酸成分或二醇成分共聚合。其中，如果对品质、经济性等进行综合判断的话，特别优选聚对苯二甲酸乙二醇酯。
这些构成树脂的成分可仅用一种，也可以将2种或其以上并用。
此外，对本发明所用的基材薄膜(a)的厚度没有特别限制，但是从透明性、浊度值、机械特性的观点出发，通常为5～800微米，优选为10～250微米。另外，采用公知方法将2张或其以上的薄膜贴合形成的薄膜也可以。
此外，在该基材薄膜(a)上设置硬涂层(b)之前，也可实施各种表面处理(例如，电晕放电处理、辉光放电处理、火焰处理、蚀刻处理或者粗面化处理等)。另外为了促进粘结，可在基材薄膜(a)的表面涂布底涂层(例如聚氨酯类、聚酯类、聚酯丙烯酸酯类、聚氨酯丙烯酸酯类、聚环氧丙烯酸酯、钛酸盐类化合物等的涂层)后，设置硬涂层(b)。特别是在底面涂布了由一种共聚物和交联剂形成的组合物的薄膜，该共聚物是通过在含亲水基的聚酯树脂中接枝丙烯酸类化合物得到时，由于粘结性提高、耐热性、耐水性等的耐久性优异，因此优选作为基材薄膜(a)。
本发明中的硬涂层(b)形成在基材薄膜(a)之上，并且必须包含(甲基)丙烯酸酯化合物。(甲基)丙烯酸酯化合物通过活性光线照射发生自由基聚合，所形成的膜的耐溶剂性和硬度提高。具体地可举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、 (甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸羟丙酯等的单官能丙烯酸酯化合物。此外，由于在分子内具有2个或其以上(甲基)丙烯酰基的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物提高耐溶剂性等，因此在本发明中特别优选。作为多官能(甲基)丙烯酸酯的具体实例，可举出季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等。这些单体可使用1种，也可以将2种或其以上混合使用。
为提高硬涂层(b)的硬度，本发明的形成硬涂层(b)用的构成树脂成分中可进一步含有烷基硅酸盐类和其水解物、胶体二氧化硅、干式二氧化硅、湿式二氧化硅、氧化钛等的无机颗粒、分散成胶体状的二氧化硅微粒等。
硬涂层(b)的厚度可根据用途进行适宜地选择，通常为1～50微米、优选为2微米～30微米。硬涂层(b)的厚度不足2微米时，表面硬度不足容易产生擦伤，因此不优选。此外，超过50微米时，透明性较低，浊度值容易升高，或者固化膜变脆，薄膜弯曲时硬涂层(b)上容易产生裂纹，因此不优选。
本发明中的导电层(c)形成在硬涂层(b)之上，必须包含导电性颗粒(B)和粘合剂成分(A)。
本发明中所述的导电性颗粒指的是金属微粒或金属氧化物微粒。其中金属氧化物微粒透明性高，因此优选。作为金属氧化物微粒，特别优选含锡氧化锑颗粒(ATO)、含锌氧化锑颗粒、含锡氧化铟颗粒(ITO)、氧化锌/氧化铝颗粒、氧化锑颗粒等，更优选含锡氧化铟颗粒(ITO)、含锡氧化锑颗粒(ATO)。
构成导电性的微粒优选使用平均1次粒径(由BET法测定的球相当直径)为0.5微米或其以下的颗粒，更优选为0.001～0.3微米，进一步优选为0.005～0.2微米粒径的颗粒。该平均粒径超过该范围时，所形成的覆膜(导电层(c))的透明性低，而不足该范围时，该颗粒容易聚集，所形成的覆膜(导电层(c))的浊度值增大，在任何一种情况下都难以获得所希望的浊度值。
构成导电层(c)的粘合剂成分(A)采用(甲基)丙烯酸酯化合物。(甲基)丙烯酸酯化合物通过活性光线照射发生自由基聚合，所形成的膜的耐溶剂性和硬度提高，因此优选。此外，由于在分子内具有2个或其以上(甲基)丙烯酰基的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物可提高耐溶剂性等，因此在本发明中特别优选。例如可举出季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、乙烯改性的三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三-(2-羟乙基)-异氰酸酯三(甲基)丙烯酸酯等的三官能(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等的四官能或其以上的(甲基)丙烯酸酯等。
