表面保护膜以及贴合其的光学部件、工业制品的制作方法

文档序号:2690439阅读:139来源:国知局
专利名称:表面保护膜以及贴合其的光学部件、工业制品的制作方法
技术领域
本发明涉及保护透镜等的光学部件、偏光板、漫射板、导光板等的光学膜、半导体相关仪器等的精密机械等等的各种工业制品的表面的表面保护膜。更详细地,本发明涉及能够密合于被粘物、剥离时轻松地剥离的表面保护膜。本发明提供紧密密合于被粘物保护被粘物,并且在剥离表面保护膜之后的被粘物表面的污染少的表面保护膜,以及贴合有所述表面保护膜的光学部件、工业制品。
此外,作为本发明的表面保护膜的用途,可详细举出:相机镜头、眼镜镜片、车辆用前大灯透镜、光纤等的光学部件、各种显示器(PDP、IXD、有机EL等)的图像显示体、透镜阵列片、触控面板、偏光板、漫射板、相位差板、导光板等的各种光学膜、不锈钢板、铝板等的金属板、亚克力板々 ')力板)等的塑料板、玻璃板等的建筑材料以及工业材料、医疗仪器、半导体制造相关仪器等的精密仪器等等的表面保护中使用的表面保护膜。
背景技术
在多种工业制品的制造工序中,为保护工业制品的表面免遭污染、破损而使用表面保护膜。例如,在制造、搬运显示器的图像显示体、光学玻璃、各种光学膜等的光学部件时,在该光学部件的表面贴合表面保护膜,防止在后续工序中表面的污染和划伤。并且,可在贴合有表面保护膜的状态下进行各种光学膜等的光学部件的外观检查等的制品检查。此夕卜,可在显示器的表面贴合有表面保护膜的状态下进行组装工序等,作为工序用使用。
在现有技术中,一般的表面保护膜的构成为,在具有挠性的树脂膜形成的基材的一面上设有微粘合力的粘合剂层。用于该表面保护膜的粘合剂层为,例如,为贴合于显示器的表面、玻璃、各种光学膜等的具有粘附性(接着性)的层。并且,使得粘合剂层为微粘合性是为了使得贴合于显示器的表面、玻璃、各种光学膜等的表面的保护膜在使用完之后从贴合表面上剥离除去时,能够顺利地剥离,且不发生粘合剂残留。作为用于表面保护膜的粘合齐U,可举出丙烯酸类粘合剂、氨基甲酸乙酯类粘合剂、橡胶类粘合剂等的各种粘合剂,以及聚乙烯醋酸乙烯酯树脂等的粘附性树脂等。
此外,近年随着显示器的大型化,在将表面保护膜贴合于大面积的显示器画面而使用时,也需要能轻松地剥离、操作容易的表面保护膜。对于该剥离时能轻松地剥离的表面保护膜的要求,在专利文献I中提出了具有在丙烯酸类粘合剂中含有硅酮类化合物的粘合层的表面保护膜。但是,由于硅酮类化合物为油状的性状,在剥离表面保护膜的时候会污染被粘物的表面。
此外,制造工序用的表面保护膜从被粘物剥离后,在该被粘物表面上贴合光学膜时,或者贴合装运用表面保护膜时,如果由于污染而使被粘物表面具有残留物,则产生被粘物表面与光学膜或装运用表面保护膜之间的密合力低下、剥离的缺点。
在专利文献2中提出了在具有指定功能的膜的至少一个面上设有密合于平滑面的硅酮层的平滑面密合膜。如果将硅酮树脂作为与被粘物的密合层使用,则在表面保护膜剥离后会污染被粘物的表面。
此外,制造工序用的表面保护膜从被粘物剥离后,在该被粘物表面上贴合光学膜时,或者贴合装运用表面保护膜时,如果由于污染而使被粘物表面具有的残留物,则产生被粘物表面与光学膜或装运用表面保护膜之间的密合力低下、剥离的缺点。
因此,在专利文献3中,为了减少被粘物密合层引起的被粘物的表面污染,提出至少重新贴合一次以上密合于作为被粘物密合层的硅酮层的表面上的隔离膜。然而,在需要繁杂的隔离膜的重新贴合工序的同时,产生由于增减隔离膜的重新贴合的次数,被粘物密合层污染性降低的程度变化的问题。
