专利名称：一种滤光片翻刻工艺的制作方法
技术领域：
本发明属于显示器件用滤光片制造领域，涉及一种用于对母板滤光片进行 翻印刻录制造出新滤光片工艺。
背景技术：
彩色显像管制造过程中有一道曝光工序，该工序通过一系列曝光刻蚀的方 法在显像管的屏内曲面上制造出均匀排列的石墨黑底条纹。而石墨黑底排列的 好坏会直接影响彩色显像管图像显示的质量及对比度高低。所以要保证此工序 倉搞质量完成o
曝光工序所用的设备中有两个比较重要的部件，一是透镜，二是滤光片。 透镜的作用是使光线模拟电子束轨迹，进行光路效正。滤光片的作用是通， 光线的透光率调整形成感光度不同的黑底条纹，滤光片对石墨黑底涂敷的好坏 及整管品味有很重要的影响。
滤光片长时间使用，其表面上的条纹会随时间的增加出现磨损脱落的现象, 对石墨黑底涂敷会有不良影响。本发明主要用于母板滤光片进行翻印亥緣制造 出新滤光片。新滤光片与原滤光片几乎是一样的，可以用它来代替原来的滤光 片。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术不足，提供一种滤光片翻刻工艺，该 工艺操作方便，成本低。
本发明的技术方案是这样实现的-
首先对滤光片玻璃基板进行清洗清洗时先用5-10毫升洗涤剂洗涤，然后 用5-10克氧化锶对玻璃表面进行抛光处理，接着再用5-10毫升洗涤剂进行清 洗，最后用大量去离子水冲洗干净后用0.2mp高压空气吹干；
对玻璃基板进行感光胶注入:注入感光胶时采取湿膜法注入,涂感光胶前， 先对要涂膜的面喷注28-32摄氏度的纯水，同时基板沿中心旋转在表面形成一 层均匀的水膜，在表面温度到26-28摄氏度时进行感光胶注入，注入量为45-55 毫升，注入时基板与水平面成160-170度角，同时沿玻璃基板中心旋转，转速 为175-185转/分，待感光胶注入并均匀涂敷在玻璃基板表面后，进行干燥，干 燥温度为75±5摄氏度，干燥完毕后表面温度控制在68±2摄氏度；
3. 曝光及显影过程涂完感光胶的玻璃基板要进行曝光，采用膜对膜的方 法进行曝光，即母板滤光片有膜的一面向上，新滤光片基板有膜面向下放置在 母板滤光片之上，两个滤光片的膜面是贴在一起的，曝光表面温度30土2摄氏 度曝光照度0.850土0.050咖/cif;曝光时间为3土0.5秒，曝光结束后被光 照到部分硬化附着在玻璃基板表面，然后进行显影处理，以0.18-0.22MP的压 力对玻璃基板有膜面喷射显影水进行清洗，没有被光照到的感光胶部分就会被 洗掉，显影水的成分为42±2摄氏度的纯水，同样显影完成后进行干燥，驢 控制在50土3摄氏度；
4. 石墨涂敷，刻蚀及显影过程完成感光胶显影的玻璃基板进行石墨涂敷, 玻璃基板水平放置，有膜面向下，石墨液体自下而上喷出注入膜面，同时玻璃 基板沿中心轴旋转使石墨均匀扩散，石墨注入时表面温度在43摄氏度，石墨涂 敷完毕后进行干燥，鹏范围为63土2摄氏度，当石墨液体凝固后停止干燥， 表面旨控制在58摄氏度,将石墨涂敷干燥完毕后的基板玻璃立即放入刻蚀液
中进行刻蚀，将硬化附着在玻璃基板表面的感光胶腐蚀掉，连带感光胶上涂敷
的石墨也会跟着脱落，而玻璃表面直接涂敷的石墨则会留下，刻蚀时间在75 秒 90秒之间，刻蚀液采用体积比l: 1的次氯酸钠和水配制而成，刻蚀完毕 后用压力1. Omp的显影水进行清洗将刻蚀完后残留物质冲洗掉；
最后在进行一次干燥50-60摄氏度使玻璃基板上的石墨条纹完全成形,至 此滤光片的翻刻制作完全结束。
本发明感光胶注入时采用湿膜法注入，以及本操作的相关工艺条件使得感 光胶的涂敷能够更加均匀，制造产品质量得到提升。
本发明曝光时采取膜对膜的曝光方式，以及操作时用到的相关工艺条件， 且曝光时不采用透镜进行光路校正，工艺简单，降低生产成本。
具体实施例方式
实施例l:
