调校装置及其调校方法
【专利摘要】一种调校装置及其调校方法，适用于调校感光组件。调校装置包含第一平台、第二平台、第三平台及盖体。第一平台具有至少三容槽，各容槽具有定位模块，各定位模块具有曲面体及定位弹性件。第二平台设置于第一平台的一侧，对应各曲面体具有凹槽，且第二平台向外延伸承抵部。第三平台设置于第一平台的另一侧，且电性连接控制模块，控制模块控制第三平台沿轴向进行位移，并使第一平台与第二平台同时随第三平台进行位移。盖体设置于第二平台的一侧，以压制感光组件，使其平贴于第二平台。外力推抵第二平台的承抵部，第二平台沿轴向进行位移，以进行感光组件的倾斜调整动作，通过各定位弹性件的伸张，各曲面体与各凹槽保持接触。
【专利说明】调校装置及其调校方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种调校装置，特别涉及一种利用若干个可移动平台，结合若干个定位模块，以调整感光组件的对焦平面的倾斜角度及其与镜头的距离的调校装置及其调校方法。
【背景技术】
[0002]随着光学科技的进步，与近年来各大相机厂的强力营销，现代人多以相机来记录日常生活的点滴，取代了以往以手写日记的纪录型态，而为了因应此消费市场的庞大需求，如何降低相机生产成本与简化生产流程，成了各大相机厂的首要课题。
[0003]在相机出厂前，须经过多道校对作业，其中最重要的校对作业，莫过于感光组件与摄像装置光轴的调校。感光组件需设置于摄像装置的光轴上，且感光组件的感光面需与摄像装置的焦平面重合，以使摄像装置可清晰成像。若感光组件的感光面未与摄像装置的焦平面重合，则使用者在使用摄像装置时，会发生脱焦的状况，或是无法对焦的情况。
[0004]现今感光组件的调校装置多利用调整模块，推抵感光组件的放置平台，以使感光组件与光轴平行，但往往在调校过程中，调整模块易使感光组件发生旋转，进而造成无法精准调校。故，如何设计理想的调校装置，能达到可调整感光组件与光轴与关系的功效，以解决目前调校装置的在调校过程中会发生旋转的问题，已成市场应用上的一刻不容缓的议题。有鉴于此，本发明的发明人思索并设计种调校装置，以针对现有技术的缺失加以改善，进而增进产业上的实施利用。
【发明内容】
[0005]有鉴于上述现有技术的问题，本发明的其中一目的就是在于提供一种调校装置，以解决目前无法防止感光组件在调校过程中发生旋转的问题。
[0006]本发明的另一目的就是在于提供一种调校方法，用于调校感光组件，以解决目前无法防止感光组件在调校过程中发生旋转的问题。
[0007]为实现上述目的，本发明采取以下技术方案:
根据本发明的目的，提出一种调校装置，其包含:第一平台、第二平台、第三平台及盖体。第一平台具有至少三容槽，各容槽具有一定位模块，各定位模块具有曲面体及定位弹性件。第二平台设置于第一平台的一侧，对应各曲面体具有凹槽，且第二平台向外延伸承抵部。第三平台设置于第一平台的另一侧，且电性连接控制模块，控制模块控制第三平台沿轴向进行位移，并使第一平台与第二平台同时随第三平台进行位移。盖体设置于第二平台的一侧，以压制感光组件，使其平贴于第二平台。其中，外力推抵第二平台的承抵部，第二平台沿轴向进行位移，以进行感光组件的倾斜调整动作，且通过各定位弹性件的伸张，各曲面体与各凹槽保持接触。
[0008]其中，调校装置还可包含调整部，具有至少三工作爪，以分别推抵承抵部，进而使第二平台沿轴向进行位移。[0009]其中，第一平台与第二平台间可设有若干个回复弹性件，当第二平台进行沿轴向位移时，可通过所述若干个回复弹性件，以使第一平台可随第二平台进行轴向位移，第二平台还可具有若干个吸附单元，通过所述若干个吸附单元以使感光组件平贴于第二平台，且感光组件可放置于第二平台的放置表面，放置表面与承抵部的承抵表面相互平行。
[0010]其中，盖体可具有若干个针脚，且所述若干个针脚对应感光组件的外形，均匀地压制在感光组件上，以使感光组件平贴于第二平台，且各针脚的间距可介于三厘米与感光组件的长宽值间。
[0011]其中，调校装置还可包含感测模块，以感测第二平台沿轴向位移的位移量，以产生位移信号，控制模块依据位移信号，以控制所述第三平台沿所述轴向进行反向位移，进而使所述第一平台及所述第二平台沿所述轴向进行反向位移。
