专利名称：监控光阻涂布量变异之方法及其装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及 一 种监控技 涂布量变异之方法及其装置
背景技术：
在半导体制程中，曝光 的技术，然而，光阻的用量 要的因素， 一般正光阻在光 于显影液中，而负光阻在光 于显影液中，藉由此种化学 蚀刻制程的时候，让某些地 是当光阻涂布量太薄或太厚 光源无法配合，比如说当负 之光源将无法使全部的负光 于显影液中，这样一来，后 不用说最后的封装制程了 ， 程中影响甚巨。
以下介绍习知技术之光阻涂布装置，首先请参阅
图1，
光阻容置槽10中可装盛光阻，利用泵16抽取光阻至光阻 涂布器18，其中必须经过一过滤器14，此过滤器14是用 来过滤光阻容置槽IO中与光阻混合的杂质，再来请同时参 阅图2，半导体基板22可置于一腔室20内，在半导体基 板22上形成一层光阻之后，可利用第一泵24将光阻中的 溶剂水气抽至第一容置槽26，之后将第一容置槽26的气 压降低，使溶剂水气液化成溶剂液体，最后再第二泵28从 第一容置槽26将溶剂液体抽至第二容置槽30中，完成令 光阻干燥的制程。习知技术中会在光阻容置槽10下设置一
术，特别是关于一种监控光阻
、显影与蚀刻是种息相
更是影响制程参必, 数个相当
照射之后，正光阻会不容易
照射之后，负光阻会较容易
作用，可使半导体基板在进
方的薄膜层不会被蚀刻掉
，会使光阻在与固定波长
光阻涂布量太厚时固定波
阻之分子破坏，使它们容易
但
面的蚀刻制程也无法进行，更 所以，光阻涂布量在半导体制重量感应器12，利用此感应器来测量光阻容置槽10中光 阻的重量，进而知悉涂布光阻的厚度，但是此方法较不精 密，因为光阻容置槽10内包含的可能不只光阻重量，仅利 用此感应器去推测涂布光阻的厚度，其误差较大。因此，本发明是在针对上述之困扰，提出一种监控光阻涂布量变异之方法及其装置，其是可及时准确地发现光阻涂布量异常的现象，以提升产品量率及质量。发明内容.本发明的目的在于解决上述缺陷，而提供 一 种监控光 阻涂布量变异之方法及其装置，其是可及时准确地发现光 阻涂布量异常的现象，以提升产品量率及质量。为实现上述目的 一种监控光阻涂布量变异之方法，该方法包含下列步骤(A) 提供一基板，并在该基板上形成一层光阻；(B) 将该光阻中的溶剂水气抽至第 一 容置槽中；(C) 控制该第 一 容置槽中的气压，使该溶剂水气液化成溶 剂液体； (D) 抽取该溶剂液体，并检测该溶剂液体之剂量；(E) 藉由该溶剂液体之剂量与该光阻的比例关是得知该 光阻量；其中在步骤(E)中，当该光阻量高于一定值时，则减少 该光阻量之厚度。其中在步骤(E)中，当该光阻量低于一定值时，则增加 该光阻量之厚度。其中在步骤(E)中，当该光阻量为一定值时，则将该溶 剂液体抽至第二容置槽中。其中在步骤(c)中，当该第一容置槽中的该气压降低
时，可使该溶剂水气液化成该溶剂液体。
其中在步骤(D)中，该溶剂液体是流入一检测装置中，
而该检测装置用来检测该溶剂液体之剂量。 其中该检测装置包含-
一流量计，其是连接该第一容置槽，并显示通过该流 量计的该溶剂液体之剂量；
一第三容置槽，其是连接该流量计，该溶剂液体可通 过该流量计并流入该第三容置槽中。
其中该流量计为 一 数字流量计
其中形成该层光阻的方式为涂布方式。
其中该基板为半导体基板。
其中该光阻可为正光阻或负光阻
种监控光阻涂布量变异之装置包含
腔室其是用来放置一基板，并在该基板上形成
光阻；
一第一容置槽，.其是连接该腔室，并将该光阻中的溶剂 水气抽至该第一容置槽中，控制该第一容置槽中的气压， 使该溶剂水气液化成溶剂液体；
一检测装置，其是连接该第一容置槽；以及
一第二容置槽，其是连接该检测装置，先将该溶剂液 体抽至该检测装置中，再从该检测装置将该溶剂液体抽至 该第二容置槽中，藉由该检测装置显示的该溶剂液体之剂
量，和该溶剂液体之剂量与该光阻的比例关是可得知该光阻量。其中该检测装置包含
一流量计，其是连接该第一容置槽，并显示通过该流 量计的该溶剂液体之剂量；
一第三容置槽，其是连接该流量计与该第二容置槽， 该溶剂液体可通过该流量计并流入该第三容置槽中。 其中该流量计为一数字流量计。 其中形成该层光阻的方式为涂布方式。
其中当该第一容置槽中的该气压降低时，可使该溶剂 水气液化成该溶剂液体。
更包含第一泵，其是连接该腔室与该第一容置槽，用 来将该光阻中的溶剂水气抽至该第 一 容置槽中。
更包含第二泵，其是连接该检测装置与该第二容置槽， 用来将该溶剂液体抽至该检测装置中，或从该检测装置将 该溶剂液体抽至该第二容置槽中。
其中该基板为半导体基板。
其中该光阻可为正光阻或负光阻。