此外,在被粘物密合层中使用硅酮树脂的现有技术的表面保护膜中,具有密合层的粘合力降低与至隔离膜的密合性也降低,在制造该表面保护膜的工序中,被粘物密合层与作为用于保护其表面的膜的覆盖膜(在专利文献3中为隔离膜)之间发生浮起,形成浮起的部分的被粘物密合层的树脂变形之类的问题。并且,在被粘物密合层变形的情况下,将表面保护膜贴合于被粘物时,产生气泡进入等现象,成为不能完美粘合的原因,存在贴合表面保护膜时外观的恶化、显示器的图像失真的问题。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献I]特开2001-108982号公报
[专利文献2]特开平10-95073号公报
[专利文献3]特开2008-55858号公报发明内容
[发明要解决的课题]
本发明鉴于上述情况,提供一种即使被粘物密合层的粘合力降低,在制造表面保护膜的工序中,被粘物密合层与作为用于保护其表面的膜的覆盖膜之间也不发生浮起的表面保护膜。本发明提供表面保护膜以及贴贴合有所述表面保护膜的光学部件、工业制品,所述表面保护膜为具有表面平滑的被粘物密合层,从被粘物剥离时能够轻松地剥离,在制造工序中的使用中紧密密合于被粘物保护被粘物的表面保护膜,且在剥离表面保护膜之后的被粘物表面的污染少。
[解决课题的方法]
为解决上述课题,本发明以下述作为技术思想:为了即使在对被粘物的粘合力 密合力弱的情况下,在制造表面保护膜的工序中,被粘物密合层与覆盖膜之间也不发生浮起,并且从被粘物密合层除去硅酮迁移成分,将在由合成树脂膜形成的基材的一面上形成粘合剂层而得到的覆盖膜经由上述粘合剂层贴合于表面保护膜的被粘物密合层的表面。
为了解决上述课题,本发明提供一种表面保护膜,其具有在透明基材的至少一面上层积由硅酮树脂形成的被粘物密合层得到的被粘物密合膜,为了保护上述被粘物密合层的表面,将在基材的一面上形成粘合剂层而得到的覆盖膜经由上述粘合剂层贴合于该被粘物密合层的表面。
此外,上述被粘物密合层的厚度优选为2 250 ii m。
此外,上述覆盖膜的粘合剂层优选由丙烯酸类粘合剂形成。
此外, 本发明提供一种光学部件,其通过上述被粘物密合层贴合有从上述表面保护膜剥离上述覆盖膜得到的上述被粘物密合膜。
此外,本发明提供选自显示器、光学膜、建筑材料、工业材料、医疗仪器、精密仪器等的工业制品组的任一工业制品,其通过上述被粘物密合层贴合有从上述表面保护膜剥离上述覆盖膜得到的上述被粘物密合膜。
[发明效果]
根据本发明的表面保护膜,为在被粘物密合层的表面上,贴合用于保护该被粘物密合层的、在合成树脂膜形成的基材的一面上形成粘合剂层而得到的覆盖膜。由此,即使是具有粘合力 被粘物密合力非常低的被粘物密合层的表面保护膜,在制造该表面保护膜的工序中,被粘物密合层与覆盖膜之间也不发生浮起,能够稳定地制造具有表面平滑的被粘物密合层的表面保护膜。
此外,成为在被粘物密合层上使用硅酮树脂时的问题的由于低分子量的硅酮的迁移而产生被粘物的污染的问题,也在剥离除去上述覆盖膜时,通过在一面上形成粘合剂层而得到的覆盖膜的粘合剂层,除去硅酮树脂的表面上露出的低分子量的硅酮,能够降低被粘物的污染。
其结果是,通过本发明,能够提供一种表面保护膜,其为具有表面平滑的被粘物密合层,在剥离时能轻松地剥离,在制造工序中的使用中紧密密合于被粘物保护被粘物的表面保护膜,且在剥离表面保护膜之后的被粘物表面的污染少。


[图1]显示本发明的表面保护膜的大致结构的例子的剖面图。
[图2]显示本发明的表面保护膜的使用形态的例子的剖面图。
符号说明
1…透明基材、2…被粘物密合层、3…粘合剂层、4…基材、5…被粘物密合膜、6…覆盖膜、7…光学部件(被粘物)、10…表面保护膜。
