专利名称：一种显影液组成物的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种显影液组成物，特指一种关于正性抗蚀剂的显影液组成物。
背景技术：
一般在液晶显示器、印刷电路板和集成电路等制备工艺中，为获得精细图形，常用 光刻胶等放射线敏感组成物以涂布方式在基材上形成薄膜，经过曝光后，以碱性显影液显 像，去除不要的涂膜部分，以获取良好的图形。在这些平板印刷工序中，通过曝光把画有电路图案的掩膜转移到晶片上的光刻胶 上，接着使上述光刻胶的曝光面与显影液接触，对于正性，曝光的部分溶解于显影液，而对 于负性，未曝光区溶解于显影液。显影工艺的第一个目的是未曝光的正性抗蚀剂膜应受显影剂腐蚀程度最小。实 际的显影总是对未曝光的抗蚀剂有某种程度的腐蚀，但由于曝光区和未曝光区的溶解度不 同，使得抗蚀剂工艺可行。实际上，选择范围更大的显影剂也花更长时间以完全显影图像。 这样，选择显影剂时，就必须综合考虑不同的溶解度和产能。应选择一显影剂其产能满足要 求且不引起过分的抗蚀剂变薄。另外，显影剂也应有足够的容度以使工艺能在生长环境中 维持。进行显影有三种主要方法浸入、喷淋和搅动显影。然而根据已知显影液的技术，感光性抗蚀剂在涂膜并预烤、曝光后，虽可用碱性显 影液来溶解除去未曝光而不要的涂膜部份，但在显影时容易产生未显影部位粒子或未溶解 物的残存，因此显影后比较难以形成精细的图像，从而无法满足市场的需求。
发明内容
本发明所要解决的技术问题就在于克服目前显影液所存在的不足，提供一种显像 性良好，避免残渣生成，抗蚀剂曝光后能形成图像的显影液组成物。为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是该显影液组成物的构成原料及 重量配比为
15份； 15份； 1份； 一 5份；
0. 1 -0. 1 -0. 1 -0. 01余份。
碱性化合物 非离子表面活性剂 阳离子表面活性剂 渗透剂 纯水
上述技术方案中，所述显影液组成物的构成原料及重量配比为 碱性化合物10份；
非离子表面活性剂 8份； 阳离子表面活性剂 0.5份； 渗透剂3份；
纯水
78. 5 份。 或，上述技术方案中，所述显影液组成物的构成原料及重量配比为上述技术方案中，所述碱性化合物的作用在于溶解非图像部分的抗蚀剂，该碱性 化合物为无机碱性化合物或有机碱性化合物；其中，无机碱性化合物为碱金属的氢氧化 物、碳酸氢盐、碳酸盐中的一种或几种；有机碱性化合物为单甲基胺、二甲基胺、三甲基 胺、单乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、氢氧化四甲基铵、氢氧 化四乙基铵、单乙醇二甲基胺中的一种或几种。上述技术方案中，所述非离子表面活性剂为聚氧乙烯烷基酚醚、聚氧乙烯脂肪醇 醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯脂肪胺、聚氧乙烯多元醇酯、失水三梨醇酯中的一种或几 种。上述技术方案中，所述阳离子表面活性剂为烷基三甲基铵盐、二烷基二甲基铵 盐、酰胺型季铵盐、醚基季铵盐中的一种或几种。上述技术方案中，所述渗透剂为聚氧乙烯醚类渗透剂中的聚氧乙烷和高级脂肪醇 的缩合物或磷酸酯。上述技术方案中，所述纯水是经过离子交换树脂过滤的水，其电阻至少是18ΜΩ。本发明的优点在于本发明具有显像性良好，避免残渣生成，抗蚀剂曝光后能形成 图像。其次，本发明具有低毒性、不具易燃性、以及管理容易、废液处理简便及成本低廉等优 点。再次，本发明可运用在液晶显示器(LCD)、印刷电路板(PCB)、集成电路(IC)等领域上。
