专利名称：：放射线敏感性树脂组合物、叠层体及其制造方法
技术领域：
：本发明涉及适合使用于制造集成电路元件、液晶显示元件、固体摄像元件等电子部件和光学部件的放射线敏感性树脂组合物，在基板上叠层由该组合物制成的树脂膜而构成的叠层体及该叠层体的制造方法。
背景技术：
：在集成电路元件、液晶显示元件、固体摄像元件、彩色滤光片、黑色矩阵等电子部件中，设置着用于防止其劣化和损伤的保护膜、用于将元件表面或配线平坦化的平坦化膜、用于保持电绝缘性的电绝缘膜等各种树脂膜。另外，在薄膜晶体管型液晶用显示元件和集成电路元件等元件中，为了将被配置为层状的布线之间绝缘，设置着作为层间绝缘膜的树脂膜。以往，作为用于形成这些树脂膜的树脂材料，通常使用环氧树脂等热固性树脂材料。但是，随着近年布线或设备的高密度化，对于这些树脂材料，也要求开发能够形成微细图案、低介电性等电特性优异的新型放射线敏感性树脂组合物。另外，在形成有图案的树脂膜(图案化树脂膜)中，不仅要求截面形状为具有棱角(角張o/i)的形状，而且根据用途，要求有平緩(&fb力、)形状的图案。作为其例子，可以列举作为传真机、电子复印机、固体摄像元件等晶载彩色滤光片(才:/于、;/:7。力，一:7一少夕一)的成像光学类材料或光纤维插接件(〕氺少夕)的光学类材料的具有2~10Mm左右透镜直径的微型透镜。作为使用放射线敏感性树脂组合物形成微型透镜的一个例子，可以举出以下方法，在形成圆点图案(卜Z夕一y)后，通过加热处理使图案变形，直接作为透镜使用。这样的微型透镜，在其形成工序或布线等周边装置的形成工序中，进行高温过热处理(熔体流动)。此时，在由放射线敏感性树脂形成的树脂膜的耐热形状保持性不足时，透镜形状变形，不能维持图案形状，有时会变得不能发挥作为微型透镜功能。另外，该树脂膜在熔体流动时的加热温度不具有偏离最佳温度的温度中，宽广至可以形成所希望形状的程度的温度界限时，制品的稳定生产、成品率会下降。另夕卜，在层间绝缘膜等的其它树脂膜中，在需要通过熔体流动而使图案变形的工序时，为了稳定地形成所希望的变形图案，该膜的耐热形状保持性是重要的。另一方面，在集成电路元件和液晶显示装置等的制造中，在硅基板、玻璃基板、铝、钼、铬等金属膜基板，ITO(锡掺杂氧化铟)等金属氧化膜基板等各种基板上形成放射线敏感性树脂组合物的薄膜，通过掩模图案对其照射紫外线等活性放射线后，显影处理、以得到的抗蚀图案为掩模，通过蚀刻处理基板，形成微细的图案。在这样的光刻法中，放射线敏感性树脂组合物可以作为抗蚀材料使用，作为其特性，要求高析像性。在以上的情况下被开发的放射线敏感性树脂组合物，已知有各种组合物，但作为含硅化合物的放射线敏感性树脂组合物，例如，提出以下组合物。在专利文献1中公开了包含有机硅烷类化合物和含有甲硅烷基的环烯烃类聚合物的环烯烃类聚合物组合物。另外，公开了在环烯烃类聚合物组合物中，换算为每100重量份聚合物成分时，有机硅烷类化合物达到900重量份左右，即，相对于该聚合物成分，可以能够大量含有。在专利文献2中公开了包含不饱和羧酸和/或不饱和酸酐、含有环氧基的不饱和化合物和烯烃类不饱和化合物的共聚物、及特定的酚化合物和1,2-萘醌二叠氮基磺酰卤的缩聚物的放射线敏感性树脂组合物。另外，公开了可以使用官能性硅烷偶合剂作为用于提高与基体粘接力的粘接助剂，放射线敏感性树脂组合物中的官能性硅烷偶合剂的比例，从能够抑制在显影工序中的显影残留的观点出发，每100重量份共聚物成分应该是20重量份以下。在专利文献3中公开了由含有重氮鐵盐基团的聚合物等感光性树脂和胶体二氧化硅等无机微粒构成的放射线敏感性树脂组合物。无机微粒能够大大地有助于氧等离子体耐性、耐热性、耐干蚀刻性的改善，作为无机^L粒，二氧化硅(胶体二氧化硅等)特别适合。另外公开了在感光性树脂组合物中，换算为每100重量份感光性树脂，无机微粒达到1000重量份左右，即，相比于该树脂能够大量地含有。另外，感光性树脂没有记载环烯烃类聚合物。在专利文献4中，还公开了在由碱可溶性树脂和烷氧基曱基三聚氰酰胺及产酸剂构成的抗蚀剂中添加胶体二氧化硅而成的抗蚀剂组合物。并且公开了二氧化硅溶胶能够有助于提高干蚀刻耐性，但关于烷氧基硅烷的使用没有记载。〔专利文献1〕特开2002-146145号公报〔专利文献2〕特开2004-170566号公报〔专利文献3〕特开平11-327125号公报〔专利文献4〕特开平5-216232号公报
发明内容但是，以上的含有硅化合物的放射线敏感性树脂组合物，在某种程度上能够满足该组合物所要求的耐热性、透明性、粘着性、图案形成性、耐干蚀刻性、低介电性、抗蚀特性等各项特性，但除了得到的树脂膜耐热形状保持性有时不充分以外，在形成图案化树脂膜时，有时熔体流动时的温度界限窄，不能期望进行图案化而得到的制品的稳定生产和良好的成品率。因此，本发明的目的在于提供一种放射线敏感性树脂组合物、将由该组合物制成的膜叠层在基板上构成的叠层体及其制造方法，所述放射线敏感性树脂组合物，使用其得到的树脂膜的耐热形状保持性优异、形成图案化树脂膜时的熔体流动时的温度界限宽，而且，也适合制成抗蚀材料。本发明人为解决上述课题而反复深入研讨的结果发现，采用以下的放射线敏感性树脂组合物可以达到上述目的，所述组合物含有环烯烃类聚合物、放射线敏感性化合物、和有机硅烷类化合物、特别是烷氧基硅烷化合物，相比于上述环烯烃类聚合物，含有少量的该烷氧基硅烷化合物，具体地，相对100重量份该聚合物含有10~60重量份该烷氧基硅烷化合物，基于该见解完成了本发明。即，本发明涉及(1).一种放射线敏感性树脂组合物，该组合物包含环烯烃类聚合物、放射线敏感性化合物、以及相对于100重量份所述环烯烃类聚合物为10~60重量份的烷氧基硅烷化合物。(2).按照(l)所述的放射线敏感性树脂组合物，其还含有交联剂。(3).按照(1)或(2)所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，环烯烃类聚合物含有质子性极性基团。(4).按照(1)(3)中任意1项所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，烷氧基硅烷化合物含有与质子性极性基团反应的官能团。(5).—种叠层体制造方法，该方法包括使用(1)(4)中任意1项所述的放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成树脂膜的工序。(6).按照(5)所述的叠层体制造方法，该方法还包括对树脂膜照射活性放射线，在树脂膜中形成潜像图案的工序、以及通过使树脂膜接触显影液，使潜像图案显影，将树脂膜图案化的工序。(7).按照(6)所述的叠层体制造方法，该方法还包括加热形成在基板上的图案化树脂膜，使图案形状变形的工序。(8).按照(5)-(7)中任意1项所述的叠层体制造方法，该方法还包括将形成在基板上的树脂膜交联的工序。(9).一种叠层体，其是在基板上叠层由(1)(4)中任意1项所述的放射线敏感性树脂组合物制成的树脂膜而形成的。(10).按照(9)所述的叠层体，其中，树脂膜是图案化的树脂膜。(11).一种电子部件或光学部件，其包括(9)或(10)所述的叠层体。具体实施例方式本发明的放射线敏感性树脂组合物含有环烯烃类聚合物、放射线敏感性化合物、以及相对于100重量份上述环烯烃类聚合物为10-60重量份烷氧基硅烷化合物。本发明的放射线敏感性树脂组合物的特征之一是，以上述规定量含有有机硅烷类化合物、特别是烷氧基硅烷化合物。推测因为具有这样的构成，所以在由该组合物制成的树脂膜中能够生成由烷氧基硅烷化合物引起的交联结构(一Si—0—Si—)，该交联结构有助于树脂膜最佳交联结构的形成。其结果是，认为可以得到本发明所希望的效果。在本说明书中，有时将环烯烃类聚合物称为"树脂"，将含有环烯烃类聚合物的膜称为"树脂膜"。