用于校准光刻工具的装置及方法

专利名称：用于校准光刻工具的装置及方法
技术领域：
本发明涉及集成电路及用于半导体器件制造的对集成电路的处理，更具体来说， 本发明提供了一种对用于集成电路制造的光刻工艺的跟踪工具进行监视的方法。然而，应 认识到本发明具有宽泛得多的应用范围。例如，本发明可应用于各种器件，例如动态随机存 取存储器件、静态随机存取存储器件(SRAM)、专用集成电路器件(ASIC)、微处理器和微控 制器、闪存器件等。
背景技术：
集成电路，即IC，已经从制造于单个硅芯片上的屈指可数的互连器件发展到上 百万的器件。当前的IC所提供的性能和复杂度已远远超出最初的想象。为了提高复杂度 和电路密度(即能够封装于给定芯片面积中的器件的数量)，最小的器件特征的尺寸(也称 为器件“几何尺寸”)已随着每代IC而变得越来越小。当前制造的半导体器件具有小于四 分之一微米的特征。
增加的电路密度不仅提高了 IC的复杂度和性能，还为消费者提供了更低的成本 部分。一个IC制造设施可能会花费数亿甚至数十亿美元。每个制造设施具有一定的晶圆 吞吐量，而每个晶圆上具有一定数量的IC。因此，通过将IC的各器件制造得更小，可以在每 个晶圆上制造更多的器件，从而提高制造设施的产量。由于IC制造中所使用的每个工艺均 具有限度，因此，将器件制造得更小是非常有挑战性的。换言之，给定的工艺通常仅降低到 一定的特征尺寸，然后则需要改变该工艺或者器件布局。
用于集成电路制造的光刻工艺是对于制造越来越小的器件而言非常重要的一个 半导体工艺的示例。光刻工艺包括沉积光致抗蚀剂材料、图案化和曝光所述光致抗蚀剂材 料等步骤。遗憾的是，用于对光刻工艺中的各步骤进行监视的常规方法难以有效并准确地 执行。例如，用于光刻工艺的跟踪工具中的关键部件或部分是手工对准的，从而会导致误差 和不一致。
鉴于此，可以看出，需要一种用于处理半导体器件的改善的技术。 发明内容
根据本发明，提供了用于制造半导体器件的处理集成电路的技术。更具体而言，本 发明提供了一种校准在用于图案化半导体集成电路的光刻工艺中使用的跟踪工具的方法。 但是，应认识到，本发明具有宽泛得多的应用范围。
校准晶圆可载有一个或多个不同的标记类型，以利于光刻工艺的检查。第一标记 类型可位于晶圆的外围部分上，以指示边缘球状物去除(EBR)区域的期望边界。第二标记 类型可位于晶圆的外围部分上，以指示晶圆边缘暴露区域(WEE)的期望边界。第三标记类 型可指示晶圆的期望载有晶圆标识标记的部分的边界。第四标记类型可位于晶圆的中心， 可使得将液体抗蚀剂材料准确并均勻地施加于晶圆。在对光刻工艺的各个阶段的准确度进 行快速简便的评估的方法中可采用校准晶圆。
根据本发明的用于校准光刻工具的方法的实施例包括提供载有标记的校准晶 圆，在所述校准晶圆上形成光致抗蚀剂材料以覆盖所述标记；通过曝光来去除所述光致抗 蚀剂材料的一部分，以及检查所述校准晶圆，以确定所述标记的部分是否已通过去除所述 光致抗蚀剂而被暴露。
根据本发明的用于配给液体光致抗蚀剂材料的方法的实施例包括提供载有标记 的校准晶圆，所述标记靠近所述校准晶圆的中心，使得液体光致抗蚀剂材料流到所述校准 晶圆上，以及观察从所述标记到所述液体光致抗蚀剂的施加点的距离。
根据本发明的用于校准光刻工具的装置的实施例包括载有标记的校准晶圆，所 述标记勾划出所述校准晶圆的中心、边缘球状物去除(EBR)区域、晶圆边缘排除(WEE)区域 和晶圆标识(ID)区域中的至少一个。
