检测液晶涂布状态的装置及具有该装置的液晶涂布机的制造方法

技术特征：
1.一种设置在液晶涂布机上用于检测液晶涂布状态的装置，所述装置包括：主体，所述主体包括光学窗口；光源，所述光源设置在所述主体中，第一偏振板设置在所述光源的光输出口上；检测照相机，所述检测照相机包括第二偏振板，由所述第一偏振板偏振的光辐射到基板上、从所述基板反射、然后入射到所述第二偏振板；以及光学装置，所述光学装置设置在所述主体中，使由所述光源输出的光经过所述光学窗口反射到所述基板，并使从所述基板反射的光穿过而传输到所述检测照相机。2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述主体的光学窗口与用于排出液晶的涂布头单元间隔开。3.根据权利要求1或2中任一项所述的装置，其中，所述第一偏振板的偏振方向不同于所述第二偏振板的偏振方向。4.一种设置在液晶涂布机上用于检测液晶涂布状态的装置，所述装置包括：主体，所述主体包括彼此间隔开的第一光学窗口和第二光学窗口，所述第一光学窗口和所述第二光学窗口中每个朝向基板开口；第一光源，所述第一光源设置在所述主体中并包括主第一偏振板，所述主第一偏振板使偏振的光经过所述第一光学窗口辐射到所述基板上；第二光源，所述第二光源设置在所述主体中并包括次第一偏振板，所述次第一偏振板使偏振的光经过所述第二光学窗口辐射到所述基板上；检测照相机，所述检测照相机包括第二偏振板，由所述第一光源或所述第二光源辐射到所述基板上的光从所述基板反射，然后入射到所述检测照相机；以及第一光学装置，所述第一光学装置设置在所述主体中，将从所述第一光源发出的光反射到所述基板，并使从所述基板反射的光穿过而传输到所述检测照相机。5.根据权利要求4所述的装置，进一步包括：第二光学装置，所述第二光学装置使从所述第二光源发出的光穿过而传输到所述基板，并水平地反射从所述基板反...