[0012]根据本发明的再一目的，提出一种调校方法，适用于调校感光组件，其包含:提供第一平台，具有至少三容槽；设置定位模块于各容槽，且各定位模块具有曲面体及定位弹性件；设置第二平台于第一平台的一侧，对应各曲面体具有凹槽，且第一平台向外延伸承抵部；设置第三平台于第一平台的另一侧，且电性连接控制模块，控制模块控制第三平台沿轴向进行位移，并使第一平台与第二平台同时随第三平台进行位移；设置盖体于第二平台的一侧，以压制感光组件，使其平贴于第二平台。当承抵部被推抵时，第二平台沿轴向进行位移，且通过各定位弹性件的伸张，各曲面体与各凹槽保持接触。
[0013]其中，调校方法还可包含下列步骤:通过调整部，具有至少三工作爪，分别推抵承抵部，以使第二平台沿轴向进行位移。
[0014]其中，调校方法还可包含下列步骤:设置若干个回复弹性件于第一平台与第二平台间；当第二平台进行沿轴向位移时，通过所述若干个回复弹性件，以使第一平台随第二平台进行轴向位移；设置若干个吸附单元于第二平台，通过所述若干个吸附单元以使感光组件平贴于第二平台，且感光组件可放置于第二平台的放置表面，放置表面与承抵部的承抵表面相互平行。
[0015]其中，盖体可具有若干个针脚，且所述若干个针脚对应感光组件的外形，均匀地压制在感光组件上，以使感光组件平贴于第二平台；各针脚的间距可介于三厘米与感光组件的长宽值间。
[0016]其中，调校方法还可包含下列步骤:提供感测模块，以感测第二平台沿轴向位移的位移量，以产生位移信号；通过控制模块依据位移信号，以控制所述第三平台沿所述轴向进行反向位移，进而使所述第一平台及所述第二平台沿所述轴向进行反向位移。
[0017]本发明的有益效果是:承上所述，依本发明的调校装置及其调校方法，其可具有一或多个下述优点:
(I)此调校装置及其调校方法，利用至少三组定位模块，以使感光组件在调校过程中，仅进行轴向位移，而不发生旋转，以达到精确调校的功效。
[0018](2)此调校装置及其调校方法，利用控制模块及定位模块，以同步调整感光组件的焦平面倾角及焦平面距离，藉此可以有效地提升调校装置的效率。
【专利附图】
【附图说明】
[0019]图1为本发明的调校装置的第一示意图。[0020]图2为本发明的调校装置的第二示意图。
[0021]图3为本发明的调校装置的第一实施例的第一示意图。
[0022]图4为本发明的调校装置的第一实施例的第二示意图。
[0023]图5为本发明的调校装置的第一实施例的第三示意图。
[0024]图6为本发明的调校装置的第二实施例的第一示意图。
[0025]图7为本发明的调校装置的第二实施例的第二示意图。
[0026]图8为本发明的调校方法的流程图。
[0027]附图标号:1:调校装置；10:感光组件；11:第一平台；111:容槽；112:定位模块；1121:曲面体；1122:定位弹性件；12:第二平台；121:凹槽；122:承抵部；1221:承抵面；123:放置平面；124:吸附单元；13:第三平台；14:控制模块；15:盖体；151:针脚；16:调整部；161:工作爪；17:回复弹性件；18:感测模块；19:壳体。
【具体实施方式】
[0028]为利于贵审查员了解本发明的技术特征、内容与优点及其所能达成的功效，兹将本发明配合附图，并以实施例的表达形式详细说明如下，而其中所使用的图式，其主旨仅为示意及辅助说明书之用，未必为本发明实施后的真实比例与精准配置，故不应就所附的图式的比例与配置关系解读、局限本发明在实际实施上的权利范围，合先叙明。
[0029]请一并参阅图1及图2。图1为本发明的调校装置的第一示意图；图2为本发明的调校装置的第二示意图。如图所示，调校装置I包含:第一平台11、第二平台12、第三平台13、控制模块14及盖体15。第一平台11具有至少三容槽111，各容槽111具有定位模块112，各定位模块112具有曲面体1121及定位弹性件1122。其中，定位模块112可以是滚珠轴承连接弹簧。第二平台12设置于第一平台11的一侧，对应各曲面体1121具有凹槽121，且第二平台12向外延伸承抵部122。第三平台13设置于第一平台11的另一侧，且电性连接控制模块14，控制模块14控制第三平台13沿轴向进行位移，并使第一平台11与第二平台12同时随第三平台13进行位移。盖体15设置于第二平台12的一侧，以压制感光组件10，使其平贴于第二平台12。当承抵部122被推抵时，第二平台12沿轴向进行位移，且通过各定位弹性件1122的伸张，各曲面体1121与各凹槽121保持接触。