与常规技术相比，通过本发明可获得很多益处。例如，本发明的技术提供了一种易 于使用的依赖于常规技术的工艺。在某些实施例中，所述方法提供了更高的器件产出(以 每晶圆的晶片数为单位)。另外，所述方法提供了在对常规设备和工艺不作实质性改动的 情况下能够与常规工艺技术兼容的工艺。优选地，本发明可应用于诸如存储器、专用集成电 路、微处理器及其他器件等各种应用。优选地，本发明提供了对用于光刻工艺的跟踪工具进 行校准的方法。依赖于实施例，可实现这些益处中的一个或多个。贯穿本说明书将描述这 些及其他益处，并且在下文中将更详细地进行描述。
参考下文的详细说明和附图，可以更充分地理解本发明的各个另外的目的、特征 和优点。


图1(a)是半导体晶圆的简化俯视图，示出了用于处理半导体集成器件的常规方 法的一个步骤；
图1 (aa)是图1 (a)的半导体晶圆的一部分的简化俯视图1(b)是半导体晶圆的简化俯视图，示出了用于处理半导体集成器件的常规方 法的另一步骤；
图1 (bb)是图1 (b)的半导体晶圆的一部分的简化俯视图2是半导体晶圆的简化俯视图，示出了根据本发明一实施例的用于处理半导体 集成器件的方法；
图2(a)是图2的半导体晶圆的外围的一部分的简化俯视图3是半导体晶圆的简化俯视图，示出了根据本发明另一实施例的方法；
图3(a)是图3的半导体晶圆的外围的一部分的简化俯视图4是根据本发明一实施例的方法实施例的简化流程图。
具体实施方式
根据本发明，提供了用于半导体器件的制造的处理技术。然而，应认识到本发明具 有宽泛得多的应用范围。更具体来说，本发明提供了一种对用于集成电路制造的光刻工艺 的跟踪工具进行监视的方法。例如，本发明可应用于各种器件，例如存储器件、专用集成电 路、微处理器、逻辑器件、微控制器等。
校准晶圆可载有一个或多个不同的标记类型，以利于光刻工艺的检查。第一标记 类型可位于晶圆的外围部分上，以指示边缘球状物去除(EBR)区域的期望边界。第二标记 类型可位于晶圆的外围部分上，以指示晶圆边缘暴露区域(WEE)的期望边界。第三标记类 型可指示晶圆的期望载有晶圆标识标记的部分的边界。第四标记类型可位于晶圆的中心， 可使得将液体抗蚀剂材料准确并均勻地施加于晶圆。在对光刻工艺的各个阶段的准确度进 行快速简便的评估的方法中可采用校准晶圆。
本发明提供了一种改进的用于光刻工艺的跟踪工具中处理集成电路的方法。相应 地，与常规方法相比，可以提高每晶圆的器件产出。贯穿本说明书描述了本方法的更多细节 并且在下文中更具体地对其进行描述。
图1(a)是示出了用于处理半导体器件的常规方法的简化图。提供了半导体衬底 IOO0半导体衬底具有表面。从光致抗蚀剂配给喷嘴(未示出)向半导体衬底的表面施加 一定厚度的光致抗蚀剂材料102。该喷嘴被配置用于向晶圆的中心区域103配给液体的未 经曝光的光致抗蚀剂。晶圆被旋转以使光致抗蚀剂材料分布于半导体的表面上。
在该旋涂工艺中，重要的是使得光致抗蚀剂被分布得尽可能靠近晶圆的正中心。 如果光致抗蚀剂材料不是在衬底的中心处被配给的，则结果的光致抗蚀剂材料在晶圆表面 上会呈现出不均勻。
图1(a)还示出了边缘球状物去除(EBR)区域104。具体地，在抗蚀剂材料被旋涂 于晶圆上之后，抗蚀剂材料会延伸到晶圆最外缘。晶圆的这种最外缘区域不是用于包括有 源器件的，而在这些区域中存在抗蚀剂是有害的，会妨碍晶圆处理并带来污染问题。
因此，在进行有源光刻工艺之前，在边缘球状物去除步骤中从晶圆的最外缘去除 抗蚀剂材料。因此，图1(a)中还示出了边缘球状物去除(EBR)区域104。具体地，设置溶剂 配给喷嘴来配给溶剂，以从边缘球状物去除区域104中去除光致抗蚀剂材料。边缘球状物 去除区域具有预定的宽度105，通常在从晶圆边缘起约1-2毫米之间的范围。