为提高颗粒的分散性，构成导电层(c)的粘合剂成分(A)可使用具有羧基、磷酸基、磺酸基等的酸性官能基的(甲基)丙烯酸酯化合物。具体地，作为含有酸性官能基的单体可举出丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、2-甲基丙烯酰氧基乙基琥珀酸、2-甲基丙烯酰氧基乙基邻苯二甲酸等的不饱和羧酸、单(2-(甲基)丙烯酰氧基乙基)酸式磷酸酯、二苯基-2-(甲基)丙烯酰氧基乙基磷酸酯等的磷酸(甲基)丙烯酸酯、2-磺基酯(甲基)丙烯酸酯等。此外，也可以使用具有酰胺键、氨基甲酸酯键、醚键等具有极性的键的(甲基)丙烯酸酯化合物。此外，如果为氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物等的具有氨基甲酸酯键的树脂的话，变得极性高、颗粒分散性好，因此特别优选。
在本发明中形成硬涂层(b)和导电层(c)时，为促进已涂布的粘合剂成分固化，也可使用引发剂。作为该引发剂，可使用可引发或促进已涂布的粘合剂成分通过自由基反应、阴离子反应、阳离子反应等进行聚合和/或交联反应的引发剂，可使用现有技术中公知的各种光聚合引发剂。具体可举出钠甲基二硫代氨基甲酸酯硫化物、二苯基单硫化物；二苯并噻唑基单硫化物和二硫化物等的硫化物类、噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-氯代噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮等的噻吨酮衍生物；腙、偶氮二异丁腈等的偶氮化合物；重氮苯等的重氮化合物；苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、二苯甲酮、二甲基氨基二苯甲酮、米蚩酮、苄基蒽醌、叔丁基蒽醌、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-氨基蒽醌、2-氯代蒽醌等的芳香族羰基化合物；对二甲基氨基苯甲酸甲酯、对二甲基氨基苯甲酸乙酯、D-二甲基氨基苯甲酸丁酯、对二乙基氨基苯甲酸异丙酯等的二烷基氨基苯甲酸酯；过氧化苯甲酰、二叔丁基过氧化物、二枯基过氧化物、氢过氧化枯烯等的过氧化物；9-苯基吖啶、9-对甲氧基苯基吖啶、9-乙酰基氨基吖啶、苯并吖啶等的吖啶衍生物；9，10-二甲基苯并吩嗪、9-甲基苯并吩嗪、10-甲氧基苯并吩嗪等的吩嗪衍生物；6，4’，4”-三甲氧基-2，3-二苯基喹喔啉等的喹喔啉衍生物；2，4，5-三苯基咪唑二聚体、2-硝基芴、2，4，6-三苯基吡喃四氟化硼盐、2，4，6-三(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、3，3’-羰基二香豆素、硫代米蚩酮、2，4，6-三甲基苯甲酰二苯基膦过氧化物、低聚(2-羟基-2-甲基-1-(4-(1-甲基乙烯基)苯基)丙酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)丁酮等。
此外，在本发明中形成硬涂层(b)和导电层(c)时，为防止上述引发剂由于氧的障碍而造成灵敏度下降，可在光聚合引发剂中共存胺化合物。作为这种胺化合物，例如如果为脂肪族胺化合物或者为芳香族胺化合物等的非挥发性胺化合物，则对其没有特别限制。例如优选三乙醇胺、甲基二乙醇胺等。
在本发明中，对于导电层(c)的构成成分的配合比例，粘合剂成分(A)和颗粒(B)的重量比[(A)/(B)]必须为10/90～30/70，优选为15/85～25/75。颗粒(B)的比例如果小于上述范围，则所得的膜透明性不足，而且导电性变差，相反颗粒(B)的比例过多时，所得薄膜的各种物理性能、化学强度变差，因此不优选。光聚合引发剂的量对于100重量份粘合剂成分(A)，通常的添加范围为0.1～20重量份、优选为1.0～15.0重量份。当不足0.1重量份时，光聚合较慢，为满足硬度和耐擦伤性有必须进行长时间光照射的倾向，而且容易时有未固化的情况发生。另一方面，当添加量超过20重量份时，涂膜的导电性、耐摩擦性能、耐气候性等功能容易下降。
本发明的导电层(c)的构成成分除了将以上所述的粘合剂成分(A)、颗粒(B)和光聚合引发剂作为必须成分以外，还可以根据需要含有例如聚合抑制剂、固化催化剂、抗氧化剂、分散剂、流平剂、硅烷偶合剂等的各种添加剂。
在本发明中，为赋予导电性，在该导电层(c)的构成成分中可进一步含有聚吡咯和聚苯胺等等的导电性聚合物、金属醇盐和螯合化合物等的有机金属化合物。此外，为提高表面硬度，该导电层(c)的构成成分中可进一步含有烷基硅酸盐类和其水解物、胶体二氧化硅、干式二氧化硅、湿式二氧化硅、氧化钛等的无机颗粒、分散成胶体状的二氧化硅微粒等。
为了由本发明的导电层(c)赋予所需水平的防止带电性，优选使该导电层(c)的表面电阻值为1×1011Ω/□或其以下，更优选为1×1010Ω/□或其以下。
从鲜明性、透明性的观点出发，本发明的导电层(c)优选为全部光线透过率为40％或其以上，进一步优选为60％或其以上的层。