本发明的有益效果
为达上述目的，本发明提供一种监控光阻涂布量变异
之装置，包含一腔室赁用来放置一基板并在基板上形成
层光阻，腔室连接第容置槽,此容置槽可将光阻中的
溶剂水气抽至该第一容置槽中，并控制第容置槽中的气
压，使溶剂水气液化成溶剂液体，第一容置槽连接 一 检测
装置，而此检测装置连接第二容置槽，此容置槽是先将溶 剂液体抽至检测装置中，再从检测装置将溶剂液体抽至第 二容置槽中，藉由检测装置显示的溶剂液体之剂量，和溶
剂液体之剂量与光阻的比例关是可得知光阻量。本发明亦提供一种监控光阻涂布量变异之方法，其是 首先提供一基板，并在基板上形成一层光阻，之后将光阻 中的溶剂水气抽至第 一 容置槽中，可控制第 一 容置槽中的 气压，使溶剂水气液化成溶剂液体，再抽取溶剂液体，并 检测该溶剂液体之剂量，最后藉由溶剂液体之剂量与光阻 的比例关是得知光阻量。
图中
说明图1.以及图2为习知技术之装置示意图
图3为本发明之装置示意图。
图4为本发明之方法流程图。
:10光阻容置槽12重量感应
14过滤器16泵
18光阻涂布器20腔室
22半导体基板24第一泵
26第一容置槽28第二泵
30第二容置槽32腔室
34半导体基板36第一泵
38第一容置槽40第二泵
42检测装置44数字流蓍
46第三容置槽48第二容置
计
具体实施例方式
参阅图3所示其是为本发明之装置示意图，本发明
包含一腔室32，用来放置一半导体基板34，并在半导体基 板32上涂布一层光阻，光阻可为正光阻或负光阻，腔室 32透过第一泵36连接第一容置槽38，此容置槽可利用第 一泵36将光阻中的溶剂水气挥发并抽至该第一容置槽38 中，另又使第一容置槽38中的气压降低，如将槽内的空气排出，使溶剂水气液化成溶剂液体，第 一 容置槽38连接一 检测装置42，而此检测装置42透过第二泵40连接第二容 置槽48，此容置槽是先利用第二泵40将溶剂液体抽至检 测装置42中，再从检测装置42将溶剂液体抽至第二容置 槽48中，藉由检测装置42显示的溶剂液体之剂量，和溶 剂液体之剂量与光阻的比例关是可得知光阻量，而 一 般溶 剂液体之剂量与光阻的比例关是为正比关是。另外，检测 装置42包含一数字流量计44，其是连接第一容置槽38， 并显示通过数字流量计44的溶剂液体之剂量，而第三容置 槽46连接数字流量计44与第二容置槽48 ，溶剂液体可通 过数位流量计44并流入第三容置槽46中。
请同时参阅图4，首先如步骤SIO，提供一半导体基板. 34，并在半导体基板34上涂布一层光阻，之后如步骤S12， 将腔室.32内光阻中的溶剂水气挥发，并抽至第 一 容置槽 38中，另又使第一容置槽38中的气压降低，使溶剂水气 液化成溶剂液体，再来如步骤S14，抽取溶剂液体，溶剂 液体是流入 一检测装置中，而译检测装置用来检测溶剂液 体之剂量，检测装置42包含一数字流量计44与第三容置 槽46，溶剂液体可通过数位流量计44并流入第三容置槽 46中，同时数字流量计44可显示通过数字流量计44的溶 剂液体之剂量，最后如步骤S16，藉由溶剂液体之剂量与 光阻的比例关是得知光阻量，而 一 般溶剂液体之剂量与光 阻的比例关是为正比关是，当光阻量低(高)于 一 定值时， 如步骤S18,则减少(增加)光阻量之厚度，当光阻量为 一定值时，如步骤S20，则将溶剂液体抽至第二容置槽48 中，之后就将搜集好的溶剂液体倒入废弃处。因此，本发 明只要在习知技术中增设 一 检测装置42，就可以精准地调 控光阻涂布厚度，既方便又可省去改装制程设备成本，另 外，整个产线所制造的产品质量，也会因而提高。
综上所述，本发明是可及时准确地发现光阻涂布量异 常的现象，以提升产品量率及质量，是一种相当实用的发 明。以上所述者，仅为本发明 一 较佳实施例而已，并非用 来限定本发明实施之范围，故举凡依本发明申请专利范围 所述之形状、构造、特征及精神所为之均等变化与修饰， 均应包括于本发明之申请专利范围内。
权利要求
1.一种监控光阻涂布量变异之方法，该方法包含下列步骤(A)提供一基板，并在该基板上形成一层光阻；(B)将该光阻中的溶剂水气抽至第一容置槽中；(C)控制该第一容置槽中的气压，使该溶剂水气液化成溶剂液体；(D)抽取该溶剂液体，并检测该溶剂液体之剂量；(E)藉由该溶剂液体之剂量与该光阻的比例关是得知该光阻量；一种监控光阻涂布量变异之装置，包含一腔室，其是用来放置一基板，并在该基板上形成一层光阻；一第一容置槽，其是连接该腔室，并将该光阻中的溶剂水气抽至该第一容置槽中，控制该第一容置槽中的气压，使该溶剂水气液化成溶剂液体；一检测装置，其是连接该第一容置槽；以及一第二容置槽，其是连接该检测装置，先将该溶剂液体抽至该检测装置中，再从该检测装置将该溶剂液体抽至该第二容置槽中，藉由该检测装置显示的该溶剂液体之剂量，和该溶剂液体之剂量与该光阻的比例关是可得知该光阻量。