EBR步骤不是针对晶圆的期望包括有源器件的部分的。因此，常规上仅通过简单的 视觉观察来确认该EBR步骤的准确度。但是，这种类型的检查易于因个人操作者的判断而 产生变化。所产生的EBR区域的宽度的变化最终会导致缺陷和器件产出损失。因此，在该 领域中，需要能够快速且一致性地识别半导体制造工艺中的EBR步骤的准确度。
图1(b)示出了光刻工艺中的晶圆边缘暴露(WEE)步骤。一旦在晶圆上旋涂了液体 的未经曝光的光致抗蚀剂，在任何暴露步骤之前，通常通过烘烤使该光致抗蚀剂硬化成固 体材料106。但是，晶圆上的有源器件区域通常不会延伸到晶圆的边缘。因此，在对晶圆进 行有源光刻之前，晶圆边缘暴露区域107中的光致抗蚀剂材料可以被暴露并曝光，而衬底 上其他区域中的光致抗蚀剂材料则保持完好。晶圆边缘暴露区域107具有预定的宽度108， 通常在从晶圆边缘起约3-4毫米之间的范围。
与刚刚描述的EBR步骤相似，WEE步骤不是针对晶圆的期望包括有源器件的部分 的。因此，常规上仅通过简单的视觉观察来确认该WEE步骤的准确度。但是，这种类型的检 查易于因个人操作者的判断而产生变化。所产生的WEE区域的宽度的变化最终会导致缺陷 和器件产出损失。因此，在该领域中，需要能够快速且一致性地识别半导体制造工艺中的 WEE步骤的准确度。
图1(b)还示出了晶圆标识区域101。具体地，每个晶圆的标准部分通常不会包括有源器件区域，相反地其被打上标志以包括用于标识正在处理的具体晶圆的视觉信息。晶 圆标识区域101是晶圆上被分配用于保持这种视觉标识信息的部分，且在更精确的光刻之 前通常从该区域中去除光致抗蚀剂，以利于对晶圆的快速识别。
但是，暴露晶圆标识区域的步骤同样不涉及晶圆的期望包括有源器件的部分。因 此，常规上仅通过简单的视觉观察来确认用于去除覆盖晶圆标识区域的光致抗蚀剂的步骤 的准确度。但是，这种类型的检查易于因个人操作者的判断而产生变化。所产生的WEE区 域的宽度的变化最终会导致缺陷和器件产出损失。因此，在该领域中，需要能够快速且一致 性地识别半导体制造工艺中的晶圆标识(ID)的光致抗蚀剂去除步骤的准确度。
图2-3是示出了根据本发明的实施例的用于处理半导体器件的方法的简化图。这 些图仅仅是示例，而不应不恰当地限制权利要求的范围。本领域普通技术人员会想到很多 变型、替代和修改。如图2所示，提供校准晶圆200，校准晶圆可以是硅晶圆等。还可以使用 其他衬底。校准晶圆200具有几何中心201。在半导体衬底的中心区域中提供包括第一标 记类型20 的第一图案202。图案202包括以类似于十字准线的方式沿第一方向203和第 二方向204排列的行的相交。在特定实施例中，所述第一方向和第二方向被设置成彼此正 交且在校准晶圆200的几何中心201处相交。在一个具体实施例中，多个基本上为方形的 配置中的每个的长度的范围为0. 8-1. 0毫米，并且以预定的距离间隔开。还可以使用其他 几何形状的配置。
可以使用一种或多种技术在校准晶圆上制造包括标记20 的图案202。例如，根 据本发明的一个实施例，可以利用图案化和蚀刻工艺、用诸如氧化硅或氮化硅等介电材料 来制造所述标记。还可以使用其他适当的材料，只要这些材料不会由于抗蚀剂材料去除过 程中涉及的化学品而变化即可。
根据本发明的方法的一个实施例包括将光致抗蚀剂配给喷嘴设置为基于第一 类型的标记的位置向校准晶圆200的中心处配给一定量的光致抗蚀剂材料。使用显微镜对 包括所述一定量的光致抗蚀剂材料的校准晶圆进行检查。在某些实施例中，该显微镜具有 预定的放大倍率。该方法参考所述标记图案来验证所述一定量的光致抗蚀剂材料被施加到 校准晶圆的几何中心。移走所述校准晶圆。该方法包括如果从光致抗蚀剂配给喷嘴配给 的光致抗蚀剂材料在校准晶圆的几何中心，则处理一个或多个产品晶圆。替代地，该方法将 跟踪工具转向维持或校准工艺。