具体实施方式
以下基于附图,说明根据本发明的表面保护膜的实施方案。
图1显示根据本发明的表面保护膜的一个例子的剖面图。该表面保护膜10由在透明基材I的至少一面上层积由硅酮树脂形成的表面平滑的被粘物密合层2得到的被粘物密合膜5和在基材4的一面上形成粘合剂层3得到的覆盖膜6构成。被粘物密合膜5在透明基材I的至少一面上设有被粘物密合层2。覆盖膜6在树脂膜或纸等形成的基材4的一面上设有粘合剂层3。以被粘物密合层2的表面上接触粘合剂层3的方式,贴合被粘物密合膜5和覆盖膜6。
作为根据本发明的表面保护膜10的透明基材1,只要是有透明性的物质即可,没有特别的限制。可优选使用具有挠性的塑料膜。由此,在例如光学部件的被粘物上贴合有表面保护膜的状态下,可进行光学部件的外观检查。作为在透明基材I中使用的塑料膜,可优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯类的聚酯膜。除了聚酯膜以外,只要是具有需要的强度且具有光学适合性的物质,也可使用其他塑料膜。透明基材I可为非拉伸膜,也可被单轴或双轴拉伸,此外,也可为控制拉伸倍数或伴随拉伸结晶化而形成的轴方向的角度的塑料膜。
作为透明基材I的厚度没有特别的限定,例如优选厚度为约12 125pm,特别更优选厚度为20 75 ii m。如果透明基材I的厚度在12 ii m以下,则透明基材的刚性弱,操作有困难。此外,如果透明基材I的厚度超过125pm,则刚性过分增大变得难以操作。此外,价格变高,在经济上是不利的。在透明基材I上,根据需要,在被粘物密合层2的相反侧的面(图1及图2的最上面)上,可以层积为防止表面污染的目的的防污层、抗静电层、防止划痕的硬涂层等。此外,也可在透明基材I的与被粘物密合层2接触的面上进行电晕放电处理或增粘涂层(7 >力一 - 一卜)处理等的易粘附性的处理。
根据本发明的表面保护膜10的被粘物密合层2由透明的硅酮树脂形成,为了抑制被粘物的表面污染,常温下为固体,优选使用将硅酮聚合物交联得到的物质。硅酮聚合物的交联形态可为Si — H基与Si —乙烯基反应的加成反应型、S1-H基与S1-OH基反应的缩合反应型、巯基与乙烯基反应的巯基-烯(工> ^ 才一>)反应型、脂环式环氧基的阳离子聚合型、过氧化物固化型等的公知的交联反应的物质。从抑制从表面保护膜的被粘物密合层2向被粘物转移硅酮的观点出发,优选加成反应型、巯基-烯反应型、或阳离子聚合型。
使之交联反应之前的硅酮聚合物的制品形态可为溶剂型、乳液型、无溶剂型等,从用于光学用途等出发,优选溶剂型或无溶剂型。
用于根据本发明的表面保护膜10的被粘物密合层2的硅酮树脂的厚度优选为2 250iim。厚度不足2 iim则对被粘物的密合性下降。厚度在250 y m以上,则虽然能够作为表面保护膜使用,但从材料成本的上升、硅酮树脂的加工性下降出发不优选。从对被粘物的密合性和制造成本的观点出发,用于被粘物密合层2的硅酮树脂的厚度特别优选为约5 30 u m0
此外,作为被粘物密合层2的硅酮树脂层,与构成表面保护膜的被粘物密合膜5的透明基材I同样,必须为透明。优选被粘物密合膜5的总透光率为85%以上。
此外,优选被粘物密合层2富有柔软性,作为储能模量,例如,优选25°C约1.0XlO5Pa 5.0XlO7Pa0
此外,为了减少被粘物与被粘物密合层2之间产生的空气层,使得密合力稳定,优选被粘物密合层2的表面的凹凸尽可能少且平滑。因此,优选被粘物密合层2的表面的中线平均粗糙度Ra为0.05 1.2 ii m。更 优选表面的中线平均粗糙度Ra为0.05 0.6 y m,特别优选表面的中线平均粗糙度Ra为0.05 0.2 ii m。