具体实施例方式下面结合具体实施例对本发明进一步说明实施例一本实施例一具体原料及重量为碳酸盐10千克；聚氧乙烯脂肪醇醚 8千克；醚基季铵盐0. 5千克；聚氧乙烯醚类渗透剂中的聚氧乙烷和高级脂肪醇的缩合物3千克；纯水78. 5千克。实施例二本实施例二具体原料及重量为氢氧化四甲基铵 8千克；聚氧乙烯脂肪胺 6千克；烷基三甲基铵盐 0.3千克；磷酸酯2. 5千克；碱性化合物非离子表面活性剂阳离子表面活性剂渗透剂纯水
8份； 6份； 0. 3 份； 2. 5 份； 83. 2 份。
纯水83. 2千克。当然，以上所述仅为本发明的几个实例而已，并非来限制本发明实施范围，凡依本 发明申请专利范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均应包括于本发明申 请专利范围内。
权利要求
1. 一种显影液组成物，其特征在于该显影液组成物的构成原料及重量配比为碱性化合物0. 1 15份非离子表面活性剂0. 1 15份阳离子表面活性剂0. 1 1份;渗透剂0. 01 -- 5份纯水余份。
2.根据权利要求1所述的一种显影液组成物，其特征在于所述显影液组成物的构成 原料及重量配比为碱性化合物10份；非离子表面活性剂 8份； 阳离子表面活性剂 0.5份； 渗透剂3份；纯水78. 5份。
3.根据权利要求1所述的一种显影液组成物，其特征在于所述显影液组成物的构成 原料及重量配比为碱性化合物8份；非离子表面活性剂 6份； 阳离子表面活性剂 0.3份； 渗透剂2. 5份；纯水83. 2份。
4.根据权利要求1-3任意一项所述的一种显影液组成物，其特征在于所述碱性化合 物为无机碱性化合物或有机碱性化合物；其中，无机碱性化合物为碱金属的氢氧化物、碳 酸氢盐、碳酸盐中的一种或几种；有机碱性化合物为单甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、单乙 基胺、二乙基胺、三乙基胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基 铵、单乙醇二甲基胺中的一种或几种。
5.根据权利要求1-3任意一项所述的一种显影液组成物，其特征在于所述非离子表 面活性剂为聚氧乙烯烷基酚醚、聚氧乙烯脂肪醇醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯脂肪胺、 聚氧乙烯多元醇酯、失水三梨醇酯中的一种或几种。
6.根据权利要求1-3任意一项所述的一种显影液组成物，其特征在于所述阳离子表 面活性剂为烷基三甲基铵盐、二烷基二甲基铵盐、酰胺型季铵盐、醚基季铵盐中的一种或 几种。
7.根据权利要求1-3任意一项所述的一种显影液组成物，其特征在于所述渗透剂为 聚氧乙烯醚类渗透剂中的聚氧乙烷和高级脂肪醇的缩合物或磷酸酯。
8.根据权利要求1-3任意一项所述的一种显影液组成物，其特征在于所述纯水是经 过离子交换树脂过滤的水，其电阻至少是18ΜΩ。
全文摘要
本发明涉及一种显影液组成物，特指一种关于正性抗蚀剂的显影液组成物。该显影液组成物的构成原料及重量配比为碱性化合物0.1～15份；非离子表面活性剂0.1～15份；阳离子表面活性剂0.1～1份；渗透剂0.01～5份；纯水余份。本发明的优点在于本发明具有显像性良好，避免残渣生成，抗蚀剂曝光后能形成图像。其次，本发明具有低毒性、不具易燃性、以及管理容易、废液处理简便及成本低廉等优点。再次，本发明可运用在液晶显示器(LCD)、印刷电路板(PCB)、集成电路(IC)等领域上。
文档编号G03F7/32GK102063024SQ20101060418
公开日2011年5月18日 申请日期2010年12月24日 优先权日2010年12月24日
发明者何国锐, 殷健成 申请人:东莞市智高化学原料有限公司