本发明的树脂层(d)形成在导电层(c)上，并且必须含氟化物。本发明中所用的氟化物优选是由热或电离放射线交联的氟化物。作为交联的氟化物，可使用具有不饱和基的含氟单体或具有交联性基团的氟聚合物，或者采用一种这样的含氟共聚物，其构成单元为含氟单体和赋予交联性基团用的单体。
特别优选由主链中具有乙烯基醚结构的含氟类共聚物形成的聚合物。优选含氟类共聚物中的氟含量在30重量％或其以上，并具有通过聚苯乙烯换算所得的数均分子量在500或其以上，优选在5000或其以上的含氟烯烃链。
该含氟类共聚物是通过使包含含氟化合物和含乙烯基醚化合物的固化性组合物发生聚合反应所得的共聚物，优选通过聚合这样一种固化性组合物获得，该固化性组合物含有含氟烯烃化合物、可与该含氟烯烃化合物共聚的含乙烯基醚化合物和根据需要配合的反应性乳化剂。
为形成含氟类共聚物而采用的固化性组合物优选含有反应性乳化剂作为其一种成分。通过采用该反应性乳化剂成分，可使涂布液中所含的含氟类共聚物涂布时具有良好的涂布性能和流平性。作为该反应性乳化剂，特别优选使用非离子性反应性乳化剂。
在构成树脂层(d)的含氟类共聚物中，来自含氟烯烃化合物成分的结构单元为20～70摩尔％，优选为25～65摩尔％，进一步优选为30～60摩尔％。当来自含氟烯烃化合物成分的结构单元的比例不足20摩尔％时，所得含氟类共聚物中的含氟量容易过少，因此所得树脂层(d)的折射率不能变得足够低。另一方面，当来自含氟烯烃化合物成分的结构单元的比例超过70摩尔％时，涂布液的均一性较差，难以形成均匀的涂布膜，此外透明性和与基材的粘结性也降低，因此不优选。
在含氟类共聚物中，来自含乙烯基醚结构的化合物成分的结构单元为10～70摩尔％，优选为15～65摩尔％，进一步优选为30～60摩尔％。当来自含乙烯基醚结构的化合物成分的结构单元的比例不足10摩尔％时，涂布液的均一性变差，难以形成均匀的涂布膜，而超过70摩尔％时，所得树脂层(d)的透明性和低折射率的光学性能容易变差，因此不优选。
此外，作为该含乙烯基醚结构的化合物的成分，通过使用含有羟基或环氧基等的反应性官能基的单体，使用所得固化性树脂组合物作为涂布剂时，可提高固化膜的强度，因此优选。含羟基或环氧基的单体在全部单体中的比例为0～20摩尔％，优选为1～20摩尔％，进一步优选为3～15摩尔％。当该比例超过20摩尔％时，所得树脂层(d)的光学特性容易变劣，或者固化膜容易变脆弱。
在包含反应性乳化剂的含氟类共聚物中，来自反应性乳化剂成分的结构单元的比例通常为0～10摩尔％，优选为0.1～5摩尔％。当该比例超过10摩尔％时，所得的树脂层(d)带有粘结性，因此难以操作，此外涂布剂的耐湿性也下降，因此不优选。
在本发明的树脂层(d)中，除了含氟类共聚物以外，还可以进一步优选配合交联性化合物，这对于赋予所希望的固化性、改善固化特性来说是有效的。
作为该交联性化合物，可列举出各种氨基化合物、季戊四醇、多酚、乙二醇、烷基硅酸盐类和其水解物等的各种含羟基化合物和其它化合物。作为该交联性化合物使用的氨基化合物为一种这样的化合物，其含有总计2个或其以上与氟化合物中存在的羟基或环氧基可发生反应的氨基，例如羟基烷基氨基和烷氧基烷基氨基的任一者或两者。具体可列举出三聚氰胺类化合物、尿素类化合物、苯胍胺类化合物、乙二醇脲类化合物等。三聚氰胺类化合物一般已知为具有在三嗪环上结合了氮原子的骨架的化合物。具体可举出三聚氰胺，烷基化三聚氰胺，羟甲基三聚氰胺，烷氧基化甲基三聚氰胺等，但优选在1分子中具有总计2个或其以上的羟甲基和烷氧基化甲基的任一者或两者。具体优选为在碱性条件下使三聚氰胺与甲醛反应所得的羟甲基化三聚氰胺、烷氧基化甲基三聚氰胺或者这些物质的衍生物，特别是从使固化性树脂组合物具有良好的保存稳定性方面以及获得良好的反应性的观点出发，优选烷氧基化甲基三聚氰胺。对作为交联性化合物使用的羟甲基化三聚氰胺和烷氧基化甲基三聚氰胺没有特别限制，例如也可使用由文献“塑料材料讲座[8]脲三聚氰胺树脂”(日中记载的方法所得的各种树脂状物质。另外，作为尿素化合物，除了尿素以外，还可举出作为聚羟甲基化尿素及其衍生物的烷氧基化甲基尿素、具有乌龙环的羟甲基化乌龙和烷氧基化甲基乌龙等。此外，对于尿素衍生物等的化合物，可使用上述文献中记载的各种树脂状物质。
该交联性化合物的使用量对于100重量份的含氟类共聚物为70重量份或其以下，优选为3～50重量份，更优选为5～30重量份。交联性化合物的使用量不足3重量份时，通过涂布、固化形成的薄膜耐久性有时不足，当交联性化合物的使用量超过70重量份时，在与含氟类共聚物的反应中，难以避免凝胶化，而且不能获得折射率低的固化膜，固化膜有时变脆。
在树脂层(d)中，优选包含赋予耐摩擦性用的二氧化硅微粒、或/和硅烷偶合剂、或/和烷氧基甲硅烷基的氟树脂。