另外，在本说明书中，所谓"耐热形状保持性优异"是指，将树脂膜图案化得到的图案化树脂膜(一次图案化树脂膜)进行熔体流动，使图案形状变形，形成图案化树脂膜(二次图案化树脂膜)时，起初的图案形状不过度变形，而可以容易形成所希望的图案形状；另外，在二次图案化树脂膜形成后，该膜暴露于熔体流动时的温度以上的温度时，此时，对所希望的图案形状的变形具有耐受性，综合地称为图案形状的热控制性高。在这里，所谓"变形"是指，在图案化树脂膜的加热前后对比图案化形状时，图案形状发生以目测能够识别程度的变化。另一方面，所谓"温度界限宽，，是指以将一次图案化树脂膜进行熔体流动形成二次图案化树脂膜时的最佳温度为中心的加热温度幅度宽。本发明的放射线敏感性树脂组合物的这些性质可以按照在后述实施例中记载的方法评价。另外，在本说明书中，在"图案化树脂膜"中，只要没有特别的情况，则包括一次图案化树脂膜和二次图案化树脂膜。本发明中的所谓环烯烃类聚合物是指，使环烯烃单体聚合而得到并具有该单体单元作为结构单元的聚合物。这样的环烯烃类聚合物也可以具有以环烯烃单体以外的单体单元为结构单元。作为环烯烃类聚合物的具体例子，可者并称为环烯烃单体的开环(共)聚合物〕、环烯烃单体和乙烯基脂环族烃单体(具有乙烯基的脂环族烃)或与乙烯基芳香族烃单体(具有乙烯基的芳香族烃)的加成共聚物、及这些的加氢物。另外，虽然不含有环烯烃单体单元为结构单元，但具有和环烯烃单体单元同一结构的结构单元的聚合物，也可以使用于本发明的放射线敏感性树脂组合物，以代替环烯烃类聚合物，由此也能够得到所希望的效果。作为这样的聚合物的具体例子，可以列举乙烯基脂环族烃单体的聚合物或乙烯基脂环族烃单体的共聚物〔以下，将两者并称为乙烯基脂环族烃单体的(共)聚合物〕，乙烯基脂环族烃单体与其它单体的共聚物和这些的加氬物；以及乙烯基芳香族烃单体的聚合物或乙烯基芳香族烃单体的共聚物〔以下，将两者并称为乙烯基芳香族烃单体的(共)聚合物〕的加氢物、还有乙烯基芳香族烃单体和其它单体的共聚物的加氬物。这些聚合物也可以是开环聚合物和加成聚合物中的任意一种。作为在本发明中使用的环烯烃类聚合物，其中优选环烯烃单体的开环(共)聚合物及其加氢物、环烯烃单体与乙烯基脂环族烃单体或乙烯基芳香族烃单体的加成共聚物及其加氢物、以及乙烯基芳香族烃单体的(共)聚合物的加氢物，更优选环烯烃单体的开环(共)聚合物的加氢物。用于得到环烯烃类聚合物的环烯烃单体，即具有环结构的烯烃单体没有特别的限定，作为第1组，可以列举没有极性基团的环烯烃单体(a)。作为其具体例子，可以列举二环[2.2.1]庚-2-烯(常用名降冰片烯)、5-乙基—二玉不[2.2.1]庚—2—》希、5—丁基一二J不[2.2.1]庚—2—丈希、5-乙叉基-二环[2.2.1]庚-2-烯、5-曱叉基-二环[2.2.1]庚-2-烯、5-乙烯基-二环[2.2.1]庚-2-烯、三环[4.3.0.12'5]癸-3，7-二烯(常用名二环戊二烯)、四环[8.4.0.11U4.03'7]十五碳-3,5,7,12,11-五烯、四环[4.4.0.12，5.17'1Q]癸-3-烯(常用名四环十二碳烯)、8-曱基-四环U.4.0.12，5.17，10]十二碳-3-烯、8-乙基-四环[4.4.0.12'5.17'10]十二碳-3-烯、8-曱叉基-四环[4.4.0.12'5,17'10]十二碳-3-烯、8-乙叉基-四环[4.4.0.12，5.17,1。]十二碳-3-烯、8-乙烯基-四环[4.4.0.12，5.17，10]十二碳-3-烯、8-丙烯基-四环[4.4.0.12'5.1"0]十二碳-3-烯、五环[6.5丄13，6.02，7.09，13]十五碳-3，10-二烯、环戊烯、环戊二烯、1，4-桥亚曱基-1,4,4a,5,10,10a-六氢蒽、8-苯基-四环[4.4.0.12'5.17，10]十二碳-3-烯、四环[9.2.1.02J°.03'8]十四碳-3,5，7，12-四烯(也称为1,4-桥亚曱基-l,4，4a,9a-四氢-9H-芴)、五环[7.4.0.l3,6.110,13.02,7]十五碳-4，11-二烯、五环[9.2丄14'7.02'10.03，8]十五碳-5,12-二烯等。这些环烯烃单体既可以分别单独z使用，也可以组合2种以上使用。第2组环烯烃单体可以列举具有极性基团的环烯烃单体。这些具有极性基团的环烯烃单体既可以分别单独使用，也可以组合2种以上使用。极性基团可以区分表示为质子性极性基团和除此以外的极性基团。因此，具有极性基团的环烯烃单体可以区分表示为具有质子性极性基团的环烯烃单体(b)和具有质子性极性基团以外的极性基团(非质子性极性基团)的环烯烃单体(c)。在本说明书中，所谓质子性极性基团是指，在碳原子以外的原子上直接键合氢原子的原子团。这里，作为碳原子以外的原子，优选属于周期表第15族和第16族的原子，更优选属于周期表第15族和第16族第1和第2周期的原子，更优选氧原子、氮原子或硫原子，特别优选氧原子。作为质子性极性基团的具体例子，可以列举，羧基(羟基羰基)、磺酸基、磷酸基、羟基等具有氧原子的极性基团；伯氨基、仲氨基、伯酰胺基、仲酰胺基(酰亚胺基)等具有氮原子的极性基团；硫醇基(千才一少基)等具有硫原子的极性基团等。其中，优选具有氧原子的极性基团，更优选羧基。作为具有质子性极性基的环烯烃单体(b)的具体例子，可以列举5-羟基羰基二环[2.2.1]庚_2-烯、5-甲基-5-羟基羰基二环[2.2.1]庚一2—烯、5—，复曱基一5—羟基^炭基二环[2.2.1]庚—2—烯、5—夕卜—6—内-二羟基羰基二环[2.2.1]庚-2-烯、8-羟基羰基四环[4.4.0.12，5.17'10]十二石友—3—烯、8—曱基_8—羟基丰发基四环[4.4.0.12'5.17'10]十二石友—3—烯、8-夕卜-9-内-二羟基羰基四环[4.4.0.12，5.17，10]十二碳-3-烯等具有羧基的环烯烃；5-(4-羟基苯基)二环[2.2.1]庚-2-烯、5-曱基-5-(4-羟基苯基)二环[2.2.1]庚-2-烯、8-(4-羟基苯基)四环[4.4.0.12，5.17.10]十二碳-3-烯、8-曱基-(4-羟基苯基)四环[4.4.0.12，5.17，1。]十二碳-3-烯等具有羟基的环烯烃等。其中，优选具有羧基的环烯烃。作为非质子性极性基团的具体例子，可以列举，酯基(总称烷氧羰基和芳氧羰基)、N-取代酰亚胺基、环氧基、卣原子、氰基、羰氧羰基(二羧酸的酸酐残基)、烷氧基、羰基、叔氨基、磺基、卤原子、丙烯酰基等。其中，优选酯基、N-取代酰亚胺基、氰基和卣原子，更优选是酯基和N-取代酰亚胺基。特别优选N-取代酰亚胺基。作为具有非质子性极性基团的环烯烃单体(c)的具体例子，具体例示于以下。作为具有酯基的环烯烃，例如，可以列举，5-乙酰氧基二环[2.2.1]庚—2-烯、5—曱氧基l炭基二环[2.2.1]庚—2—烯、5-曱基—5-曱氧基,炭基二^"、[2.2.1]庚—2—丈希、8—乙酰氧基四5不[4.4.0.12—5.17，10]十二石友—3-烯、8-曱氧羰基四环[4.4.0.12，5.17，1。]十二碳-3-烯、8-乙氧羰基四环[4.4.0.12,5.17，10]十二碳-3-烯、8-正丙氧羰基四环[4.4.0.12'5.17'10]十二,友—3—;#、8—异丙氧l炭基四5不[4.4.0.12'5.17'10]十二石友—3—火希、8—正丁氧羰基四环[4.4.0.12'5.17'10]十二碳-3-烯、8-甲基-8-曱氧羰基四环[4.4.0.12，5.17，10]十二碳-3-烯、8-曱基-8-乙氧羰基四环[4.4.0.12，5.17,10]十二碳-3-烯、8-曱基-8-正丙氧羰基四环[4.4.0.12'5.17'10]十二碳-3-烯、8-曱基-8-异丙氧基羰基四环[4.4.0.12，5.17'1Q]十二碳-3-烯、8一曱基—8—正丁氧丰炭基四环[4.4.0.12，5.17,10]十二石友一3—烯、8-(2,2,2—三氟乙氧羰基)四环[4.4,0.12'5.17'1()]十二碳-3-烯、8-曱基_8-(2,2,2-三氟乙氧羰基)四环[4.4.0.12，5.17，1。]十二碳-3-烯等。作为具有N-取代酰亚胺基的环烯烃，例如，可以列举N-(4-苯基)-(5-降冰片烯-2,3-二羧基酰亚胺)等。