如图2还示出的，在校准晶圆200的外围区域中的圆周上形成包括多个基本上为 方形配置的标记20 的第二图案205。标记20 勾划出位于校准晶圆的外围区域的外部 中的蚀刻球形物去除(EBR)区域207的边界。EBR区域具有预定宽度206。
根据本发明的一个实施例的方法包括沉积光致抗蚀剂材料，从而覆盖校准晶圆 的表面。该方法包括设置来自用于光刻工艺的跟踪工具的溶剂配给喷嘴以配给溶剂，以从 EBR区域中去除光致抗蚀剂材料。在一个具体实施例中，EBR区域具有范围为约1-2毫米的 预定的宽度206。该方法包括使用显微镜来检查包括EBR区域的校准晶圆。如果溶剂配 给喷嘴被设置为配给溶剂以从校准晶圆从EBR区域中去除光致抗蚀剂材料，则该方法对一 个或多个产品晶圆执行EBR工艺。替代地，该方法将跟踪工具转向维持或校准工艺。
图3是示出了用于处理半导体器件的方法的简化图。提供校准晶圆300。校准晶 圆可以是硅晶圆等。还可以使用其他衬底。
校准晶圆300具有表面300a。在校准晶圆的外围的圆周上存在包括第三类型的标 记301的图案305。多个图案中的每个图案基本上为方形的配置。在某些实施例中，基本 上为方形的配置中的每个的边长范围在约0. 8-1. 2毫米之间。在一个具体实施例中，包括 标记301的图案305勾划出位于校准晶圆的外围中的晶圆边缘暴露区域302的边界。晶圆 边缘暴露区域具有预定的宽度30加。在某些实施例中，预定的宽度30 范围在4毫米到6 毫米。
再参考图2，还示出了晶圆标识(ID)区域210。依赖于应用可以在边缘球状物去 除步骤或晶圆边缘暴露步骤中去除覆盖晶圆标识区域210的光致抗蚀剂材料。因此，包括 标记252的第四图案250勾划出晶圆标识区域的边界，从而能够对光致抗蚀剂材料从晶圆 标识区域中的去除的准确度进行快速的视觉检查。
图4是示出了根据本发明的方法的一个实施例的简化流程图。在方法400的第一 步骤402中，在处理工具中设置具有所描述的标记类型的校准晶圆。在第二步骤404中，向 校准晶圆的中心施加未经曝光的液体光致抗蚀剂，并确定施加点与位于晶圆中心的标记之 间的距离。
在第三步骤406中，通过烘烤使光致抗蚀剂硬化，从而混淆了晶圆上的标记。在另 一步骤408中，向晶圆的边缘部分施加溶剂，以去除边缘球状物。在第五步骤410中，检查 晶圆的外边缘部分，以确定剩余的光致抗蚀剂与勾划出EBR区域的标记图案的对准。
在第六步骤412中，仅将晶圆的边缘区域暴露于辐射，以曝光这些晶圆边缘区域 中的光致抗蚀剂。在第七步骤414中，从晶圆边缘部分中去除经曝光的光致抗蚀剂，并且还 从晶圆标识区域中去除经曝光的光致抗蚀剂。在第八步骤416中，检查晶圆的内边缘部分， 以确定剩余的光致抗蚀剂与勾划出WEE区域的标记图案的对准。在第九步骤418中，检查 晶圆标识区域的各维度，以确定剩余的光致抗蚀剂与勾划出晶圆标识区域的标记图案的对 准。
在步骤420中，基于检查步骤404、410、416和418的结果，可以调整或重新配置光 刻工具的各参数，以使得光致抗蚀剂施加、EBR和光致抗蚀剂曝光的结果将WEE和晶圆标识 区域限定为与预定规范一致。
根据本发明的方法的一个实施例包括沉积光致抗蚀剂材料，从而覆盖校准晶圆 的表面。然后，该方法对校准晶圆施加晶圆边缘暴露工艺，暴露并曝光晶圆边缘暴露区域中 的光致抗蚀剂材料，而遮蔽其他区域中的光致抗蚀剂材料。该方法包括利用具有预定的放 大倍率的显微镜来检查包括晶圆边缘暴露区域的校准晶圆。如果已从校准晶圆上的WEE区 域中去除所有的光致抗蚀剂材料，该方法对一个或多个产品晶圆执行晶圆边缘暴露工艺。 替代地，该方法将跟踪工具转向维持或校准工艺。