二氧化硅微粒的成分优选包含干式二氧化硅、湿式二氧化硅、分散为胶体状的二氧化硅微粒等，进一步优选为含有分散为胶体状的二氧化硅微粒。
该二氧化硅微粒粒径的平均一次粒径(与球相当的直径BET法)一般可使用0.001～0.2微米的微粒，优选使用0.005～0.15微米粒径的微粒。该平均粒径在该优选范围中时，生成的覆盖膜(树脂层(d))的透明性不降低，另一方面，也不难提高表面硬度。另外，该二氧化硅微粒的形状优选采用球状、念珠状。
该二氧化硅颗粒可采用平均粒径不同的2种或其以上成分的微粒。
该二氧化硅微粒还可以施加表面处理后使用。作为表面处理方法，可采用等离子体放电处理或电晕放电处理等的物理表面处理和采用偶合剂的化学表面处理，但优选采用化学处理。在化学处理中使用的偶合剂，可特别优选采用硅烷偶合剂。
来自二氧化硅微粒的成分的固体成分比例优选为5～50％，进一步优选5～40％，特别优选为5～30％。当来自二氧化硅微粒的成分的比例在该优选范围中时，所得树脂层(d)的表面硬度可足够，另一方面，透明性和低反射率等的光学特性也优异。
硅烷偶合剂成分为通式R(1)aR(2)bSiX4-(a+b)表示的化合物或其水解产物。其中，R(1)a、R(2)b分别表示烷基、链烯基、烯丙基、或具有卤基、环氧基、氨基、巯基、甲基丙烯酰氧基、或氰基等的烃基；X为选自烷氧基、烷氧基烷氧基、卤基和酰氧基的可水解的取代基；a，b分别为0、1或2，并且a+b为1，2或3。
来自硅烷偶合剂的成分的固体成分比例优选为5～70％，进一步优选15～65％，特别优选为20～60％。当来自硅烷偶合剂的成分的比例在该优选范围中时，所得树脂层(d)的表面硬度可足够，另一方面，透明性和低反射率等的光学特性也优异。
具有烷氧基甲硅烷基的氟树脂为通式R(3)cR(4)dSiX4-(c+d)表示的化合物或其水解产物。其中，R(3)c、R(4)d分别表示具有氟取代的烷基、链烯基、烯丙基、甲基丙烯酰氧基或(甲基)丙烯酰基的烃基。X为选自烷氧基、烷氧基烷氧基、卤基或酰氧基的可水解的取代基、c，d分别为0、1或2，并且a+b为1，2或3。
来自具有烷氧基甲硅烷基的氟树脂的成分的固体成分比例优选为20～90％，进一步优选25～80％，特别优选为30～70％。当来自具有烷氧基甲硅烷基的氟树脂的成分的比例在该优选范围中时，所得树脂层(d)的透明性和低反射率的光学特性良好，另一方面树脂层(d)的表面硬度也优异。
本发明在形成树脂层(d)时，可使用为促进涂布液固化用的固化催化剂。作为固化催化剂，优选为促进硅烷偶合剂的缩合反应的催化剂。作为这种催化剂，可举出酸化合物。其中优选为路易斯酸化合物。作为路易斯酸化合物的实例，可举出乙酰乙酰氧基铝等的金属醇盐或金属螯合物。该固化催化剂的量可适宜地进行选择，例如对于100重量份硅烷偶合剂，通常为0.1～10重量份。
本发明在形成树脂层(d)时，可根据需要含有例如聚合抑制剂、抗氧化剂、分散剂、流平剂等的各种添加剂。
为使本发明的层压膜具有高透明性，使浊度值为不足3％，优选为不足2.7％。当浊度值在3％或其以上时，透明性容易变得不足。
为使本发明中树脂层(d)的表面具有良好的耐摩擦性，需要在树脂层(d)的表面上形成微小的凹凸结构。由该凹凸结构产生的表面粗度与耐摩擦性的关系考虑是按照以下方式发挥作用的。即，在微小凹凸面上，用钢丝棉等振动该凹凸面时，钢丝棉的前端通过与仅与凸部分接触而进行振动，与树脂层(d)表面的接触面积需要限制到最小，结果可特别提高耐摩擦性。
该树脂层(d)表面的该凹凸结构的算术平均粗糙度Ra值的范围想必须在0.003微米～0.025微米。更优选在0.004微米～0.022微米，进一步优选为0.004微米～0.020微米。当该凹凸结构的算术平均粗糙度Ra值超过该范围时，树脂层(d)的浊度值变高，透明性降低。另外，该凹凸结构的算术平均粗糙度Ra值不足该范围时，难以提高耐摩擦性。
在本发明中，为了在树脂层(d)表面上形成微小的凹凸结构，优选使其中含有胶体二氧化硅、干式二氧化硅、湿式二氧化硅、氧化钛、玻璃珠、氧化铝、碳化硅、氮化硅等的无机微粒、分散成胶体状的二氧化硅微粒等，更优选的是使其含有分散成胶体状的二氧化硅微粒。特别优选由具有2种成分或其以上粒径分布的二氧化硅微粒形成的微粒。例如，通过将平均粒径为0.001～0.02微米的颗粒和平均粒径为0.02～0.2微米的二氧化硅微粒混合，可形成微细的凹凸结构。
为使本发明树脂层(d)侧的该层压膜的表面具有低反射性，使该表面的反射率为不足2％，优选为不足1.7％。当反射率超过该范围时，容易造成外光写入，该层压膜表面不具有低反射性。