作为具有氰基的环烯烃，例如，可以列举8-氰基四环[4.4.0.12，5.17,10]十二石友—3—烯、8—曱基—8—氰基四环[4.4.0.12'5.17'10]十二》友—3—烯、5-氰基二环[2.2.1]庚-2-烯等。作为具有卣原子的环烯烃，例如，可以列举8-氯四环[4.4.0.12'5.17，10]十二》友一3-烯、8—曱基—8—氯四环[4.4.0.12，5.17,10]十二石友—3-烯等。另外，作为上述乙烯基脂环式烃单体(d)的例子，可以列举乙烯基环丙烷、乙烯基环丁烷、乙烯基环戊烷、乙烯基环己烷、乙烯基环庚烷等乙烯基环烷；3-曱基-1-乙烯基环己烷、4-曱基-1-乙烯基环己烷、1-苯基-2-乙雄基环丙烷、1,1-二苯基-2-乙烯基环丙烷等烷基取代的乙烯基环烷等。作为乙烯基芳香族烃单体(e)的例子，可以列举苯乙烯、1-乙烯基萘、2-乙烯基萘、3-乙烯基萘等乙烯基芳香族类；3-曱基苯乙烯、4-丙基笨乙烯、4-环己基苯乙烯、4-十二烷基苯乙烯、2-乙基-4-千基苯乙烯、4-(苯基丁基)苯乙烯等烷基取代的乙烯基芳香族类；间二乙烯基苯、对二乙烯基苯、二(4-乙烯基苯基)曱烷等多官能乙烯基芳香族类等。作为乙烯基脂环式烃单体(d)和乙烯基芳香族烃单体(e)以外的、能与环烯烃共聚的单体的代表性例子，可以列举链烯烃(f)。作为链烯烃(f)的例子，可以列举乙烯、丙烯、1-丁烯、1-戊烯、1-己烯、3-曱基-l-丁烯、3-曱基—l-戊烯、3_乙基-1-戊烯、4-曱基-1-戊烯、4-甲基—l一己烯、4,4—二曱基—1—己烯、4,4—二曱基_1—戊烯、4一乙基-1-己烯、3-乙基-1-己烯、1-辛烯、1-癸烯、1-十二碳烯、l-十四碳歸、1-十六碳烯、1-十八碳烯、1-二十碳烯等碳原子数2~20的a-烯烃；1,4-己二烯、4-曱基-1,4-己二烯、5-曱基-1，4-己二烯、1,7-辛二烯等非共轭二烯等。这些单体可以分别单独或组合2种以上使用。另外，链烯烃(f)也可以作为能与乙烯基脂环族烃单体(d)和乙烯基芳香族烃单体(e)共聚的单体使用。上述各单体的聚合方法，可以按照通常方法，例如采用开环聚合法和加成聚合法。作为聚合催化剂，例如，优选使用钼、钌和锇等的金属配位化合物。这些聚合催化剂可以分别单独或组合2种以上使用。例如，在用于得到环烯烃单体的开环(共)聚合物时，以聚合催化剂中的金属化合物环烯烃单体的摩尔比计，聚合催化剂的量通常是i:ioo~i:2,000,000、优选i:500~i:i,ooo,ooo、更优选i:i,ooo~i:500,000的范围。由上述聚合得到的环烯烃类聚合物，可以根据希望进行加氢。加氢通常使用加氬催化剂进行。作为加氬催化剂，例如，可以利用在烯烃化合物的加氢时通常使用的加氢催化剂。具体地，可以利用齐格勒型的均一体系催化剂、贵金属配位化合物催化剂和担载型贵金属类催化剂等。这些加氢催化剂中，从不会引起质子性极性基等官能团发生变性等副反应，并可以对聚合物中的碳-碳不饱和键选择性地加氬的观点来看，优选铑和钌等贵金属的配位化合物催化剂，更优选配位了电子供给性高的含氮杂环卡宾化合物或膦类的钌催化剂。另外，作为环烯烃类聚合物的氢化率，优选80%以上，更优选卯％以上。在本发明中，环烯烃类聚合物可以分别单独使用或组合使用2种以上组成等不同的聚合物。作为在本发明中使用的环烯烃类聚合物，优选具有极性基团的环烯烃类聚合物。在具有极性基团的环烯烃类聚合物中所含的极性基团数没有特别的限定，极性基可以包括相同或不同种类的极性基。另外，极性基团既可以结合在环烯烃单体单元上，也可以结合在环烯烃单体以外的单体单元上，但优选结合在环烯烃单体单元上。聚合物。通过使用具有质子性极性基的环烯烃类聚合物(以下，有时称为"含有质子性极性基团的环烯烃类聚合物")，得到的放射线敏感性树脂组合物对放射线的敏感度提高，因此是适合的。含有质子性极性基团的环烯烃类聚合物，可以分别单独使用或组合使用2种以上组成等不同的聚合物。在含有质子性极性基团的环烯烃类聚合物中，含有质子性极性基团的单体单元和该单体以外的单体单元的比例(含有质子性^L性基的单体单元/该单体以外的单体单元)，通常，重量比是100/0~10/90，优选90/10-20/80、更优选80/20-30/70的范围。作为本发明中使用的含有质子性极性基团的环烯烃类聚合物的优选的制造方法，可以列举聚合具有质子性极性基的环烯烃单体(b)、根据希望进行加氢的方法。根据希望，具有质子性极性基团的环烯烃单体(b)可以与能与其共聚的单体(例如，上述单体(a)、(c)~(f))共聚。另夕卜，在本发明中使用的含有质子性极性基团的环烯烃类聚合物，可以由公知的方法，在没有质子性极性基团的环烯烃类聚合物中导入质子性极性基团后，根据希望，进行加氢的方法。加氢也可以对质子性极性基团导入前的聚合物进行。作为用于向没有质子性极性基团的环烯烃类聚合物导入质子性极性基团的改性剂，通常可以使用在一分子内具有与质子性极性基团具有反应性的碳-碳不饱和键的化合物。作为这样的化合物的具体例子，可以列举丙烯酸、曱基丙烯酸、当归酸、惕各酸、油酸、反油酸、芥酸、巴西烯酸、马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸、衣康酸、阿托酸、肉桂酸等不饱和羧酸；烯丙醇、曱基乙烯基曱醇、丁烯醇、曱代烯丙醇、1-苯乙烯-1-醇、2-丙烯-l-醇、3—丁烯_1—醇、3_丁烯一2—醇、3_甲基_3_丁烯一1_醇、3—甲基—2—丁烯一1—醇、2—曱基一3—丁烯_2—酉享、2_曱基一3_丁烯一1一醇、4—戊烯一i—酉孚、4—曱基—4一戊烯一i—醇、2—己辨—i一酉享等不饱和醇等。改性反应可以按照通常方法，通常在自由基发生剂的存在下进行。这些改性剂可以分别单独使用或同时使用2种以上。在含有上述质子性极性基团的环烯烃类聚合物的制法中，存在于该聚合物中的质子性极性基团也可以是其前体，此时，可以通过采用光和热引起的分解、水解等化学反应，变换为质子性极性基团。例如，在将含有质子性极性基团的环烯烃类聚合物中的质子性极性基团制成羧基时，可以使用酯基作为质子性极性基团的前体，接着变换为适宜的羧基。没有质子性^l性基团的环烯烃类聚合物，例如，可以按照通常方法，使用上述单体(a)、(c)~(f)而得到。在本发明中使用的环烯烃类聚合物的重量平均分子量(Mw)通常是1，000~1,000,000、优选是1,500~100,000、更优选是2,000~10,000的范围。在本发明中使用的环烯烃类聚合物的分子量分布以重均分子量/数均分子量(Mw/Mn)比计，通常是4以下、优选是3以下、更优选是2.5以下。在本发明中使用的环烯烃类聚合物的碘值，通常是200以下，优选50以下，更优选10以下。环烯烃类聚合物的碘值如果在该范围，由本发明的放射线敏感性树脂组合物制成的树脂膜的耐热形状保持性特别优异，故适合。在本发明中使用的放射线敏感性化合物是可以吸收紫外线和电子线等放射线，引起化学反应的化合物。在本发明中，在使用具有质子性极性基团的环烯烃类聚合物时，优选可以控制该环烯烃类聚合物的碱溶解性的环烯烃类聚合物。在本发明中，作为放射线敏感性化合物，优选使用光产酸剂(光酸発生剤)。作为放射线敏感性化合物，例如，可以列举苯乙酮化合物、三芳基锍盐和醌二叠氮基化合物等叠氮基化合物等，优选叠氮基化合物，特别优选醌二叠氮基化合物。作为醌二叠氮基化合物，例如，可以使用醌二叠氮基磺酰卣和具有酚性羟基的化合物的酯化合物。作为醌二叠氮基磺酰由，可以列举1,2-萘醌二叠氮基-5-磺酰卤、1,2-萘醌二叠氮基-4-磺酰卤、1,2-苯醌二叠氮基-5-磺酰卣等。作为具有酚性羟基的化合物的代表性例子，可以列举1,1,3—三(2,5-二曱基—4一羟基苯基)—3—苯基丙》克、4，4,—[1—[4—[1-[4-羟基苯基]-1-曱基乙基]苯基]乙叉基]双酚等。作为这些以外的具有酚性羟基的化合物，可以列举2,3,4-三羟基二苯曱酮、2,3，4,4，-四羟基二苯曱酮、2-双(4-羟基苯基)丙烷、三(4-羟基苯基)曱烷、1,1,1—三(4一羟基—3—甲基苯基)乙烷、1,1,2,2—四(4一羟基苯基)乙》克、@》醛清漆树脂的低聚物、将具有1个以上酚性羟基的化合物和二环戊二烯共聚而得到的低聚物等。