根据本发明的一个实施例的使用用于光刻工艺的跟踪工具来制造集成电路器件 的方法可以总结如下
1.提供衬底，如硅晶圆；
2.通过在衬底的中心形成图案来制造校准晶圆，所述图案包括多个基本上为方形 的配置；
3.将校准晶圆布置于用于光刻工艺的跟踪工具中，并利用第一图案来确定光致抗 蚀剂配给喷嘴的位置；
4.利用所述图案来验证光致抗蚀剂配给喷嘴被设置为在校准晶圆的中心处配给 光致抗蚀剂材料；
5.移走校准晶圆；
6.如果光致抗蚀剂配给喷嘴被设置为在晶圆的中心处配给光致抗蚀剂材料，则使 用跟踪工具来处理一个或多个产品晶圆，以配给光致抗蚀剂材料；
7.根据需要来执行其他步骤。
上述步骤序列用于提供用于光刻工艺的跟踪工具的校准晶圆和校准步骤。如所示 出的，该方法提供了确定从光致抗蚀剂配给喷嘴的光致抗蚀剂材料的配给的途径。
根据本发明的一个实施例的使用用于光刻工艺的跟踪工具来制造集成电路器件 的方法可以总结如下
1.提供衬底，如硅晶圆；
2.通过在衬底的外围区域的圆周上形成图案来制造校准晶圆，所述外围区域为光 刻工艺中的边缘球状物去除区域，所述图案包括多个基本上为方形的配置；
3.将校准晶圆布置于用于光刻工艺的跟踪工具中，并利用校准晶圆上的图案来确 定溶剂配给喷嘴的位置，溶剂配给喷嘴配给溶剂，以去除边缘球状物去除区域中的光致抗 蚀剂材料；
4.如果通过配给的溶剂从校准晶圆上的边缘球状物去除区域中去除了光致抗蚀 剂材料，则使用跟踪工具来处理一个或多个产品晶圆，以从边缘球状物去除区域中去除光 致抗蚀剂材料；
5.根据需要来执行其他步骤。
上述步骤序列用于提供用于光刻工艺的跟踪工具的校准晶圆和校准步骤。如所示 出的，该方法提供了确定用于边缘球状物去除(EBR)工艺的溶剂从溶剂配给喷嘴的配给的 途径。
根据本发明的一个实施例的使用用于光刻工艺的跟踪工具来制造集成电路器件 的方法可以总结如下
1.提供衬底，如硅晶圆；
2.通过在晶圆外围区域中形成图案来制造校准晶圆，晶圆外围区域为光刻工艺中 的晶圆边缘暴露区域；
3.在校准晶圆上沉积光致抗蚀剂材料；
4.暴露并曝光晶圆边缘暴露区域中的光致抗蚀剂材料，而遮蔽校准晶圆的其他区 域；
5.利用所述图案来验证从晶圆边缘暴露区域中去除了光致抗蚀剂材料；
6.如果去除了晶圆边缘暴露区域中的光致抗蚀剂材料，则处理一个或多个产品晶 圆；
7.根据需要来执行其他步骤。
上述步骤序列用于根据本发明的一个实施例对用于半导体器件的光刻工艺的跟 踪工具进行校准。如所示出的，该方法提供了确定光致抗蚀剂材料从晶圆边缘暴露区域中 的去除的途径。
在一个具体实施例中，本发明提供了一种处理半导体器件的方法。该方法包括提供校准晶圆，该校准晶圆的尺度与产品晶圆相同。优选地，校准晶圆包括硅晶圆。该方法包 括通过在校准晶圆的中心处的区域中制造图案。所述图案包括多个基本上为方形的配置。 所述多个基本上为方形的配置沿第一方向和第二方向排列。第一方向和第二方向彼此正交 且在校准晶圆的几何中心相交。所述图案是使用介电材料制造的。介电材料可以是氧化硅 或氮化硅或其他适当的材料。在一个具体的实施例中，基本上为方形的配置中的每个的长 度范围为约0.8-1. 2毫米。还可以使用其他几何形状的配置。该方法包括将校准晶圆用 于对光刻工艺的跟踪工具的对准工艺中。该方法包括设置来自跟踪工具的光致抗蚀剂配 给喷嘴，以向晶圆中心配给一定量的光致抗蚀剂材料。该方法包括利用具有预定的放大倍 率的显微镜来检查所述一定量的光致抗蚀剂材料。该方法包括如果来自跟踪工具的光致 抗蚀剂配给喷嘴在校准晶圆的几何中心处配给光致抗蚀剂材料，则使用一个或多个产品晶 圆来操作跟踪工具。