为使发明树脂层(d)侧的该层压膜的表面具有低反射性，优选使导电层(c)和树脂层(d)的折射率和厚度的乘积为对象光线(通常为可见光线)波长的1/4。因此，在导电层(c)和树脂层(d)中，优选各层的厚度d和折射率n的乘积的4倍在380～780nm的范围内。即，优选的厚度范围是使得该导电层(c)和树脂层(d)的折射率n和厚度d的关系满足以下式(1)。
n·d＝λ/4 ...式(1)(其中，λ为可见光线的波长范围，通常在380nm≤λ≤780nm的范围内)。
为使本发明的层压膜具有低反射性，导电层(c)的厚度优选为0.01～1.0微米，更优选为0.06～0.12微米。此外，树脂层(d)的优选厚度范围为0.01～1.0微米，更优选为0.07～0.12微米。导电层(c)和树脂层(d)的厚度在该范围以外时，不能满足上述式(1)，树脂层(d)侧该层压膜表面不具有低反射性。
进一步地，为使本发明的树脂层(d)侧该层压膜表面成为低反射性，树脂层(d)的折射率要比导电层(c)的折射率小，即，优选树脂层(d)/导电层(c)不足1.0，更优选为0.6～0.95。此外，优选树脂层(d)的折射率在1.47或其以下，更优选为1.035～1.4S。折射率不足1.35的树脂现状是难以制作，此外，折射率高于1.47时，反射率变高。
以下对本发明的层压膜的制造方法进行说明。
本发明的层压膜可通过在基材薄膜(a)的至少一个表面上层叠包含(甲基)丙烯酸酯化合物的硬涂层(b)、包含导电性颗粒的导电层(c)、含氟化合物的树脂层(d)进行制造。
本发明中的导电层(c)和树脂层(d)可优选用溶剂将各构成成分分散调制为涂布液以后，在基材薄膜(a)上涂布后，通过干燥、使其固化形成。
作为形成本发明的导电层(c)所用的溶剂，是用于改善本发明组合物的涂布和印刷操作性和改善颗粒分散性而配合的溶剂，如果溶剂可溶解粘合剂成分(A)的话，可使用现有公知的各种有机溶剂。从组合物粘度的稳定性、干燥性的观点出发，在本发明中特别优选沸点为60～180℃的有机溶剂，其中具有氧原子的有机溶剂与金属颗粒的亲和性良好，因此更加优选。作为该有机溶剂，具体可列举出合适例如，甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、叔丁醇、乙二醇单甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、丙二醇单甲醚、环己酮、醋酸丁酯、异丙基丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、二乙酰丙酮、乙酰丙酮等。这些溶剂可使用单一的一种，也可以将2种或其以上混合使用。
此外，有机溶剂的量可根据与涂布方式、印刷方式相对应的操作性良好的状态的粘度来配制组合物，可以任意量进行配合，但通常组合物中固体成分浓度在60重量％或其以下，优选为50重量％或其以下。通常，在粘合剂成分(A)用有机溶剂溶解而形成的溶液中添加颗粒(B)，由颜料振荡器、球磨机、砂磨机、三根辊、アトライタ、均质器等的分散机进行分散，此后添加光聚合引发剂(C)，使其均匀溶解的方法是合适的。
此外，在形成树脂层(d)的情况下，优选采用的方法是将由氟化合物作为主要成分的固化性组合物在选自甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、叔丁醇、乙二醇单甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、丙二醇单甲醚、环己酮、醋酸丁酯、异丙基丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、二乙酰基丙酮、乙酰丙酮的至少1种或其以上的溶剂中分散形成的溶液涂布后，干燥、固化形成树脂层(d)。
此时溶剂的量可根据所需的组合物的粘度、固化膜的目标厚度、干燥温度条件等进行适宜地变更。
本发明的层压膜的层结构优选是在基材薄膜(a)的至少一个表面上层叠包含(甲基)丙烯酸酯化合物的硬涂层(b)、包含导电性颗粒的导电层(c)、含氟化合物的树脂层(d)。作为其它层结构的具体实例，可在基材薄膜(a)的内外两个表面上均设置导电层(c)，在该情况下，优选在两个导电层(c)中的至少一个导电层(c)上设置树脂层(d)。此外，在基材薄膜(a)的一个表面侧上设置多个导电层(c)的情况下，优选使最外表面成为树脂层(d)的方式，在基材(a)的相同侧设置多个树脂层(d)。此外，在与基材薄膜(a)相对的硬涂层(b)的相对侧面上可设置底涂层、透明导电层(c)。此外，在树脂层(d)的表面上可设置防湿层、保护层。为了不影响防反射功能，该防湿层、保护层的厚度优选在20nm或其以下。
本发明的显示用薄膜可在与上述层压膜的树脂层(d)相对的基材薄膜(a)侧设置粘结层和粘附层，在粘结层和粘附层上贴付保护膜形成。