作为光产酸剂，除醌二叠氮基化合物以外，可以使用鐵盐、卣化有机化合物、a,a'-二(磺酰基)重氮甲烷类化合物、a-羰基-a，-磺酰基重氮甲烷类化合物、磺基化合物、有机酸酯化合物、有机酸酰胺化合物、有^L酸酰亚胺化合物等公知的化合物。这些放射线敏感性化合物，可以分别单独或组合2种以上使用。相对100重量份环烯烃类聚合物，放射线敏感性化合物的用量通常是1~100重量份，优选550重量份，更优选10-40重量份的范围。放射线敏感性化合物的用量如果在该范围，在对形成于基板上的树脂膜进行图案化时，放射线照射部分和放射线未照射部分的对显影液的溶解度差变大，由显影引起的图案化容易，而且放射线敏感度也变高，故优选。在本发明的放射线敏感性树脂組合物中，除上述成分以外还含有烷氧基硅烷化合物，相对100重量份环烯烃类聚合物，该化合物的含量是10~60重量份。特别地，作为烷氧基硅烷化合物的用量，相对100重量份环烯烃类聚合物，优选大于20重量份且60重量^f分以下，更优选是大于20重量份且50重量份以下。本发明的烷氧基硅烷化合物没有特别限定，例如，可以任意具有卣原子、乙烯基、氨基、羧基、巯基、环氧基、异氰酸酯基、曱基丙烯氧基、丙烯氧基、脲基、硫醚基(7少7^K基)、氧杂环丁烷基等官能团。烷氧基硅烷化合物可以分别单独使用或同时使用2种以上。作为烷氧基硅烷化合物的具体例子，可以举出，四曱氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷等四烷氧基硅烷类；曱基三曱氧基硅烷、曱基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、正丙基三曱氧基硅烷、正丙基三乙氧基硅烷、异丙基三曱氧基硅烷、异丙基三乙氧基硅烷、正丁基三曱氧基硅烷、正丁基三乙氧基硅烷、正戊基三曱氧基硅烷、正己基三曱氧基硅烷、正庚基三曱氧基硅烷、正辛基三曱氧基硅烷、正癸基三甲氧基硅烷、对苯乙烯基三曱氧基硅烷、乙烯基三曱氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、环己基三曱氧基硅烷、环己基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、3-氯丙基三曱氧基硅烷、3-氯丙基三乙氧基硅烷、3,3,3-三氟丙基三曱氧基硅烷、3,3,3-三氟丙基三乙氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、正-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三曱氧基硅烷、正-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、正-苯基-3-氨基丙基三曱氧基硅烷、2-羟乙基三曱氧基硅烷、2-羟乙基三乙氧基硅烷、2-羟丙基三曱氧基硅烷、2_羟丙基三乙氧基硅烷、3-羟丙基三曱氧基硅烷、3-羟丙基三乙氧基硅烷、3-巯基丙基三曱氧基硅烷、3-巯基丙基三乙氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三曱氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三曱氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三曱氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三曱氧基硅烷、3-(曱基)丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-脲基丙基三甲氧基硅烷、3-脲基丙基三乙氧基硅烷、3-乙基(三曱氧基曱硅烷基丙氧基曱基)氧杂环丁烷、3-乙基(三乙氧基曱硅烷基丙氧基曱基)氧杂环丁烷、3-三乙氧基曱硅烷基-正-(1,3-二甲基-丁叉基)丙胺、二(三乙氧基曱硅烷基丙基)四硫化物等三烷氧基硅烷类；二曱基二曱氧基硅烷、二曱基二乙氧基硅烷、二乙基二曱氧基硅烷、二乙基二乙氧基硅烷、二正丙基二曱氧基硅烷、二正丙基二乙氧基硅烷、二异丙基二曱氧基硅烷、二异丙基二乙氧基硅烷、二正丁基二曱氧基硅烷、二正丁基二乙氧基硅烷、二正戊基二曱氧基硅烷、二正戊基二乙氧基硅烷、二正己基二曱氧基硅烷、二正己基二乙氧基硅烷、二正庚基二曱氧基硅烷、二正庚基二乙氧基硅烷、二正辛基二甲氧基硅烷、二正辛基二乙氧基硅烷、二正环己基二曱氧基硅烷、二正环己基二乙氧基硅烷、二苯基二曱氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-曱基丙烯酰氧基丙基曱基二曱氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基曱基二甲氧基硅烷、3-曱基丙烯酰氧基丙基曱基二乙氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基曱基二乙氧基硅烷、正-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基曱基二曱氧基硅烷等二烷氧基硅烷类，以及曱基三乙酰氧基硅烷、二曱基二乙酰氧基硅烷等。另外，在本说明书中，所谓(曱基)丙烯酰基，表示丙酰烯基或曱基丙烯酰基。其中，作为烷氧基硅烷化合物，优选具有与质子性极性基团反应的官能团，特别是，环烯烃类聚合物具有质子性极性基团时，更优选与该环烯烃类聚合物具有的质子性极性基团反应的官能团。作为质子性极性基团，可以列举，上述的质子性极性基。作为与质子性极性基团反应的官能团，例如，可以列举氨基、羧基、环氧基、异氰酸酯基等，优选环氧基、异氰酸酯基。一般认为，如果烷氧基硅烷化合物具有与质子性极性基团反应的官能团，在烷氧基硅烷化合物的官能团与质子性极性基团反应的同时，烷氧基硅烷化合物之间发生缩聚反应，由此能够得到烷氧基硅烷化合物发挥树脂交联剂作用的效果。作为与烷氧基硅烷化合物中的质子性极性基反应的官能团的数目没有特别的限定，通常是12个。在烷氧基硅烷化合物中，可以存在与质子性极性基团反应的相同或不同的官能团，另外，也可以存在与可以和质子性极性基团反应的官能团不同种类的官能团。在本发明中，作为烷氧基硅烷化合物，特别优选3-环氧丙氧基丙基三曱氧基硅烷(Y-环氧丙氧基丙基三曱氧基硅烷)、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基曱基二乙氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三曱氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三曱氧基硅烷以及3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷。另外，如果在不损害本发明的所希望的效果的范围内，则可以在本发明的放射线敏感性树脂组合物中含有烷氧基硅烷化合物以外的有机硅烷类化合物。从使树脂膜的耐热形状保持性提高的观点出发，本发明的放射线敏感性树脂组合物优选还含有交联剂。作为交联剂，可以使用在分子内含有2个以上、优选3个以上能够与环烯烃类聚合物反应的官能团的交联剂。交联剂的官能团只要能与环烯烃类聚合物中的官能团或不饱和键反应即可，没有特别的限定。环烯烃类聚合物具有质子性极性基团时，作为能与该极性基团反应的优选的官能团，例如可以列举氨基、羧基、羟基、环氧基、异氰酸酯基等，更优选氨基、环氧基、异氰酸酯基，尤其优选环氧基。