在一个替代的具体实施例中，本发明提供了一种用于处理半导体器件的方法。该 方法包括提供校准晶圆，该校准晶圆的尺度与产品晶圆相同。该方法包括在校准晶圆的 外围区域的圆周上制造图案，所述外围区域为边缘球状物去除(EBR)区域。在某些实施例 中，边缘球状物去除区域在从晶圆边缘起约1.0-2.0毫米的范围。所述图案是使用介电材 料(特别是氧化硅或氮化硅)形成的。在某些实施例中，所述图案包括多个基本上为方形的 配置。该方法包括沉积光致抗蚀剂材料，从而覆盖校准晶圆。该方法包括从用于光刻工 艺的跟踪工具中的溶剂配给喷嘴配给溶剂，以从边缘球状物去除区域中去除光致抗蚀剂材 料。该方法包括利用具有放大倍率为χ或更高的显微镜来检查边缘球状物去除区域。该 方法包括验证从边缘球状物去除区域中去除了光致抗蚀剂材料。该方法包括如果通过 校准晶圆上的溶剂从边缘球状物去除区域中完全去除了光致抗蚀剂材料，则对一个或多个 产品晶圆执行边缘球状物去除工艺。
在一个具体实施例中，本发明提供了一种用于处理半导体器件的方法。该方法包 括提供校准晶圆，该校准晶圆的尺度与产品晶圆相同。在校准晶圆的圆周上形成多个图 案，所述圆周在校准晶圆的外围区域中。在一个具体实施例中，晶圆边缘暴露区域位于该外 围区域中。每个图案具有基本上为方形的配置。仅仅作为一个示例，每个图案具有尺度范 围为约0.8-1. 2毫米的方形配置。还可以使用其他几何形状的配置。所述多个图案是使用 介电材料(特别是氧化硅或氮化硅)形成的。该方法包括配给一定量的光致抗蚀剂材料， 从而覆盖校准晶圆。该方法包括暴露晶圆边缘暴露区域，而遮蔽校准晶圆上的其他区域。 该方法包括利用具有预定的放大倍率的显微镜来检查晶圆边缘暴露区域。如果从校准晶 圆上的晶圆边缘暴露区域中去除了光致抗蚀剂材料，则该方法继续对一个或多个产品晶圆 执行晶圆边缘暴露工艺。
尽管上文已根据具体实施例进行了说明，但是仍可以存在其他变型、修改和替换 方式。例如，单个校准晶圆可以具有多于一种类型的标记图案，以利于检查。因此，校准晶 圆可包括用于勾划出EBR区域、TOE区域、晶圆中心和晶圆标识区域中的一些区域或每个区 域的标记图案。替代地，单个校准晶圆可以仅具有一种标记图案，而使用单独的校准晶圆来 校准光致抗蚀剂从晶圆的不同区域中的去除。
上述讨论主要集中于包括半导体材料的衬底形式的校准晶圆(例如直径为200毫 米或300毫米的标准多晶硅晶圆)的形成和使用。尽管是参考在晶圆上执行的工艺的校准来描述本发明的，但是，本发明不局限于该具体的应用。可以利用根据本发明的方法和装置 的替代实施例对在其他类型的衬底(包括但不限于磁盘记录介质、光盘记录介质和平板显 示装置)上执行的工艺进行校准。
还应理解，这里描述的示例和实施例仅仅是示例性的，本领域技术人员根据这些 示例和实施例可以想到的各种修改或变化应包括于本申请的精神和范围以及所附权利要 求的范围内。
权利要求
1.一种用于校准光刻工具的方法，所述方法包括提供载有标记的校准晶圆；在所述校准晶圆上形成光致抗蚀剂材料以覆盖所述标记；通过曝光来去除所述光致抗蚀剂材料的一部分；以及检查所述校准晶圆，以确定所述标记的部分是否已通过去除所述光致抗蚀剂而被暴露。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述校准晶圆包括半导体材料。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述校准晶圆包括单晶硅，而所述标记包括介电 材料。