此外,在根据本发明的表面保护膜10中,为了将对被粘物密合层2的被粘物的粘合力 密合性设定为适度的值,调整被粘物密合层2中使用的硅酮树脂的粘弹性、交联密度。一般地,通过加减调整硅酮聚合物中的官能团的数目、甲基羟基聚硅氧烷等的交联剂的添加量等来调整粘合力 密合性。根据需要,也可添加与硅酮树脂等、硅酮聚合物相容性良好的常温下为固体的添加剂。
此外,为改良根据本发明的表面保护膜10的透明基材I与硅酮树脂构成的被粘物密合层2之间的密合性,根据需要,可向硅酮树脂中添加硅烷偶联剂等。
为了在根据本发明的表面保护膜10的透明基材I上形成被粘物密合层2,作为层积硅酮树脂的方法,可使用已经公知的方法进行。一般可举出逗号涂布法-—卜法)、迈耶棒涂布法、凹版涂布法、逆向辊涂布法、模缝涂布法、帘式涂布法等。涂布在透明基材I上的硅酮树脂可通过加热固化、紫外线固化、电子束固化等方法,使之发生固化反应,形成硅酮树脂皮膜。
为了保护根据本发明的表面保护膜10的、由硅酮树脂形成的被粘物密合层2的表面,以及,除去向被粘物迁移的硅酮的游离成分,在被粘物密合层2的表面贴合在基材4的一面上形成粘合剂层3得到的覆盖膜6。覆盖膜6为在塑料膜或纸等的基材4上以公知的方法涂布粘合剂形成粘合剂层3得到。
覆盖膜6的粘合剂层3中使用的粘合剂的粘合力没有特别的限制,能够使用从微粘合至强粘合的物质。此外,在覆盖膜6中使用的粘合剂层3的涂布厚度也没有特别的限制,从粘合特性与成本的观点来看,优选厚度为约I 40i!m。
此外,作为用于覆盖膜6中的粘合剂,可举出丙烯酸类粘合剂、氨基甲酸乙酯类粘合剂、橡胶类粘合剂等的粘合剂,以及聚乙烯醋酸乙烯酯树脂等的粘附性树脂等。为了除去从被粘物密合层2的表面向被粘物迁移的硅酮的游离成分,以及抑制粘合剂成分从覆盖膜6的粘合剂层3向被粘物密合层2的迁移,在覆盖膜6中使用的粘合剂更优选为丙烯酸类粘合剂、氨基甲酸乙酯类粘合剂、橡胶类粘合剂。
此外,在覆盖膜6中使用的粘合剂层的粘合力,以JISZ - 0237为标准,在对不锈钢板剥离角度为180°、 剥离速度为300mm / min测定时,优选在约0.05 20N/25mm。覆盖膜6的粘合剂层的粘合力在0.05N/25mm以下,则从被粘物密合层除去硅酮迁移成分变得不充分,有被粘物污染增加的担心。覆盖膜6的粘合剂层的粘合力在20N/25mm以上,则从表面保护膜剥离覆盖膜时的剥离力变高,剥离变难,从而不优选。
在覆盖膜6中使用的基材4可以使用以下任一种:聚酯、聚酰胺、聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚碳酸酯、聚酰亚胺等的塑料膜,优质纸、牛皮纸、铜版纸、粘土涂布纸^ ^一卜紙)、玻璃纸等的纸基材,以及,在上述纸基材上层压聚乙烯或聚丙烯得到的树脂层压纸等。由于在覆盖膜6中使用的基材4为被剥离除去的物质,透明、半透明、不透明均可使用。
在将根据本发明的表面保护膜10用于光学用途的情况下,作为用于覆盖膜6的基材4,比起会担心纸粉附着在被粘物上的纸基材,优选由塑料膜形成的基材。此外,考虑到作为表面保护膜10本身的品质检查进行的外观检查工序,更优选具有高的透明性等的许多优秀的特性的聚酯膜。
在从表面保护膜10剥离覆盖膜6时的剥离带电压影响用途的情况下,通过在覆盖膜6的基材4的一面或两面上施加抗静电剂,能够抑制剥离覆盖膜6时的剥离带电压。