作为粘结层和粘附层，只要通过其粘结或粘附作用将2个物体粘附的层即可，对其没有特别限制。作为形成粘结层或粘附层的粘结剂或粘附剂，可采用橡胶类、乙烯基聚合物类、缩合聚合类、热固化性树脂类和有机硅类等。其中，作为橡胶类粘合剂或粘附剂，可举出丁二烯-苯乙烯共聚物类(SBR)、丁二烯-丙烯腈共聚物类(NBR)、氯代丁二烯聚合物类、异丁烯-异戊二烯共聚物类(丁基橡胶)等。作为乙烯基聚合类粘结剂或粘附剂，可举出丙烯酸树脂类、苯乙烯树脂类、醋酸乙烯酯-乙烯共聚物类和氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物类等。作为缩合聚合类粘结剂或粘附剂，可举出聚酯树脂类。作为热固化树脂类的粘结剂，可列举环氧树脂类、聚氨酯树脂类、甲醛树脂类等。这些树脂可单独使用，也可以将2种或其以上混合使用。
此外，粘结剂或粘附剂可使用溶剂型和无溶剂型中的任何一种形式。形成粘结层和粘附层时，通过采用上述粘结剂或粘附剂以及采用通常的涂布技术等实施。此外，粘结层或粘附层还可含有着色剂。其可通过向粘结剂和粘附剂中混合含有例如颜料或染料等色素的着色剂，容易地达到。在含有着色剂的情况下，优选作为层压膜，其在550nm的光线透过率在40～80％的范围内。此外，特别是在采用其作为等离子体显示滤色器用的情况下，由于透过光为中性灰色或蓝灰色，要求提高显示器发光色的色纯度和反差，因此可通过含有色素的粘结层或粘附层达到。
对构成保护膜的树脂原材料没有特别限制，可从公知的塑料基材薄膜中所用的树脂原材料中适宜地选择使用。作为这种保护膜用树脂原材料，可列举出从酯、乙烯、丙烯、二醋酸酯、三醋酸酯、苯乙烯、碳酸酯、甲基戊烯、砜、醚乙基酮、尼龙、丙烯酸酯、脂环族烯烃类等中选出的一种为构成单元的聚合物或共聚物。
这些树脂原材料中，优选使用从聚乙烯、聚丙烯等的乙烯、丙烯类、聚对苯二甲酸乙二醇酯等的酯类中选出的一种为构成单元的聚合物或共聚物。特别是从透明性、机械特性方面出发，特别优选以酯类为构成单元的聚合物或共聚物形成的基材薄膜。
本发明的显示用滤光器可通过将上述显示用薄膜的粘结层或粘附层贴付在液晶显示装置(LCD)、等离子体显示器面板(PDP)、电致发光显示器(ELD)、阴极射线管显示装置(CRT)、个人数字助理(PDA)等的显示器面的显示面和/或其前面板的表面上获得。
通过本发明显示用薄膜的粘结层和粘附层贴付在液晶显示装置(LCD)、等离子体显示器面板(PDP)、电致发光显示器(ELD)、阴极射线管显示装置(CRT)、个人数字助理(PDA)等显示器面的显示面上，可获得显示器。
对于将上述方式制造出的层压膜和显示器显示面和/或其前面板表面进行粘结的方式没有特别限制，例如可通过在显示器显示构件或基材薄膜(a)上涂布粘结层或粘附层并使其干燥，将层压膜的树脂层(d)作为表面层，采用压辊等进行贴合，使得显示器显示构件和基材薄膜(a)通过粘结层或粘附层粘结，由此可获得由层压膜形成的显示器用滤色器或显示器。
图中对可使用本发明的层压膜的等离子体显示器前面板保护板(PDP前面板)的实施形式进行了说明，但是本发明不受此限制。图2为本发明PDP前面板的简略剖面图。层压膜1通过基材薄膜2一侧面上的粘结层或粘附层10层压在玻璃、丙烯酸、聚碳酸酯等的透明基板9的两个表面上。
此外，在等离子体显示器前面板保护板的透明基板9和粘结层10之间可设置电磁波遮蔽层、近红外遮蔽层、紫外线遮蔽层等的层。
以下对本发明中的评价方法、测定方法进行说明。
采用#0000的钢丝棉，在施加250gf/cm2的荷重的条件下往复10次时观察擦伤的根数。根据擦伤的级别将硬度分为5个阶段(级别5无擦伤、级别41～5根擦伤、级别35～10根擦伤、级别210根或其以上擦伤、级别1全面擦伤)。
采用スガ试验机制造的直读浊度计算机进行测定。
采用三菱油化制造的HIRESTA测定表面电阻值。
采用日立计测制造的分光光度计U-3410进行测定。试样薄膜是用320～400的耐水砂纸使内表面均匀地附上擦伤，涂布黑色涂料，形成为从内表面完全不反射的状态，对树脂层(d)侧表面以6～10度的入射光角度进行测定。另外，在此反射率最小值显示于波长380nm≤λ≤780nm的范围中。
用Digital Instruments社制造的原子间力显微镜对薄膜的表面形状进行观察，算出表面粗糙度。
实施例以下通过举出实施例和比较例对本发明进一步具体说明。另外，下文中的“份”和“％”没有特别说明的话，为重量基准。
图1为层压膜的示意剖面图，层压膜1，在基材薄膜2上层压有硬涂层3、导电层4和树脂层5。
实施例1图1所示结构的层压膜由以下方法制造。
(硬涂层3的形成)在厚度为188微米的聚酯薄膜(东丽株式会社制造、ルミラ)形成的基材薄膜2的面上采用辊涂布机涂布包含多官能丙烯酸类树脂的涂料(固体成分50％)(JIS株式会社制造、KZ7224)，在80℃下干燥后，照射1.0J/cm2的紫外线，使涂层固化，由此设置厚度为约10.0微米的硬涂层3。