4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述介电材料包括氧化硅和氮化硅之一。
5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述校准晶圆选自半导体衬底、光学记录介质、 磁性记录介质以及平板显示装置。
6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述标记勾划出边缘球状物去除(EBR)区域、晶 圆边缘排除(WEE)区域和晶圆标识区域中的至少一个的边界。
7.根据权利要求6所述的方法，其中，从所述晶圆的外围上的边缘球状物去除(EBR)区 域中去除光致抗蚀剂。
8.根据权利要求7所述的方法，其中，通过从喷嘴配给的溶剂从所述边缘球状物去除 区域中去除光致抗蚀剂材料。
9.根据权利要求7所述的方法，其中，所述边缘球状物去除区域在从晶圆边缘起约1-2 毫米的范围。
10.根据权利要求6所述的方法，其中，所述外围区域是晶圆边缘暴露(WEE)区域。
11.根据权利要求10所述的方法，其中，通过将所述晶圆的外围区域上的光致抗蚀剂 材料暴露和曝光而从所述晶圆边缘暴露区域中去除光致抗蚀剂材料。
12.根据权利要求10所述的方法，其中，所述晶圆边缘暴露区域在从晶圆边缘起约3-4 毫米的范围。
13.—种配给液体光致抗蚀剂材料的方法，所述方法包括提供载有标记的校准晶圆，所述标记靠近所述校准晶圆的中心；使液体光致抗蚀剂材料流到所述校准晶圆上；观察从所述标记到所述液体光致抗蚀剂的施加点的距离。
14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述标记包括在所述校准晶圆的中心处相交 的正交线。
15.根据权利要求13所述的方法，其中，所述校准晶圆选自半导体衬底、光学记录介 质、磁性记录介质以及平板显示装置。
16.一种用于校准光刻工具的装置，包括载有标记的校准晶圆，所述标记勾划出所述校 准晶圆的中心、边缘球状物去除(EBR)区域、晶圆边缘排除(WEE)区域和晶圆标识区域中的 至少一个。
17.根据权利要求16所述的装置，其中，所述校准晶圆包括单晶硅。
18.根据权利要求16所述的装置，其中，所述标记包括介电材料。
19.根据权利要求16所述的装置，其中，所述校准晶圆选自半导体衬底、光学记录介质、磁性记录介质以及平板显示装置。
20.根据权利要求16所述的装置，其中，所述标记位于距离晶圆边缘约6毫米或小于6 毫米处。
全文摘要
一种用于校准光刻工具的装置及方法。校准晶圆可载有一个或多个不同的标记类型，以利于光刻工艺的检查。第一标记类型可位于晶圆的外围部分上，以指示边缘球状物去除(EBR)区域的期望边界。第二标记类型可位于晶圆的外围部分上，以指示晶圆边缘暴露区域(WEE)的期望边界。第三标记类型可指示晶圆的期望载有晶圆标识标记的部分的边界。第四标记类型可位于晶圆的中心，可使得将液体抗蚀剂材料准确并均匀地施加于晶圆。在对光刻工艺的各个阶段的准确度进行快速简便的评估的方法中可采用校准晶圆。
文档编号G03F7/16GK102033423SQ20091005796
公开日2011年4月27日 申请日期2009年9月28日 优先权日2009年9月28日
发明者朱伟, 林世鸿, 陈群琦, 陈钦裕 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司