1、对滤光片玻璃,进行清洗玻璃基板是一块厚度为1.3mm的光学玻 璃，进行翻刻前先要对其进行清洗，清洗时先用洗涤剂洗涤，清洗时先用5毫 升洗涤剂洗涤，然后用5克氧化锶对玻璃表面进行抛光处理，接着再用5毫升 洗涤剂进行清洗，最后用大量去离子水冲洗干净后用0.2mp高压空气吹干；
2.对玻璃基板进行感光胶注入。注入感光胶时采取湿膜法注入，涂感光胶 前，先对要涂膜的面喷注30摄氏度的纯水，同时基板沿中心旋转在表面形成一 层均匀的水膜。在表面温度到27摄氏度时进行感光胶注入，根据所需滤光片尺 寸不同，注入量也不同。注入时基板与水平面成165度角，同时沿玻璃基板中 心旋转，魏为180转/分。由于基板表面已有一层均匀水膜，所以感光胶会顺 着水膜进行均匀扩散，最终形成的感光膜也会比较均匀。待感光胶注入并均匀 涂敷在玻璃基板表面后，进行干燥，干燥时温度提升不要太快，避免基板玻璃
发生炸裂。干燥完毕后表面,控制在68摄氏度左右。
3. 曝光及显影过程。涂完感光胶的玻璃基板要进行曝光，光线通过母板滤 光片上石墨黑底条纹的阻挡射到新滤光片玻璃基板上与感光胶发生反应形成和 母板滤光片上石墨条纹一样的感光胶条纹。为了减少因为光路增加而出现的误 差，采用鹏膜的方法进行曝光，即母板滤光片有膜的一面向上，新滤光片基 板有膜面向下放置在母板滤光片之上。两个滤光片的膜面是贴在一起的。曝光 时工艺^f牛为1.曝光表面鹏30摄氏度2.曝光照度0.850iw/cm2; 3.曝光时 间为3秒。曝光结束后被光照到部分硬化附着在玻璃皿表面，然后进行显影 处理，以0.2MP的压力对玻璃基板有膜面喷射显影水进行清洗，没有被光照到 的感光胶部分就会被洗掉。显影水的成分为42摄氏度的纯水。同样显影完成后 进行干燥，温度控制在50摄氏度左右。
4. 石墨涂敷，刻,显影过程。完成感光胶显影的玻璃基板进行石墨涂敷, 玻璃基板水平放置，有膜面向下，石墨液体自下而上喷出注入膜面，同时玻璃 基板沿中心轴旋转使石墨均匀扩散，石墨注入时表面温度在43摄氏度。石墨涂 敷完毕后进行干燥，当石墨液体凝固后停止干燥，表面温度控制在58摄氏度。 将石墨涂敷干燥完毕后的基板玻璃立即放入刻蚀液中进行刻蚀，将硬化附着在 玻璃基板表面的感光胶腐蚀掉，连带感光胶上涂敷的石墨也会跟着脱落。而玻 璃表面直接涂敷的石墨则会留下。刻蚀时间在75秒之间。刻蚀液采用体积比1: 1的次氯酸钠和水配制而成。刻蚀时间不够则感光胶不会被全部刻蚀掉，而时 间过长则会将玻璃皿表面的石墨也会刻蚀掉。刻蚀完毕后用压力1. Omp的显 影水进行清洗将刻蚀完后残留物质冲洗掉。最后在进行一次干燥使玻璃基板上 的石墨条纹完全成形，至此滤光片的翻刻制作完全结束。
实施例2:
l.对滤光片玻璃基概行清洗:玻璃繊是一块厚度为1.6mm的光学玻璃， 进行翻刻前先要对其进行清洗，清洗时先用10毫升洗涤剂洗涤，然后用10克 氧化锶对玻璃表面进行抛光处理，接着再用10毫升洗涤剂进行清洗，最后用大 量去离子7JC冲洗千净后用0.2mp高压空气吹干；
2、对玻璃基板进行感光胶注入注入感光胶时采取湿膜法注入，涂感光 胶前，先对要涂膜的面喷注32摄氏度的纯水，同时基板沿中心旋转在表面形成 —层均匀的水膜，在表面温度到28摄氏度时进行感光胶注入，注入量为55毫 升，注入时基板与水平面成170度角，同时沿鹏基板中心旋转，转速为185 转/分，待感光胶注入并均匀涂敷在玻璃基板表面后，进行干燥，干燥温度为 75摄氏度，干燥完毕后表面温度控制在70摄氏度；
3. 曝光及显影过程涂完感光胶的玻璃基板要进行曝光，采用膜对膜的方 法进行曝光，即母板滤光片有膜的一面向上，新滤光片基板有膜面向下放置在 母板滤光片之上，两个滤光片的膜面是贴在一起的，曝光表面温度31摄氏度 曝光照度0.850±0.050鹏/cm2;曝光时间为3±0.5秒，曝光结束后被光照到 部分硬化附着在玻璃基板表面，然后进行显影处理，以0.20MP的压力对玻璃基 板有膜面喷射显影水进行清洗，没有被光照到的感光胶部分就会被洗掉，显影 水的成分为42摄氏度的纯7jC,同样显影完成后进行干燥，MJS控制在52摄氏