(导电层4的形成)将3份包含含锡氧化铟颗粒(ITO)的涂料(固体成分35.7％、多官能氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯/ITO颗粒(平均一次粒径30nm)＝18/82)(大日本涂料株式会社制造、EI-3)溶解在10份正丁醇、7份异丙醇中。采用凹版涂布机在硬涂层3的表面上涂布通过搅拌混合物所得的涂布液，在80℃下干燥后，照射1.0J/cm2的紫外线，使涂层固化，由此设置厚度为约0.1微米、折射率n＝1.682的导电层4。
(树脂层5的形成)将40份包含含氟共聚物(氟代烯烃/乙烯基醚共聚物)的涂料(固体成分3％)(JSR株式会社制造、JN-7215)、1份胶态二氧化硅分散液(平均一次粒径13nm、固体成分30％、甲基异丁基酮分散液)和0.1份胶态二氧化硅分散液(平均一次粒径100nm、固体成分30％、甲基异丁基酮分散液)通过搅拌调制为涂布液。将该涂布液用凹版涂布机涂布在导电层4上，在150℃下干燥、使其固化，形成厚度为约0.1微米、折射率n＝1.42的树脂层5。制作出具有图1所示层叠结构的层压膜。
在所得层压膜1的树脂层5表面上进行反射率、表面电阻值、钢丝棉硬度的测定。结果示于表1。
表1
实施例2按照与实施例1一样的方法形成图1所示结构的层压膜中的基材薄膜2、硬涂层3、导电层4。此后，将40份包含含氟共聚物(氟代烯烃/乙烯基醚共聚物)的涂料(固体成分3％)(JSR株式会社制造、JN-7215)、1份胶态二氧化硅分散液(平均一次粒径13nm、固体成分30％、甲基异丁基酮分散液)和0.1份胶态二氧化硅分散液(平均一次粒径50nm、固体成分30％、甲基异丁基酮分散液)通过搅拌调整为涂布液。将该涂布液用凹版涂布机涂布在导电层4上，在150℃下干燥、使其固化，形成厚度为约0.1微米、折射率n＝1.42的树脂层5。评价结果一并示于表1。
实施例3加入13份胶态二氧化硅分散液(平均一次粒径13nm、固体成分30％、异丙醇分散液)、3份胶态二氧化硅分散液(平均一次粒径50nm、固体成分30％、甲基异丁基酮分散液)、11份硅烷偶合剂(四乙氧基硅烷、固体成分100％)、27.28份包含烷氧基甲硅烷基的氟树脂(信越化学社制造KBM7803)、6.82份甲醇、2.25份0.01N盐酸、0.2份乙酰基乙酰氧基铝和230份异丙醇，通过搅拌调整为涂布液。将该涂布液在室温下放置24小时后，用凹版涂布机涂布在导电层4上，在150℃下干燥、使其固化，形成厚度为约0.1微米、折射率n＝1.42的树脂层5。制作出具有图1所示层叠结构的层压膜。
实施例4按照与实施例1一样的方法形成如图1所示结构的层压膜中的基材薄膜2、硬涂层3。此后，将3份包含含锡氧化锑颗粒(ATO)的涂料(固体成分10％、多官能氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯/ATO颗粒)(JSR株式会社制造、TU-4005)溶解在7份甲基异丁酮中。采用凹版涂布机在硬涂层2的表面上涂布通过搅拌混合物所得的涂布液，在80℃下干燥后，照射1.0J/cm2的紫外线，使涂层固化，由此形成厚度为约0.1微米、折射率n＝1.65的导电层4。此后，采用与实施例3一样的方法在导电层4上用凹版涂布机形成树脂层5。评价结果示于表1。
比较例1按照与实施例1一样的方法形成如图1所示结构的层压膜中的基材薄膜2、硬涂层3和导电层4。此后，将40份包含含氟共聚物(氟代烯烃/乙烯基醚共聚物)的涂料(固体成分3％)(JSR株式会社制造、JN-7215)、0.3份二氧化硅颗粒(平均一次粒径1.4微米)通过搅拌调整为涂布液。将该涂布液用凹版涂布机涂布在导电层4上，在150℃下干燥、使其固化，形成厚度为约0.1微米、折射率n＝1.42的树脂层5。评价结果一并示于表1。
比较例2按照与实施例1一样的方法形成如图1所示结构的层压膜中的基材薄膜2、硬涂层3和导电层4。此后，将40份包含含氟共聚物(氟代烯烃/乙烯基醚共聚物)的涂料(固体成分3％)(JSR株式会社制造、JN-7215)、用凹版涂布机涂布在导电层4上，在150℃下干燥、使其固化，形成厚度为约0.1微米、折射率n＝1.42的树脂层5。评价结果一并示于表1。
比较例3按照与实施例1一样的方法形成如图1所示结构的层压膜中的基材薄膜2、硬涂层3。然后，将23份ITO溶胶(平均一次粒径为30nm、固体成分30％、甲基乙基酮分散液)、0.5份2-甲基1[4-甲基硫代苯基]-2-吗啉丙-1-酮溶解在310份的1-甲氧基-2-丙醇中，通过搅拌调整涂布液。采用凹版涂布机在硬涂层3的表面上涂布该涂布液，在80℃下干燥后，照射紫外线，使涂层固化，由此形成厚度为约0.1微米、折射率n＝2.0的导电层4。然后，按照与实施例1一样的方法采用凹版涂布机在导电层4上形成树脂层5。评价结果一并示于表1。