[0030]换言之，感光组件10放置于第二平台12，当欲调校感光组件10与对焦平面的倾斜角时，可通过推抵第二平台12的承抵部122，以使感光组件10调整至所需的位置；而在调整过程中，第二平台12渐渐远离第一平台11，通过定位模块112的各个定位弹性件1122的伸张，以使各个曲面体1121随时与第二平台12的凹槽121保持接触，进而可使第二平台12沿轴向位移时，不会发生水平方向的旋转。
[0031]请一并参阅图3至图5。图3为本发明的调校装置的第一实施例的第一示意图；图4为本发明的调校装置的第一实施例的第二示意图；图5为本发明的调校装置的第一实施例的第三示意图。如图所示，调校装置I包含:第一平台11、第二平台12、第三平台13、控制模块14、盖体15、调整部16及四个回复弹性件17。第一平台11具有三个容槽111，各容槽111内设有定位模块112，且各定位模块112由曲面体1121及定位弹性件1122组成。其中，定位模块112在实际应用中可以是结合弹簧的滚珠轴承。第二平台12设置于第一平台11的一侧，且对应各曲面体1121具有凹槽121。第一平台11与第二平台12间设有四个回复弹簧17。各曲面体1121可以是球面或弧面，可以视实际需求而加以设计。感光组件10放置于第二平台12的放置平面123，且第二平台12对应放置平面123，设有若干个吸附单元124，通过吸附的方式，以使感光组件10平贴于放置平面123。其中，放置平面123与承抵部122的承抵面1221相互平行。感光组件10可以是电荷稱合组件(Charge-coupled device,CCD)或互补式金属-氧化层-半导体(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor,CMOS)。第二平台12还向外延伸出承抵部122。第三平台13设置于第一平台11的另一侧，且电性连接控制模块14。盖体15具有若干个针脚151，所述若干个针脚151对应感光组件10的外形，均匀地压制于感光组件10上，以使感光组件10平贴于第二平台12的放置平面123。其中，各针脚151的间距可以是介于3厘米到感光组件10的长宽值间。调整部16具有四个工作爪161，各工作爪161分别抵顶第二平台12的承抵部122，以使第二平台12沿轴向进行位移。其中，调整部16可以利用螺纹结构或可以利用齿轮模块，以分别驱动各工作爪161作动，在此实施例中以螺纹结构为示范态样，实际应用则不为此限。
[0032]当感光组件10放置于第二平台12的放置平面123时，感光组件10与轴线(图式中以虚线表示)可能会有倾斜角度，此时可通过调整部16的各工作爪161，分别推抵第二平台12的承抵部122，以通过第二平台12调整感光组件10与轴线的倾斜角度。又，因为放置平面123与承抵面1221相互平行，故，可由推抵承抵面1221以调整感光组件10与轴线的倾斜角。另外，当在进行倾斜调整过程中，通过定位模块112，可以使第二平台12仅进行轴向位移，而不产生轴向旋转。
[0033]详细地说，感光组件10放置于第二平台12的放置平面123时，可能与轴线成倾斜角，而为使感光组件10精确地装设在摄像装置中，须使感光组件10的感光面与轴线垂直。由于第二平台12的承抵部122的承抵面1221与放置平面123相互平行，所以可以通过推抵承抵部122，以达到调整感光组件10的目的。当承抵部122被推抵时，第二平台12可能会发生轴向位移、旋转或两者同时发生，而为避免发生旋转，可通过定位模块112的曲面体1121与第二平台12的凹槽121相互作动，以使第二平台12仅做轴向位移而不发生旋转。当第二平台12进行轴向位移时，可通过若干个回复弹簧17，使第一平台11同时与第二平台12进行位移，以使第一平台11与第二平台12保持一定间距，进而避免因两平台间距过大造成定位模块112的损坏。另外，可利用控制模块14控制第三平台13，以调整感光组件10至调校装置I的预设焦平面。