度；
4. 石墨涂敷，刻贩显影过程完成感光胶显影的玻璃基板进行石墨涂敷， 玻璃基板水平放置，有膜面向下，石墨液体自下而上喷出注入膜面，同时玻璃 繊沿中心轴旋转使石墨均匀扩散，石墨注入时表面温度在43摄氏度，石墨涂 敷完毕后进行千燥，温度范围为65摄氏度，当石墨液体凝固后停止干燥，表面 温度控制在58摄氏度,将石墨涂敷千燥完毕后的基板玻璃立即放入刻蚀液中进
行刻蚀，将硬化附着在玻璃基板表面的感光胶腐蚀掉，连带感光胶上涂敷的石
墨也会跟着脱落,而玻璃表面直接涂敷的石墨则会留下，刻蚀时间在90秒之间， 刻蚀皿用体积比1: 1的次氯酸钠和水配制而成，刻蚀完毕后用压力l.Omp 的显影水进行清洗将刻蚀完后残留物质冲洗掉；
最后在进行一次干燥55摄氏度使玻璃基板上的石墨条纹完全成形,至此滤 光片的翻刻制作完全结束。
权利要求
1、一种滤光片翻刻工艺，其特征在于，步骤如下1)对滤光片玻璃基板进行清洗清洗时先用5-10毫升洗涤剂洗涤，然后用5-10克氧化锶对玻璃表面进行抛光处理，接着再用5-10毫升洗涤剂进行清洗，最后用大量去离子水冲洗干净后用0.2mp高压空气吹干；2)对玻璃基板进行感光胶注入注入感光胶时采取湿膜法注入，涂感光胶前，先对要涂膜的面喷注28-32摄氏度的纯水，同时基板沿中心旋转在表面形成一层均匀的水膜，在表面温度到26-28摄氏度时进行感光胶注入，注入量为45-55毫升，注入时基板与水平面成160-170度角，同时沿玻璃基板中心旋转，转速为175-185转/分，待感光胶注入并均匀涂敷在玻璃基板表面后，进行干燥，干燥温度为75±5摄氏度，干燥完毕后表面温度控制在68±2摄氏度；3)曝光及显影过程涂完感光胶的玻璃基板要进行曝光，采用膜对膜的方法进行曝光，即母板滤光片有膜的一面向上，新滤光片基板有膜面向下放置在母板滤光片之上，两个滤光片的膜面是贴在一起的，曝光表面温度30±2摄氏度曝光照度0.850±0.050mw/cm2；曝光时间为3±0.5秒，曝光结束后被光照到部分硬化附着在玻璃基板表面，然后进行显影处理，以0.18-0.22MP的压力对玻璃基板有膜面喷射显影水进行清洗，没有被光照到的感光胶部分就会被洗掉，显影水的成分为42±2摄氏度的纯水，同样显影完成后进行干燥，温度控制在50±3摄氏度；4)石墨涂敷，刻蚀及显影过程完成感光胶显影的玻璃基板进行石墨涂敷，玻璃基板水平放置，有膜面向下，石墨液体自下而上喷出注入膜面，同时玻璃基板沿中心轴旋转使石墨均匀扩散，石墨注入时表面温度在43摄氏度，石墨涂敷完毕后进行干燥，温度范围为63±2摄氏度，当石墨液体凝固后停止干燥，表面温度控制在58摄氏度，将石墨涂敷干燥完毕后的基板玻璃立即放入刻蚀液中进行刻蚀，将硬化附着在玻璃基板表面的感光胶腐蚀掉，连带感光胶上涂敷的石墨也会跟着脱落，而玻璃表面直接涂敷的石墨则会留下，刻蚀时间在75秒～90秒之间，刻蚀液采用体积比11的次氯酸钠和水配制而成，刻蚀完毕后用压力1.0mp的显影水进行清洗将刻蚀完后残留物质冲洗掉；最后在进行一次干燥50-60摄氏度使玻璃基板上的石墨条纹完全成形，至此滤光片的翻刻制作完全结束。
全文摘要
本发明公开了一种滤光片翻刻工艺，首先对滤光片玻璃基板进行清洗，然后对玻璃基板进行感光胶注入，其次进行曝光及显影过程，石墨涂敷，最好刻蚀及显影过程，本发明感光胶注入时采用湿膜法注入，以及本操作的相关工艺条件使得感光胶的涂敷能够更加均匀，制造产品质量得到提升。本发明曝光时采取膜对膜的曝光方式，以及操作时用到的相关工艺条件，且曝光时不采用透镜进行光路校正，工艺简单，降低生产成本。本发明对降低滤光片购买成本和延长滤光片使用时间起到了显著的作用。
文档编号G03F7/40GK101382614SQ20081015099
公开日2009年3月11日 申请日期2008年9月16日 优先权日2008年9月16日
发明者刚 王, 田俊武, 赵鹏亮, 伟 陈, 高维刚 申请人:彩虹显示器件股份有限公司