实施例5为了将实施例1所得的层压膜贴合在玻璃上，在未设置树脂层(d)的面上，采用AGR-100(日本化药株式会社制造)作为粘结剂与玻璃贴合后，用1000mj/cm2的紫外线照射量使其固化。试验结果一并示于表1。
实施例1～4，5所有的评价项目均获得良好结果。与此相对的是比较例1由于树脂层中的二氧化硅颗粒的粒径过大，使得平均表面粗度变高，透明性和防反射性不足。比较例2由于在树脂层中未添加二氧化硅颗粒，在表面上未形成凹凸结构，因此钢丝棉硬度不足。比较例3在导电层中未配合丙烯酸树脂，因此导电性固化不足，钢丝棉的硬度不足。
实施例6为了将实施例1所得的层压膜分别贴合在玻璃的两个表面上，在基材薄膜(a)的面侧上采用包含在595nm波长处具有极大吸收的色素和补正白色光色度的色素的粘合剂贴合在玻璃上，获得了等离子体显示面板用前面保护板。
实施例7在等离子体显示面板的前面设置实施例6的等离子体显示面板用前面保护板时，获得反射较少、显示良好图像的等离子体显示器。
产业上的可利用性本发明的层压膜，表面反射率低，耐摩擦性优异，具备适于作为防反射膜的特性。此外，该层压膜防带电性高，层压膜的可弯曲性也优异，因此适于作为显示表面上使用的防反射膜。
权利要求
1.一种层压膜，其是通过在基材薄膜(a)的至少一个表面上层叠包含(甲基)丙烯酸酯化合物的硬涂层(b)、包含导电性颗粒的导电层(c)、含有氟化合物的树脂层(d)形成的层压薄膜，其特征为，在树脂层(d)的表面上具有微细的凹凸结构，该凹凸结构的算术平均粗糙度Ra值在0.003微米～0.025微米，并且该树脂层(d)侧的层压膜表面的反射率不足2％。
2.如权利要求1所述的层压膜，其中，层压膜的浊度不足3％。
3.如权利要求1所述的层压膜，其中，基材薄膜(a)是选自酯、烯烃、醋酸酯、苯乙烯、碳酸酯、砜、醚乙基酮、二酰亚胺、氟、尼龙、丙烯酸酯、脂环族烯烃的一种作为构成单元的聚合物。
4.如权利要求3所述的层压膜，其中，基材薄膜(a)是选自酯、醋酸酯、丙烯酸酯的一种作为结构单元的聚合物。
5.如权利要求1所述的层压膜，其中，导电层(c)的层厚为0.01微米～1.0微米。
6.如权利要求1所述的层压膜，其中，导电层(c)的导电性颗粒为金属氧化物微粒。
7.如权利要求1所述的层压膜，其中，导电层(c)的导电性颗粒的含量为70重量％～90重量％。
8.如权利要求1所述的层压膜，其中，树脂层(d)由在主链上具有乙烯基醚结构的含氟类共聚物构成。
9.如权利要求1所述的层压膜，其中，树脂层(d)含有粒径为0.001微米～0.2微米的二氧化硅微粒。
10.如权利要求7所述的层压膜，其中，二氧化硅微粒由2种成分或其以上的粒径分布。
11.如权利要求1所述的层压膜，其中，树脂层(d)含有用以下通式表示的硅烷偶合剂或其水解产物或其反应物构成，通式R(1)aR(2)bSiX4-(a+b)其中，R(1)、R(2)分别表示烷基、链烯基、烯丙基、或具有卤基、环氧基、氨基、巯基、甲基丙烯酰氧基、或氰基等的烃基，X为选自烷氧基、烷氧基烷氧基、卤基或酰氧基的可水解的取代基，a，b分别为0、1或2，并且a+b为1，2或3。
12.如权利要求1所述的层压膜，其中，树脂层(d)的氟化物含有烷氧基甲硅烷基。
13.采用权利要求1所述的层压膜的显示用薄膜。
14.采用权利要求13所述的显示用薄膜的显示器。
15.采用权利要求1所述的层压膜的显示用过滤器。
16.采用权利要求15所述的显示用过滤器的等离子体显示器面板用前面保护板。
17.采用权利要求16所述的等离子体显示器面板用前面保护板的等离子体显示器。
全文摘要
在层压了低折射率和高折射率的薄膜的防反射膜中，通过提高低折射率层的表面硬度，改善表面耐摩擦性，提供低反射且透明性优异的适于作为防反射膜使用的层压膜，以及采用了该层压膜的显示器用滤光器和显示器。本发明提供如下的层压膜以及采用该层压膜的显示器用滤光器和显示器，其中层压膜是通过在基材薄膜(a)的至少一个表面上层叠包含(甲基)丙烯酸酯化合物的硬涂层(b)、包含导电性颗粒的导电层(c)、含有氟化合物的树脂层(d)形成的层压薄膜，其中，在树脂层(d)的表面上具有微细的凹凸结构，该凹凸结构的算术平均粗糙度Ra值在0.003微米～0.025微米，并且该层压膜表面的反射率不足2％。
文档编号G02B1/11GK1643405SQ03806708
公开日2005年7月20日 申请日期2003年3月28日 优先权日2002年3月29日
发明者河野真人, 前田清成 申请人:东丽株式会社