2. 根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之方法， 其特征是，其中在步骤(E)中，当该光阻量高于一定值时， 则减少该光阻量之厚度。
3. 根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之方法， 其特征是，其中在步骤(E)中，当该光阻量低于一定值时， 则增加该光阻量之厚度。
4. 根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之方法， 其特征是，其中在步骤(E)中，当该光阻量为一定值时，则 将该溶剂液体抽至第二容置槽中。
5. 根据权利要求l所述监控光阻涂布量变异之方法， 其特征是，其中在步骤(C)中，当该第一容置槽中的该气压 降低时，可使该溶剂水气液化成该溶剂液体。
6. 根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之方法，其特征是，其中在步骤(D)中，该溶剂液体是流入一检测装置中，而该检测装置用来检测该溶剂液体之剂量。
7.根据权利要求6所述监控光阻涂布量变异之方法，其特 征是，其中该检测装置包含-一流量计，其是连接该第一容置槽，并显示通过该流 量计的该溶剂液体之剂量；一第三容置槽，其是连接该流量计，该溶剂液体可通 过该流量计并流入该第三容置槽中。
8. 根据权利要求7所述监控光阻涂布量变异之方法， 其特征是，其中该流量计为一数字流量计。
9. 根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之方法， 其特征是，其中形成该层光阻的方式为涂布方式。
10. 根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之方法， 其特征是，其中该基板为半导体基板。
11. 根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之方法， 其特征是，其中该光阻可为正光阻或负光阻。
12. 根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之装置， 其特征是，其中该检测装置包含一流量计，其是连接该第一容置槽，并显示通过该流 量计的该溶剂液体之剂量；一第三容置槽，其是连接该流量计与该第二容置槽， 该溶剂液体可通过该流量计并流入该第三容置槽中。
13. 根据权利要求12所述监控光阻涂布量变异之装 置，其特征是，其中该流量计为一数字流量计。
14. 根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之装置， 其特征是，其中形成该层光阻的方式为涂布方式。
15.根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之装置， 其特征是.，其中当该第一容置槽中的该气压降低时，可使 该溶剂水气液化成该溶剂液体。
16. 根据权利要求l所述监控光阻涂布量变异之装置， 其特征是，更.包含第一泵，其是连接该腔室与该第一容置 槽，用来将该光阻中的溶剂水气抽至该第 一 容置槽中。
17. 根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之装置， 其特征是，更包含第二泵，其是连接该检测装置与该第二 容置槽，用来将该溶剂液体抽至该检测装置中，或从该检 测装置将该溶剂液体抽至该第二容置槽中。
18. 根据权利要求l所述监控光阻涂布量变异之装置， 其特征是，其中该基板为半导体基板。
19. 根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之装置， 其特征是，其中该光阻可为正光阻或负光阻。
全文摘要
本发明公开了一种监控光阻涂布量变异之方法及其装置，其是在一半导体基板上涂布光阻后，利用一侦测装置侦测光阻中所含之溶剂水气，利用溶剂水气之剂量和溶剂水气之剂量与光阻的比例关是可得知光阻量，此方法能够有效控制光阻涂布量，使曝光显影制程异常状况降低，以提升产品量率及质量。
文档编号G03F7/16GK101320214SQ20081002751
公开日2008年12月10日 申请日期2008年4月18日 优先权日2008年4月18日
发明者袁渊杰, 陈尧德 申请人:深超光电(深圳)有限公司