[0034]请一并参阅图6及图7。图6为本发明的调校装置的第二实施例的第一示意图；图7为本发明的调校装置的第二实施例的第二示意图。如图所示，调校装置I包含:第一平台
11、第二平台12、第三平台13、控制模块14、盖体15、调整部16、若干个回复弹性件17、感测模块18及壳体19。第一平台11具有三容槽111，各容槽111设有定位模块112，各定位模块112包含曲面体1121及定位弹性件1122。第二平台12设置于第一平台11的一侧，且对应各曲面体1121具有三凹槽121。其中，第一平台11与第二平台12间设有若干个回复弹性件17。第二平台12还向外延伸出承抵部122。感光组件10放置于第二平台12的放置平面123，并通过第二平台12内的若干个吸附单元124，以平贴于放置平面123。第三平台13设置于第一平台11的另一侧，且电性连接控制模块14。盖体15通过若干个针脚151，将感光组件10压制于第二平台12。其中，在实际应用中盖体15可以是掀盖，若干个针脚151则对应感光组件10设置于掀盖的上盖。调整部16具有四个工作爪161，通过各工作爪161推抵承抵部122，以使第二平台12沿轴线进行位移。感测模块18对第二平台12的位移量进行感测，以产生位移信号传送至控制模块14。
[0035]具体地说，将感光组件10放置于第二平台12的放置平面123，感光组件10可能与轴线(摄像装置的光轴)有倾斜角，而为了使感光组件10可以正确的设置于摄像装置内，故需将感光组件10的感光面调校成与光轴垂直。此时可利用调整部16的各工作爪161，推抵第二平台12的承抵部122，以使感光面与光轴垂直。在推抵过程中，通过定位模块112的定位弹性件1122的伸张，使曲面体1121随时与第二平台12的凹槽121保持接触，进而使第一平台11与第二平台12在调校过程中，仅沿轴向进行位移，而不发生旋转。另外，值得一提的是，调校装置I在初始状态时(第二平台12未被推抵时)，第二平台12平贴于第一平台11的一侧，换言之，调校装置I在初始状态时，第一平台11与第二平台12间并无间隙，而在进行调校过程中，第二平台12被推抵后，渐渐远离第一平台11，此时可通过四个回复弹簧17，使第一平台11随第二平台12位移，以避免定位模块112在调校过程中，因第一平台11与第二平台12的间隙过大而造成损坏。在调校过程中，感测模块18随时感测第二平台12的位移量，以产生位移信号，并将其传送至控制模块14。其中，在实际应用中，可利用光感式距离量测模块，以量测第二平台12与固定顶盖的距离，藉以可量测推知第二平台12的实际位移量。当感光组件10调校完成后，可利用控制模块14，依据位移信号将第三平台13降回原始位置；或可以是在调校过程中，为避免第一平台11及第二平台12沿轴向进行过多位移，而造成无法调校的问题，可使控制模块14接收并判读位移信号，当位移量到达临界值时，控制模块14则控制第三平台13进行反向位移，以带动第一平台11及第二平台12同时反向进行轴向位移。
[0036]请参阅图8，其为本发明的调校方法的流程图。调校方法可适用于调校装置，以调校感光组件，其包含下列步骤:
步骤S81，提供第一平台，具有至少三容槽；
步骤S82，设置定位模块于各容槽，且各定位模块具有曲面体及定位弹性件；
步骤S83，设置第二平台于第一平台的一侧，对应各曲面体具有凹槽，且第一平台向外延伸承抵部；
步骤S84，设置第三平台于第一平台的另一侧，且电性连接控制模块，控制模块控制第三平台沿轴向进行位移，并使第一平台与第二平台同时随第三平台进行位移；
步骤S85，设置盖体于第二平台的一侧，以压制感光组件，使其平贴于第二平台；
步骤S86，当承抵部被推抵时，第二平台沿轴向进行位移，且通过各定位弹性件的伸张，各曲面体与各凹槽保持接触。
[0037]本实施例的调校方法的详细说明与前面叙述本发明的调校装置相似，在此为了简略说明便不再叙述。
[0038]以上所述仅为举例性，而非为限制性者。任何未脱离本发明的精神与范畴，而对其进行的等效修改或变更，均应包含于所附的权利要求书中。
【权利要求】