根据本发明的将覆盖膜6贴合于在透明基材I上层积被粘物密合层2得到的被粘物密合膜5的方法可使用公知的方法。例如,经由粘合剂层3,将预先在基材4上层积粘合剂层3得到的覆盖膜6贴合至被粘物密合膜5的被粘物密合层2的面上的方法,在被粘物密合膜5的被粘物密合层2上涂布粘合剂,在粘合剂层3干燥后贴合覆盖膜6的基材4完成覆盖膜6的方法均可。
在使得根据本发明的表面保护膜贴合于被粘物时,如图2所示,将从表面保护膜10剥离覆盖膜6得到的被粘物密合膜5,经由被粘物密合层2贴合于被粘物7。
作为被粘物7,可举出相机镜头、眼镜镜片、车辆用前大灯透镜、光纤等的光学部件、各种显示器(PDP、IXD、有机EL等)的图像显示体、透镜阵列片、触控面板、偏光板、漫射板、相位差板、导光板等的各种光学膜、不锈钢板、铝板等的金属板、亚克力板等的塑料板、玻璃板等的建筑材料以及工业材料、医疗仪器、半导体制造相关仪器等的精密仪器等等。根据本发明的光学部件、显示器、光学膜、建筑材料、工业材料、医疗仪器、精密仪器等的工业制品,为将由根据本发明的表面保护膜得到的被粘物密合膜贴合于被粘面得到的物质,因而在剥离时能够轻松地剥离,在制造工序中的使用中紧密密合于被粘物,能够以保护被粘面(优选为平滑面)的状态实施保管、检查、输送等,且在剥离被粘物密合膜之后的被粘面的污染少。根据本发明的表面保护膜可具有在透明基材的两面上层积被粘物密合层得到的被粘物密合膜。这种情况下,为了保护被粘物密合层的表面的覆盖膜成为两片,能够分别贴合于被粘物密合膜的两面的被粘物密合层。[实施例]下面,通过实施例进一步说明本发明。(实施例1的表面保护膜的制备)在厚度为50 μ m的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂膜的一面上,以使得干燥固化后的厚度为25 μ m的方式涂布阳离子聚合类型的硅酮树脂(相对于主剂100重量份添加5重量份荒川化学制P0LY-201、催化剂CAT-211),使用紫外线照射机进行累积光量IOOOmJ/cm2 X 2次的UV照射处理,使得硅酮树脂固化形成被粘物密合层。然后,将具有丙烯酸类微粘合剂层的覆盖膜经由该微粘合剂层贴合于硅酮树脂形成的被粘物密合层的表面,得到实施例I的表面保护膜。这样,上述的覆盖膜为,在厚度38μπι的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂膜的一面上,以使得干燥后的粘合剂层的厚度为25 μ m的方式涂布丙烯酸类粘合剂(丙烯酸2-乙基己酯与丙烯酸2-羟基乙酯的95/5的共聚物与异氰酸酯类固化剂(日本#1J々 > 夕 >工业制,- α +—卜L-45,相对于主剂100重量份添加2重量份)混合得到的物质),在100°C的热风循环式烘箱中干燥层积得到的物质。(实施例2的表面保护膜的制备)作为硅酮树脂替换为巯基/乙烯基反应型硅酮树脂(将信越化学工业制X — 62 —7028A与X — 62 — 7028B以100/10的比率混合得到的物质),以干燥固化后的厚度为50 μ m的方式形成被粘物密合层,制成使得粘合剂层的厚度为15 μ m的覆盖膜,除此之外,与实施例I同样,得到实施例2的表面保护膜。(实施例3的表面保护膜的制备)作为硅酮树脂替换为加成反应型的硅酮树脂(将信越化学工业制X — 62 — 1873与催化剂PL — 56以100/2的比率混合得到的物质),以在120°C的热风循环式烘箱中干燥3分钟代替紫外线照射形成被粘物密合层,除此之外,与实施例1同样,得到实施例3的表面保护膜。(实施例4的表面保护膜的制备)使得硅酮树脂的涂布厚度为5 μ m形成被粘物密合层,除此之外,与实施例3同样,得到实施例4的表面保护膜。