作为这样的交联剂的具体例子，可以列举，六亚曱基二胺等脂肪族多胺类；4,4，-二氨基二苯醚、二氨基二苯砜等芳香族多胺类；2，6-二(4，-叠氮基苄叉基)环己酮、4,4，-二叠氮基二苯砜等叠氮基类；尼龙、聚六亚曱基二氨对苯二曱酰胺、聚六亚曱基间笨二曱酰胺等聚酰胺类；N,N,N，,N，,N，，,N，，_(六烷氧基甲基)三聚氰胺等三聚氰胺类;N,N，,N，，,N，，-(四烷氧基曱基)甘脲等甘脲类；乙二醇二(曱基)丙烯酸酯等丙烯酸酯化合物；六亚曱基二异氰酸酯类多异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯类多异氰酸酯、曱苯二异氰酸酯类多异氰酸酯、加氢二苯基甲烷二异氰酸酯等异氰酸酯类化合物；1，4-二(羟曱基)环己烷、1,4-二(羟曱基)降冰片烷；1,3,4-三羟基环己烷；各种多官能环氧化合物等。作为上述多官能环氧化合物，是具有2个以上环氧基、优选3个以上环氧基的环氧化合物，可以列举具有脂环式结构的、具有曱酚酚醛清漆骨架的、具有苯酚酚醛清漆骨架的、具有双酚A骨架的、具有萘骨架的等。其中，从与环烯烃类聚合物的相溶性良好度出发，特别适合的是具有脂环式结构，且具有2个以上、优选3个以上环氧基团的多官能环氧化合物。在本发明中，作为交联剂，优选使用上述多官能环氧化合物，作为该环氧基化合物的具体例子，可以列举双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、曱酚酚醛清漆型环氧树脂、多酚型环氧树脂、环状脂肪族环氧树脂、脂肪族缩水甘油醚、环氧丙烯酸酯聚合物等。这些交联剂可以分别单独使用或组合2种以上使用。交联剂的用量根据使用目的适当选择，相对100重量份环烯烃类聚合物，通常是1~1,000重量份、优选5500重量份、更优选10~100重量份。用量如果在该范围，所形成的树脂膜的耐热性被高度改善，故优选。在本发明中使用的交联剂的分子量没有特别的限定，通常是100~100,000、优选500~50，000、更优选是1,000~10,000。如果是该范围的分子量，从加热时的稳定性或凝胶化的效率考虑是优选的。另外，只要在不阻碍本发明所希望表现出的效果的范围，根据希望，也可以在本发明的放射线敏感性树脂组合物中含有环烯烃类聚合物以外的树脂成分或其它配合剂等其它成分。作为环烯烃类聚合物以外的树脂成分，例如，可以列举苯乙烯类树脂、氯乙烯类树脂、丙烯酸类树脂、聚苯醚树脂、聚芳硫醚树脂、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、聚醚砜树脂、聚砜树脂、聚酰亚胺树脂、橡胶和弹性体等。作为其它配合剂，例如，可以列举增敏剂、表面活性剂、潜在型产酸剂(潜在的酸発生剤)、防静电剂、抗氧化剂、粘接助剂、消泡剂、颜料、染料等。作为增敏剂，例如，可以列举2H-吡咬并-(3,2-b)-1,4-。恶。秦-3(4H)-酮类、10H-吡啶并-(3,2-b)-1,4-苯并口塞。秦类、尿唑类、乙内酰脲类、巴比土酸类、甘氨酸酐类、1-羟基苯并三唑类、阿脲类、马来酰亚胺类等。表面活性剂是为了防止出现条紋(涂布条紋痕迹(塗布筋fci:))、提高显影性等而使用的，例如，可以列举聚氧化乙烯十二烷基醚、聚氧化乙烯十八烷基醚、聚氧化乙烯油基醚等聚氧化乙烯烷基醚类；聚氧化乙烯辛基苯基醚、聚氧化乙烯壬基苯基醚等聚氧化乙烯芳基醚类；聚氧化乙烯二月桂酯、聚氧化乙烯二硬脂酯等聚氧化乙烯二烷基酯类等非离子型表面活性剂；氟类表面活性剂；聚硅氧烷类表面活性剂；甲基丙烯酸共聚物类表面活性剂、丙烯酸共聚物类表面活性剂等。潜在型产酸剂是为提高本发明的放射线敏感性树脂组合物的耐热性和耐药品性而使用的，例如，通过加热产生酸的阳离子聚合催化剂，可以列举，锍盐、苯并噻唑铕盐、铵盐、铸盐等。其中，优选锍盐和苯并噻唑錄盐。作为其它上述配合剂，任意使用公知的配合剂。本发明的放射线敏感性树脂组合物，通常将环烯烃类聚合物、放射线敏感性化合物和烷氧基硅烷化合物、以及视需要的交联剂或其它成分溶解或分散在溶剂中，得到溶液或分散液。本发明的放射线^:感性树脂组合物优选以这样的溶液或分散液的形态使用。另外，本发明的放射线敏感性树脂组合物，既可以是将固体形状的各构成成分简单混合而形成的，也可以是从以溶液或分散液的形态得到的组合物中除去溶剂而形成的。作为在本发明中使用的溶剂，没有特别的限定，例如，可以列举乙二醇、丙二醇、二甘醇、三甘醇、四甘醇等亚烷基二醇类；乙二醇单乙醚、乙二醇单丙醚、乙二醇单叔丁醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丙醚、丙二醇单丁醚、二甘醇单曱醚、二甘醇单乙醚、一缩二丙二醇单曱醚、一缩二丙二醇单曱醚、一缩二丙二醇单乙醚、三甘醇单曱醚、三甘醇单乙醚、二缩三丙二醇单曱醚、二缩三丙二醇单乙醚等亚烷基二醇单醚类；二甘醇二曱醚、二甘醇二乙醚、二甘醇乙基曱基醚、一缩二丙二醇二曱醚、一缩二丙二醇二乙醚、一缩二丙二醇乙基曱基醚、三甘醇二曱醚、三甘醇二乙醚、三甘醇乙基曱基醚、二缩三丙二醇乙基曱基醚等亚烷基二醇二烷基醚类；丙二醇单甲醚乙酸酯、一缩二丙二醇单曱醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单正丙醚乙酸酯、丙二醇单异丙醚乙酸酯、丙二醇单正丁醚乙酸酯、丙二醇单异丁醚乙酸酯、丙二醇单仲丁醚乙酸酯、丙二醇单叔丁醚乙酸酯等亚烷基二醇单烷基醚酯类；曱乙酮、环己酮、2-庚酮、4-羟基-4-曱基-2-戊酉同、环己酮、环戊酮等酮类；曱醇、乙醇、丙醇、丁醇、3-曱氧基_3-曱基丁醇等醇类；四氢呋喃、二魂烷等环醚类；曱基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯等溶纤剂酯类；苯、甲苯、二曱苯等芳香族烃类；醋酸乙酯、醋酸丁酯、乳酸乙酯、2-羟基-2-曱基丙酸曱酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、乙氧基醋酸乙酯、羟基醋酸乙酯、2-羟基-3-曱基丁酸曱西旨、3-曱氧基丙酸曱酯、3-曱氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、y-丁内酯等酯类；n-曱基曱酰胺、n，n-二曱基甲酰胺、n-甲基-2-吡咯烷酮、n-曱基乙酰胺、n，n-二曱基乙酰胺等酰胺类；二曱基亚石风等。这些溶剂可以分别单独使用或2种以上同时使用。相对100重量份环烯烃类聚合物，溶剂的用量通常是20~10,000重量份、优选50~5,000重量份、更优选100~1,000重量^f分的范围。在溶剂中溶解或分散构成本发明的放射线敏感性树脂组合物的各种成分的方法，可以按照通常的方法，例如，可以使用搅拌翼(攪拌子)和电》兹搅拌器的搅拌、或高速均化器、分散器、行星搅拌机、双轴搅拌机、球磨机、三辊机等进行。另外，在溶剂中溶解或分散各成分后，例如，可以使用孔径0.5]lim左右的过滤膜(7一/^夕一)进行过滤。作为本发明的放射线敏感性树脂组合物的固体成分浓度，通常是1~70重量％、优选是5~50重量％、更优选是10~40重量％。固体份浓度如果在该范围，溶解稳定性、对基板的涂布性和形成的树脂膜的膜厚均匀性及平坦性等可以高度平衡。本发明的放射线敏感性树脂组合物具有得到的树脂膜的耐热形状保持性优异、形成图案化树脂膜时的熔体流动时的温度界限宽的特性。因此，作为本发明的一个实施方式，也可以提供使用本发明的放射线敏感性树脂组合物来提高树脂膜的耐热形状保持性的方法，或扩大形成图案化树脂膜时的熔体流动时的温度界限的方法。本发明的叠层体是在基板上叠层由本发明的放射线敏感性树脂组合物制成的树脂膜而形成的。树脂膜的厚度通常是0.1~100|um、优选0.5-50)um、更优选是0.5~30Mm的范围。在本发明中，基板例如可以使用印刷线路基板、硅晶片基板、玻璃基—反、塑料基板等。另外，优选使用在显示器领域中使用的玻璃基板或塑料基板等上形成薄型晶体管型液晶显示元件、彩色滤光片、黑色矩阵等的部件。本发明的叠层体通常是在基板上直接叠层由本发明的放射线敏感性树脂组合物制成的树脂膜而形成的，例如，也可以是通过平坦化膜等其它膜，间接地叠层树脂膜而形成的。