1.一种调校装置，其特征在于，适用于调校感光组件，它包含: 第一平台，具有至少三容槽，各所述容槽具有定位模块，各所述定位模块具有曲面体及定位弹性件； 第二平台，设置于所述第一平台的一侧，对应各所述曲面体具有凹槽，且所述第二平台向外延伸承抵部； 第三平台，设置于所述第一平台的另一侧，且电性连接控制模块，所述控制模块控制所述第三平台沿轴向进行位移，并使所述第一平台与所述第二平台同时随所述第三平台进行位移；以及 盖体，设置于所述第二平台的一侧，以压制所述感光组件，使其平贴于所述第二平台； 其中，外力推抵所述第二平台的所述承抵部，所述第二平台沿所述轴向进行位移，以进行所述感光组件的倾斜调整动作，且通过各所述定位弹性件的伸张，各所述曲面体与各所述凹槽保持接触。
2.根据权利要求1所述的调校装置，其特征在于，所述调校装置还包含调整部，具有至少三工作爪，以分别推抵所述承抵部，进而使所述第二平台沿所述轴向进行位移。
3.根据权利要求1所述 的调校装置，其特征在于，所述第一平台与所述第二平台间设有若干个回复弹性件，当所述第二平台沿所述轴向进行位移时，通过所述若干个回复弹性件，以使所述第一平台随所述第二平台沿所述轴向进行位移，所述第二平台还具有若干个吸附单元，通过所述若干个吸附单元以使所述感光组件平贴于所述第二平台，且所述感光组件放置于所述第二平台的放置表面，所述放置表面与所述承抵部的承抵表面相互平行。
4.根据权利要求1所述的调校装置，其特征在于，所述盖体具有若干个针脚，且所述若干个针脚对应所述感光组件的外形，均匀地压制在所述感光组件上，以使所述感光组件平贴于所述第二平台，且各所述针脚的间距介于三厘米与所述感光组件的长宽值间。
5.根据权利要求1所述的调校装置，其特征在于，所述调校装置还包含感测模块，以感测所述第二平台沿所述轴向进行位移的位移量，以产生位移信号，所述控制模块依据所述位移信号，以控制所述第三平台沿所述轴向进行反向位移，进而使所述第一平台及所述第二平台沿所述轴向进行反向位移。
6.一种调校方法，其特征在于，适用于调校感光组件，它包含: 提供第一平台，具有至少三容槽； 设置定位模块于各所述容槽，且各所述定位模块具有曲面体及定位弹性件； 设置第二平台于所述第一平台的一侧，对应各所述曲面体具有凹槽，且所述第一平台向外延伸承抵部； 设置第三平台于所述第一平台的另一侧，且电性连接控制模块，所述控制模块控制所述第三平台沿轴向进行位移，并使所述第一平台与所述第二平台同时随所述第三平台进行位移； 设置盖体于所述第二平台的一侧，以压制所述感光组件，使其平贴于所述第二平台；以及 通过外力推抵所述承抵部，使所述第二平台沿所述轴向进行位移，且通过各所述定位弹性件的伸张，各所述曲面体与各所述凹槽保持接触。
7.根据权利要求6所述的调校方法，其特征在于，还包含下列步骤:通过调整部，具有至少三工作爪，分别推抵所述承抵部，以使所述第二平台沿所述轴向进行位移。
8.根据权利要求6所述的调校方法，其特征在于，还包含下列步骤: 设置若干个回复弹性件于所述第一平台与所述第二平台间； 通过所述若干个回复弹性件的伸张，以使所述第一平台随所述第二平台沿所述轴向进行位移；以及 设置若干个吸附单元于所述第二平台，通过所述若干个吸附单元以使所述感光组件平贴于所述第二平台，且所述感光组件放置于所述第二平台的放置表面，所述放置表面与所述承抵部的承抵表面相互平行。
9.根据权利要求6所述的调校方法，其特征在于，所述所述盖体具有若干个针脚，且所述若干个针脚对应所述感光组件的外形，均匀地压制在所述感光组件上，以使所述感光组件平贴于所述第二平台，且各所述针脚的间距介于三厘米与所述感光组件的长宽值间。
10.根据权利要求6所述的调校方法，其特征在于，还包含下列步骤: 提供感测模块，以感测所述第二平台沿所述轴向位移的位移量，以产生位移信号；以及 通过所述控制模块依据所 述位移信号，所述控制模块依据所述位移信号，以控制所述第三平台沿所述轴向进行反向位移，进而使所述第一平台及所述第二平台沿所述轴向进行反向位移。
【文档编号】G02B7/00GK103529528SQ201210236068
【公开日】2014年1月22日 申请日期:2012年7月6日 优先权日:2012年7月6日
【发明者】谢明宗, 王敬中 申请人:华晶科技股份有限公司