(实施例5的表面保护膜的制备)作为硅酮树脂替换为加成型的硅酮粘合剂(将信越化学工业制X — 40 — 3306与催化剂PL - 50T以100/0.2的比率混合得到的物质)形成被粘物密合层,除此之外,与实施例3同样,得到实施例5的表面保护膜。(实施例6的表面保护膜的制备)作为硅酮树脂替换为加成型的溶剂型硅酮树脂(東一二U -一 >制SD7223与催化剂SRX — 212Cat以100/0.6的比率混合得到的物质),使得硅酮树脂的涂布厚度为2 μ m形成被粘物密合层,作为覆盖膜,使用丙烯酸类强粘合剂(卜一 3 — *^株式会社制,才'J ^ ^ ^BPS — 5127),使得粘合剂层的厚度为15 μ m制成覆盖膜,除此之夕卜,与实施例3同样,得到实施例6的表面保护膜。(实施例7的表面保护膜的制备)使得硅酮树脂的涂布厚度为250 μ m,干燥时间为5分钟形成被粘物密合层,除此之外,与实施例3同样,得到实施例7的表面保护膜。(实施例8的表面保护膜的制备)作为覆盖膜的丙烯酸类的微粘合剂层的替代品使用橡胶类的强粘合剂(卜一 3 —’ A株式会社制,才'J ^ ^ ^BPS — 2411),使得粘合剂层的厚度为15 μ m制成覆盖膜,除此之外,与实施例1同样,得到实施例8的表面保护膜。(比较例I的表面保护膜)使用厚度为38 μ m的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂膜代替实施例1的覆盖膜,除此之外,与实施例1同样,得到比较例I的表面保护膜。(比较例2的表面保护膜)使用厚度为38 μ m的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂膜代替实施例3的覆盖膜,除此之外,与实施例3同样,得到比较例2的表面保护膜。(比较例3的表面保护膜)使得硅酮树脂的涂布厚度为I μ m形成被粘物密合层,作为覆盖膜使用丙烯酸类强粘合剂(卜一 3 — > Λ株式会社制,才/SM > BPS — 5127),使得粘合剂层的厚度为15 μ m制成覆盖膜,除此之外,与实施例3同样,得到比较例3的表面保护膜。(比较例4的表面保护膜)用丙烯酸类粘合剂(丙烯酸2-乙基己酯与丙烯酸2-羟基乙酯的95/5的共聚物与异氰酸酯类固化剂(日本U> 夕 >工业制,-口 +—卜L-45,相对于主剂100重量份添加2重量份)混合得到的物质)代替硅酮树脂形成被粘物密合层,作为覆盖膜使用采用硅酮类的剥离剂进行剥离处理的隔离膜,除此之外,与实施例3同样,得到比较例4的表面保护膜。以下示出根据本发明的评价试验的方法及试验结果。(表面保护膜的粘合力) 将表面保护膜裁切成宽度尺寸为25mm,制成表面保护膜的试验片,剥除贴合于其上的覆盖膜。使用2kg的橡胶辊以不混入气泡的方式将表面保护膜的试验片贴合于玻璃板的表面上。然后,在23 °C X 50% RH的试验环境下放置I小时后,以使用拉力试验机以300mm/min的速率向180°方向剥离测得的剥离强度作为粘合力。〈润湿性〉将表面保护膜裁切成宽度尺寸50mmX长度尺寸IOOmm的试验片。剥除贴合于其上的覆盖膜,以宽度尺寸50mmX长度尺寸20mm接触的方式使得表面保护膜的被粘物密合层密合到玻璃板的表面上。其后,使手从表面保护膜的试验片离开,测量该试验片利用其自重在玻璃板上密合的经历时间。使手从表面保护膜的试验片离开,将达到该试验片的长度方向的90mm密合的经历时间作为润湿性。〈被粘物表面的污染性〉将表面保护膜裁切成宽度尺寸50mmX长度尺寸IOOmm的试验片。