另外，本发明的叠层体除了由基板和树脂膜构成的2层叠层体以外，还包括由基板和树脂膜、视希望的其它膜构成的多层叠层体。另外，树脂膜也可以被图案化。本发明的叠层体、特别是在基板上形成图案化树脂膜的叠层体，可用于后述各种光学部件、电子部件。本发明的叠层体，例如可以通过使用本发明的放射线敏感性树脂组合物在基板上形成树脂膜来制造。作为在基板上形成树脂膜的方法，没有特别的限定，例如，可以使用涂布法和膜叠层法等方法。例如，涂布法是在基板上涂布溶液或分散液形态的放射线敏感性树脂组合物后，加热干燥，除去溶剂的方法。作为在基板上涂布放射线敏感性树脂组合物的方法，例如，可以采用喷雾法、旋转涂布法(7匕。y:a—卜)、辊涂布法、模涂布法、刮刀法、旋转涂布法(回転塗布法)、刮条涂布法(/《一塗布法)、丝网印刷法等各种方法。加热干燥根据各成分的种类或配合比例而不同，通常是30~150。C、优选60~12(TC,通常在0.5~90分钟，优选1~60分钟，更优选以1~30分钟的条件下进行。膜叠层法是如下方法例如，在树脂膜或金属膜等基材上涂布溶液或分散液形态的放射线敏感性树脂组合物后，加热干燥，除去溶剂，得到B阶段膜，接着在基板上叠层该B阶段膜。加热干燥根据各成分的种类或配合比例而不同，通常是30~150°C、优选60~120°C,通常在0.5~90分钟、优选1~60分钟、更优选130分钟的条件下进行。膜叠层可以使用加压层压^/L、压力机、真空层压机、真空压力机、辊层压机等压合才几进行。本发明的在基板上形成图案化树脂膜而组成的叠层体可以通过以下方法制造，例如，使用本发明的放射线敏感性树脂组合物在基板上叠层树脂膜，对该树脂膜照射活性放射线，在树脂膜中形成潜像图案，接着使显影液接触树脂膜，使潜像图案明显化，将基板上的树脂膜图案化。在基板上叠层由本发明的放射线敏感性树脂组合物制成的树脂膜可以按照上述方法进行。作为对形成的树脂膜照射的活性放射线，只要是使放射线敏感性化合物活性化，并可以使包含放射线敏感性化合物的交联性组合物的碱可溶性变化的活性放射线即可，没有特别的限定。具体地，可以使用紫外线、g线或i线等单一波长的紫外线、KrF准分子激光、ArF准分子激光等光线；电子射线这样的粒子射线等。作为选择性地在树脂膜上照射这些活性放射线形成潜像图案的方法，可以按照通常方法，例如，通过缩小投影曝光装置等，采用希望的掩模图案照射紫外线、g线、i线、KrF准分子激光、ArF准分子激光等光线的方法，或由电子射线等粒子线绘图(描画)的方法等。使用光线作为活性放射线时，既可以是单一波长光，也可以是混合波长光。照射条件根据使用的活性放射线适当选择，例如，使用波长200~450nm的光线时，照射量通常是10~1000mJ/cm2、优选50~500mJ/cm2的范围，根据照射时间和照度决定。这样照射活性放射线后，4艮据希望，在6013(TC左右的温度下将树脂膜加热处理1~2分钟左右。接着，将形成在树脂膜上的潜像图案显影，使之明显化，在本说明书中，将这样的工序称为"图案化"，将被图案化的树脂膜称为"图案化树脂膜"。显影液通常可以使用碱性化合物的水性溶液(碱水性溶液)。碱性化合物可以使用例如碱金属盐、胺、铵盐。碱性化合物既可以是无机化合物、也可以是有机化合物。作为这些化合物的具体例子，可以列举。氬氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、正硅酸钠等碱金属盐；氨；乙胺、正丙胺等伯胺；二乙胺、二正丙胺等仲胺；三乙胺、甲基二乙胺等叔胺；氢氧化四曱基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丁基铵、胆碱等季铵盐；二曱基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺；p比咯、派咬、1,8—重氮二环[5.4.0]十一碳—7—烯、1,5—重氮二环[4.3.0]壬-5-烯、N-甲基吡咯烷酮等环状胺类等。这些碱性化合物可以分别单独使用或组合2种以上使用。碱性水性溶液的水性介质，可以使用包含水、曱醇及乙醇等中至少l种的水溶性有机溶剂。碱水性溶液也可以是添加了适当量表面活性剂等的石威水性:容液。作为使显影液接触形成有潜像图案的树脂膜的方法，例如，可以使用刮板法(/^K少法)、喷雾法、浸渍法等方法。显影条件通常是0100。C、优选555。C、更优选1030。C的范围，通常在30~180秒的范围适当选择。通过以上方法，可以在基板上形成目标的图案化树脂膜(一次图案化树脂膜)。接着，根据希望，为了除去基板上、基板背面和基板端部的显影残渣，可以以超纯水等冲洗液沖洗基板。冲洗处理后，可以由压缩空气和压缩氮气除去残留的冲洗液。另外，根据所希望，为了使放射线敏感性化合物失活，也可以对具有图案化树脂膜的整个基板上照射活性放射线。在活性放射线的照射中，可以利用在上述潜像图案的形成中例示的方法。在照射的同时或照射后，可以加热树脂膜。作为加热方法，例如，可以列举在电热板或烘箱内加热基板的方法。温度通常是100~300°C、优选120-200。C的范围，时间通常是1~120分钟的范围。另夕卜，通过加热得到一次图案化树脂膜后的该膜，可以得到使该膜加热前的图案形状变形的二次图案化树脂膜。通过变形，例如，使截面形状具有棱角的图案形状变化为没有角度的平緩形状的图案。具体地，例如，在树脂膜上形成圓点图案时，将该树脂膜供给熔体流动，使图案从圓点形状变形为半球体形状。因此，本发明还包括以下的制造叠层体的方法，该方法还包含加热形成在基板上的图案化树脂膜，使图案形状变形的工序。这样的叠层体的制造方法，例如可用于微型透镜等的制造中。在制造二次图案化树脂膜时，在一次图案化树脂膜的图案被加热熔融，形成具有希望的图案形状的二次图案化树脂膜的同时，平衡性良好地进行树脂膜的交联，可以形成保持二次图案化树脂膜的图案形状所必需程度的交联结构。因此，根据本发明的放射线敏感性树脂组合物，可以容易地通过熔体流动形成二次图案化树脂膜，另一方面，得到的二次图案化树脂膜即使曝露在熔体流动时以上的温度，也能够发挥对图案形状变形的耐受性。另外，可以扩大熔体流动时的温度界限，能够高效地制造二次图案化树脂膜。另外，由本发明的放射线敏感性树脂组合物制成的树脂膜(例如一次图案化树脂膜)的熔体流动时的树脂膜的流动性，可以按照后述实施例的〔放射线敏感性树脂组合物的评价〕的(4)中记载的方法所测定的最低粘度来评价。可以说该粘度越大，熔体流动时的树脂膜的流动性越小。本发明中的熔体流动时的树脂膜的最低粘度通常是2.5x104Pas以上，与由公知的放射线敏感性树脂组合物组成的树脂膜相比，本发明的树脂膜在熔体流动时的^动'1"生小。另一方面，由本发明的放射线敏感性树脂组合物制成的树脂膜(例如一次图案化树脂膜)的熔体流动时对基板表面的润湿性(濡^性)，也就是，加热熔融树脂膜对基板表面的润湿扩展性(濡tL広力S…性)，可以按照后述实施例的〔放射线敏感性树脂组合物的评价〕的(5)中记载的方法所测定的临界表面张力评价。相当于纟皮完全润湿、即cos6=1时的液体的表面张力)小的表面张力的液体会在固体表面上润湿扩展。因此，如果比较固体基板的临界表面张力和熔体流动时的树脂膜的表面张力，就可以评价该树脂膜对基板的润湿性。公知的基板的临界表面张力是1040mN/m左右，可以说熔体流动时的树脂膜的表面张力与基板的临界表面张力相比越大，该树脂膜对基板表面的润湿性越小。另外，所谓接触角是指，液体接触在固体表面上生成的液滴的接触部分相对于固体表面所成的角度。因为在加热熔融状态下直接测定树脂膜的表面张力是困难的，所以在上述(5)中记载的方法中，进一步加热由加热熔融而得到的树脂膜，充分地进行交联，将熔体流动时的树脂膜的表面张力作为该交联后的树脂膜的临界表面张力而近似地求出。作为本发明中的树脂膜的临界表面张力，通常是200680019711.7说明书第21/27页19mN/m以上，与由公知的放射线敏感性树脂组合物制成的树脂膜相比，本发明中的熔体流动时的树脂膜的润湿性小。