剥除贴合于其上的覆盖膜,使用2kg的橡胶辊以不混入气泡的方式将表面保护膜的试验片贴合于厚度为38 μ m的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂膜(三菱树脂株式会社制TlOO — 38)的表面上。其后,在23°C X50% RH的试验环境下放置24小时后,剥取表面保护膜的试验片,使用接触角计测定接触表面保护膜的试验片的被粘物表面的水接触角。通过与空白样(单纯PET膜的水接触角)比较,判定被粘物表面的污染的程度。空白的PET膜的水接触角为65°。被粘物表面的污染性的指标(K)通过K=(在试验片上的水接触角测定值+65 -1) XlOO的计算式计算,该数值越小则意味着被粘物表面的污染性越少。(表面保护膜的制造工序中的贴合外观)使用小型的试验用涂布装置(井上金属工业株式会社制,商品名f ^卜- 一夕一),在透明基材上涂布硅酮树脂,干燥,根据需要进行紫外线照射后,贴合指定的覆盖膜并卷绕。目视观察经卷绕的表面保护膜的外观,确认覆盖膜有无浮起(覆盖膜与被粘物密合层间有无气泡)。对实施例1 8以及比较例I 4的表面保护膜,在表I 3中示出表面保护膜的粘合力、润湿性、被粘物表面的污染性、表面保护膜的制造工序中的贴合外观等的试验结
果O[表 I]
权利要求
1.一种表面保护膜,其具有在透明基材的至少一面上层积由硅酮树脂形成的表面平滑的被粘物密合层得到的被粘物密合膜,为了保护上述被粘物密合层的表面,将在基材的一面上形成粘合剂层而得到的覆盖膜经由上述粘合剂层贴合于该被粘物密合层的表面。
2.根据权利要求1所述的表面保护膜,其中上述被粘物密合层的厚度为2 250ym。
3.根据权利要求1或2所述的表面保护膜,其中上述覆盖膜的粘合剂层由丙烯酸类粘合剂形成。
4.一种光学部件,其通过上述被粘物密合层贴合有从权利要求1或2所述的表面保护膜剥离上述覆盖膜得到的上述被粘物密合膜。
5.一种光学部件,其通过上述被粘物密合层贴合有从权利要求3所述的表面保护膜剥离上述覆盖膜得到的上述被粘物密合膜。
6.选自显示器、光学膜、建筑材料、工业材料、医疗仪器、精密仪器等的工业制品组的任一工业制品,其通过上述被粘物密合层贴合有从权利要求1或2所述的表面保护膜剥离上述覆盖膜得到的上述被粘物密合膜。
7.选自显示器、光学膜、建筑材料、工业材料、医疗仪器、精密仪器等的工业制品组的任一工业制品,其通过上述被粘物密合层贴合有从权利要求3所述的表面保护膜剥离上述覆盖膜得到的上述被粘 物密合膜。
全文摘要
本发明提供一种表面保护膜以及贴合其的光学部件、工业制品。所述表面保护膜为即使被粘物密合层的粘合力降低,在制造表面保护膜的工序中,被粘物密合层与作为用于保护其表面的膜的覆盖膜之间也不发生浮起,具有表面平滑的被粘物密合层,从被粘物剥离时能够轻松地剥离,在制造工序中的使用中紧密密合于被粘物保护被粘物的表面保护膜,且在剥离表面保护膜之后的被粘物表面的污染少。表面保护膜10具有在透明基材1的至少一面上层积由硅酮树脂形成的表面平滑的被粘物密合层2得到的被粘物密合膜5,为了保护被粘物密合层2的表面,将在基材4的一面上形成粘合剂层3的覆盖膜6经由粘合剂层3贴合至被粘物密合层2的表面。
文档编号G02B1/10GK103194152SQ201210545119
公开日2013年7月10日 申请日期2012年12月14日 优先权日2012年1月10日
发明者林益史, 千嶋宪治, 宫坂洋之 申请人:藤森工业株式会社
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