这样，本发明的放射线敏感性树脂组合物，具有以下特性由该组合物制成的树脂膜在加热熔融时的最低粘度是2.5xl04Pas以上，而且加热熔融后，进一步加热交联的树脂膜的临界表面张力是19mN/m以上；由该组合物制成的树脂膜的熔体流动时的流动性和对基板表面的润湿性'J、。但是，本发明的放射线敏感性树脂组合物可以合适地作为正型抗蚀材料使用，但按照在上述的基板上形成图案化树脂膜而形成的叠层体的制造方法，可以得到优异的析像性的抗蚀图案。由此，可以制造本发明的叠层体、特别是在基板上形成图案化树脂膜而得到的叠层体，但在本发明中，在基板上形成树脂膜(包含图案化树脂膜)后，根据希望，也可以对该膜再进行交联。本发明也包含以下的制造叠层体的方法，该方法还包括在基板上形成树脂膜(包含图案化树脂膜)后，进行该膜交^:的工序。形成在基板上的树脂膜的交联，例如，可以根据使用的交联剂种类来选4奪适当的方法，但通常通过加热进行。例如，加热方法可以使用电热板、烘箱等进行。加热温度通常是180~250°C,加热时间根据树脂膜的大小和厚度及使用的机器等适当选择，例如，在使用电热板时，通常是560分钟，使用烘箱时，通常是30~90分钟的范围。根据希望，加热也可以在非活性气体氛围气下进行。作为非活性气体，只要是不含氧且不会使树脂膜氧化的非活性气体就可以，例如，可以列举氮气、氩气、氦气、氖气、氙气、氪气等。其中优选氮气和氩气、特别优选氮气。特别是含氧量0.1体积％以下、优选0.01体积％以下的非活性气体，特别优选氮气。这些非活性气体可以分别单独使用或组合2种以上使用。上述得到的本发明的叠层体适合用作例如集成电路元件、液晶显示元件、固体摄像元件等电子部件和光学部件。这些电子部件或光学部件可以使用本发明的放射线敏感性树脂组合物或叠层体，按照公知的方法制造。包括本发明的叠层体的光学部件和电子部件包括在本发明中。实施例以下列举合成例、实施例，更具体地说明本发明。另外，没有特别限定时，各例中的份和％为重量基准。另外，以下的试验、评价如下。〔聚合物的重量平均分子量(Mw)和数平均分子量(Mn)〕以四氬呋喃(THF)为洗提液，使用凝胶渗透色谱法(东曹公司(東V一社)生产的HLC-8020),以聚异戊二烯换算分子量的形式求出。〔氢化率〕氪化率由'H-NMR谱图，以被氩化的碳-碳双键摩尔数相对于加氬前的碳-碳双键摩尔数的比例(百分率％)(加氬后/加氢前)的方式求出。〔碘值〕4安照JISK0070B测定。〔放射线敏感性树脂组合物的评价〕(1)图案化树脂膜的形成在涂布了热固性树脂膜的硅晶片基板上旋涂放射线敏感性树脂组合物，使用电热板在IO(TC下干燥120秒，干燥后的膜厚成膜为1.2Mm。通过3.5jam圆点、1.5nm空间的图案掩模，在空气中对该树脂膜照射600ms光强度为0.5W/cm2的i线。接着，使用0.6~0.8%的氢氧化四曱基铵溶液，在23。C下进行80-110秒的显影处理后，以超纯水进行30秒冲洗处理，形成正型的3.5ym圓点图案化树脂膜。另外，所谓W,相当于J/s。(2)图案化树脂膜的耐热形状保持性用电子显微镜(SEM)观察图案化树脂膜的截面形状，基于SEM像(倍率IOOOO倍)，测定圓点图案之间宽a。接着，在空气中对整个图案化树脂膜照射30秒在365nm处光波长为5mW/cm2的紫外线，接着使用电热板对形成有该图案的基板在140~170。C之间的最适合温度下以IO分钟进行第1次加热处理(中间加热($K少《一夕)1)，使被图案化的树脂膜熔融，将图案从圓点形状变形为半球体形状。再使用电热板对施加了中间加热1的基板在230°C、10分钟下施加第2次加热处理(后加热(求7卜^<夕)1)。与上述同样操作，用SEM观察后加热l后的图案截面形状，根据SEM图像测定圆点图案之间宽b。求出图案化树脂膜形成后的圓点图案之间宽a和后加热1后的圓点图案之间宽b的差(a-b),按照以下的评价基准评价图案化树脂膜的耐热形状保持性。〔评价基准〕优异图案是半球体形状，(a-b)是0.5pm以下良好图案是半球体形状，(a-b)大于0.5ym但在lMm以下尚可图案是半球体形状，(a-b)大于1ym但在1.5Mm以下差图案完全熔融，与相邻图案融合(3)形成图案化树脂膜时的熔体流动时的温度界限与上述同样操作，用SEM观察图案化树脂膜的截面形状，根据SEM图像测定圓点图案之间宽a'。接着，在空气中对整个图案化树脂膜照射30秒在365nm处光波长是5mW/cn^的紫外线，接着使用电热板在140170。C之间的温度下对形成该图案的基板进行IO分钟第1次加热处理(中间加热2),使被图案化的树脂膜熔融，将图案从圓点形状变形为半球体形状。再使用电热板在230°C、10分钟下对施加了中间加热2的基才反施加第2次加热处理(后加热2)。与上述同样操作，用SEM观察后加热2后的图案的截面形状，才艮据SEM图像，测定圓点图案之间宽b'。求出图案化树脂膜形成后的圓点图案之间宽a，和后加热2后的圓点图案之间宽b'的差(a'-b，)，按照以下的评价基准评价形成图案化树脂膜时的熔体流动时的温度界限。〔评价基准〕优异图案是半球体形状、(a，-b，)为ljum以下的中间加热温度幅度是20。C以上良好图案是半球体形状、(a，-b，)为ljim以下的中间加热温度幅度是10。C以上但小于2(TC尚可图案是半球体形状、(a，-b，)为ljum以下的中间加热温度幅度是5。C以上且小于l(TC差图案是半球体形状、U，-b，)为ljum以下的中间加热温度幅度小于5。C。另外，在上述评价基准中的所谓"中间加热温度幅度，，是指，在140-170。C之间的温度以每5'C的间隔设定温度进行中间加热2时，(a，-b，)值达到各评价基准中规定的值时最低温度和最高温度之差。(4)熔体流动时的树脂膜的最低粘度在茄型烧瓶中加入放射线敏感性树脂组合物，用蒸发器浓缩。用真空千燥机在室温(25°C)下使浓缩后的放射线敏感性树脂组合物真空干燥一夜。再以100。C的烘箱将其加热2分钟。在直径8mm的片剂成型器中加入得到的粉末，加压制作圓盘状的片剂。以变形控制型粘弹性测定装置(理沃米特力克斯公司(^才乂卜y夕7社)生产的ARES)的8mm平行板(八°，卜)夹住片剂，用氮气下的加热炉以10。C/分钟的速度从8(TC升温到280°C,同时通过该装置在10rad/s频率测定复素粘度(複素粘度)￡13*[Pa■s]。求出得到的复素粘度的最低值作为最低粘度。(5)熔体流动后进一步加热交联的树脂膜的临界表面张力除了在本〔放射线敏感性树脂组合物的评价〕中的上述(1)中不进行树脂膜的图案化操作以外，按照在本〔放射线敏感性树脂组合物的评价〕中的上述(1)和(2),形成未图案化的树脂膜。另外，通过改变水-乙醇溶液的混合比例(体积基准)，制备表面张力不同的5种液体，采用悬滴法测定该液体的表面张力Yi^[mN/m]。使用这5种液体，用接触角计(协和界面科学社生产的CA-X150)测定各液体和树脂膜的接触角6[°]。从液体的表面张力YL[mN/m]和cos6的关系通过一次近似求出6=0°时的树脂膜的表面张力(临界表面张力)。合成例1在氮气置换过的玻璃制耐压反应器中加入62.5份8-羟基羰基四环[4.4.0.12'5.17'10]十二碳-3-烯、37.5份N-(4-苯基)—(5-降冰片烯-2,3-二羧基酰亚胺)、1.3份1-己烯、0.05份二氯.1,3-二曱基咪唑啉-2-亚基(三环己基磷)千叉合钌、和400份四氢呋喃，边搅拌边使之在70。C反应2小时，得到聚合物溶液A(固体成分浓度约20%)。将一部分该聚合物溶液A移入安装有搅拌机的高压釜中，在150。C下以4MPa压力使氢溶解，再反应5小时，得到含有被氢化的聚合物(氢化率100%)的聚合物溶液B(固体成分浓度约20%)。将在100份聚合物溶液B中添加了1份活性炭粉末的耐热容器放入高压釜中，边搅拌边在150。C下以4MPa压力使氢溶解3小时。接着，取出溶液，以孔径0.2nm的氟树脂过滤膜过滤，分离活性碳，得到聚合物溶液。过滤可以无阻碍地进行。将聚合物溶液注入到乙醇中，使之凝固，干燥生成的碎屑物(夕，厶)，得到环烯烃类聚合物。得到的聚合物的聚异戊二烯换算的Mw是5500,Mn是3200(Mw/Mn比是1.7)。另夕卜，碘值是l。实施例1混合100份在合成例1中得到的环烯烃类聚合物、200份作为溶剂的丙二醇单乙醚乙酸酯、IOO份二甘醇乙基曱基醚、100份N-曱基-1-吡咯烷酮、25份作为醌二叠氮基化合物的1,1，3-三(2,5-二曱基-4-羟基苯基)-3-苯基丙烷(l摩尔)和1，2-萘醌二叠氮基-5-磺酰氯(1.9摩尔)的缩合物、36份作为交联剂的含有脂环结构的多官能环氧化合物(分子量2234、商品名"EHPE3150"、大赛璐(夕、Vir/D化学工业公司生产)、10份Y-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、6份作为抗氧化剂的季戊四醇四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯](商品名IRGANOX(,/^力、乂、乂夕7)1010、CibaSpecialtyChemicals(UX一一^"$力》x、)公司生产)、0.05份作为表面活性剂的聚硅氧烷类表面活性剂(商品名kp341、信越化学工业社生产)，使之溶解后，以孔径0.45nm的米利波阿过滤器(Milliporefilter)进行过滤，制备放射线敏感性树脂组合物。按照上述方法，对得到的放射线敏感性树脂组合物进行评价。另外，中间加热1的温度是160。C。在表1中示出结果。实施例2除了将实施例1中的Y-环氧丙氧基丙基三曱氧基硅烷的添加量变更为15份以外，同样地制备放射线敏感性树脂组合物，进行评价。另外，中间加热1的温度是160°C。在表1中示出结果。实施例3除了将实施例1中的Y-环氧丙氧基丙基三曱氧基硅烷的添加量变更为20份以外，同样地制备放射线敏感性树脂组合物，进行评价。另外，中间加热1的温度是160°C。在表l中示出结果。另外，最低粘度是1.3x104Pa.s、临界表面张力是19mN/m。实施例4除了将实施例i中的y-环氧丙氧基丙基三曱氧基硅烷的添加量变更为30份以外，同样地制备放射线敏感性树脂组合物，进行评价。另外，中间加热1的温度是150。C。在表l中示出结果。实施例5除了将实施例1中的Y-环氧丙氧基丙基三曱氧基硅烷的添加量变更为40份以外，同样地制备放射线敏感性树脂组合物，进行评价。另外，中间加热1的温度是150°C。在表1中示出结果。实施例6除了实施例1中的y-环氧丙氧基丙基三曱氧基硅烷的添加量变更为60份以外，同样地制备放射线敏感性树脂组合物，进行评价。另外，中间加热1的温度是150。C。在表l中示出结果。实施例7-除了将实施例4中的y-环氧丙氧基丙基三曱氧基硅烷变更为2-(3,4-环氧环己基)乙基三曱氧基硅烷以外，同样地制备放射线敏感性树脂组合物，进行评价。另外，中间加热1的温度是150°C。在表l中示出结果。实施例8除了将实施例4中的y-环氧丙氧基丙基三曱氧基硅烷变更为3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷以外，同样地制备放射线敏感性树脂组合物，进行评价。另外，中间加热1的温度是150°C。在表l中示出结果。另外，最低粘度是4.6xl04Pas,临界表面张力是19mN/m。比寿支例1除了将实施例1中的y-环氧丙氧基丙基三曱氧基硅烷的添加量变更为5份以外，同样地制备放射线敏感性树脂组合物，进行评价。另外，中间加热1的温度是160°C。在表l中示出结果。比寿交例2除了将实施例1中的y-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷的添加量变更为80份以外，同样地制备放射线敏感性树脂组合物，进行评价。另外，中间加热1的温度是15(TC。在表1中示出结果。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage28</column></row><table>*:相对100份环烯烃类聚合物的量烷氧基硅烷化合物i:y-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷烷氧基硅烷化合物ii:2-(3,4-环氧环己基)乙基三曱氧基硅烷烷氧基硅烷化合物iii:3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷由表1可知，使用相对100份环烯烃类聚合物含有1060份范围烷氧基硅烷化合物的实施例1~8的放射线敏感性树脂组合物而得到的图案化树脂的耐热形状保存性优异，具有宽的温度界限。尤其可知烷氧基硅烷化合物量大于20份且60份以下的放射线敏感性树脂组合物可以发挥显著的效果。相对于此，可知使用烷氧基硅烷化合物的量小于io份的比较例1或大于60份的比较例2的放射线敏感性树脂组合物而得到的图案化树脂膜的耐热形状保存性差，温度界限也窄。工业实用性本发明的放射线敏感性树脂组合物可以得到耐热形状保持性优异的树脂膜，并且在形成图案化树脂膜时的熔体流动时的温度界限宽广，因此，采用该组合物，可以实现例如稳定产生进行图案化而得到的产品或提高成品率。另外，采用本发明的放射线敏感性树脂组合物可以得到析像性优异的抗蚀图案。本发明有助于使集成电路元件、液晶显示元件、固体摄像元件等电子部件或光学部件的制造稳定化、提高成品率。权利要求1.一种放射线敏感性树脂组合物，该组合物包含环烯烃类聚合物、放射线敏感性化合物、以及相对于100重量份所述环烯烃类聚合物为10～60重量份的烷氧基硅烷化合物。2.按照权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物，其还含有交联剂。3.按照权利要求1或2所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，环烯烃类聚合物含有质子性极性基团。4.按照权利要求1~3中任意1项所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，烷氧基硅烷化合物含有与质子性极性基团反应的官能团。5.—种叠层体制造方法，该方法包括使用权利要求1~4中任意1项所述的放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成树脂膜的工序。6.按照权利要求5所述的叠层体制造方法，该方法还包括对树脂膜照射活性放射线，在树脂膜中形成潜像图案的工序、以及通过使树脂膜接触显影液，使潜像图案显影，将树脂膜图案化的工序。7.按照权利要求6所述的叠层体制造方法，该方法还包括加热形成在基板上的图案化树脂膜，使图案形状变形的工序。8.按照权利要求57中任意1项所述的叠层体制造方法，该方法还包括将形成在基板上的树脂膜交联的工序。9.一种叠层体，其是在基板上叠层由权利要求1~4中任意1项所述的放射线敏感性树脂组合物制成的树脂膜而形成的。10.按照权利要求9所述的叠层体，其中，树脂膜是图案化的树脂膜。U.—种电子部件或光学部件，其包括权利要求9或IO所述的叠层体。全文摘要本发明涉及放射线敏感性树脂组合物，该组合物包含环烯烃类聚合物、放射线敏感性化合物和相对100重量份上述环烯烃类聚合物为10～60重量份的烷氧基硅烷化合物；叠层体，其是在基板上叠层由该组合物制成的树脂膜而形成的；叠层体的制造方法，该方法包括使用该组合物在基板上形成树脂膜的工序。本发明提供放射线敏感性树脂组合物、在基板上叠层由该组合物制成的树脂膜形成的叠层体及其制造方法，采用本发明的射线敏感性树脂组合物可以得到耐热形状保持性优异的树脂膜，形成图案化树脂膜时的熔体流动时的温度界限宽，而且，可以用作抗蚀材料。文档编号G03F7/075GK101189552SQ20068001971公开日2008年5月28日申请日期2006年5月31日优先权日2005年6月1日发明者新藤宽明申请人:日本瑞翁株式会社