专利名称：一种液晶面板的制备方法
技术领域：
本发明涉及显示器技术领域，特别涉及一种液晶面板的制备方法。
背景技术：
液晶面板主要包括:对盒连接的彩膜基板、阵列基板以及位于彩膜基板和阵列基板之间的液晶分子层。现有技术下，液晶面板的制备方法为:在彩膜基板或阵列基板上涂封框胶，并在彩膜基板和阵列基板中注入液晶分子，再将彩膜基板、阵列基板以及位于彩膜基板和阵列基板之间的液晶分子层放入对盒设备进行对盒，形成液晶面板，随后取出液晶面板，并放入紫外光固化设备中进行紫外固化，此时，为了防止紫外光对液晶分子造成损伤，需要使用紫外光掩模板对液晶面板的显示区进行遮挡。但是，这种制备方法，由于对盒后的封框胶处于未固化状态，将对盒后的液晶面板由对盒设备移动至紫外固化设备的过程中，液晶面板中的彩膜基板和阵列基板容易发生位错，从而发生开口区变小、漏光和串色等现象，进而影响液晶板面的品质。
发明内容
本发明提供了一种液晶面板的制备方法，提高了液晶面板中基板的对位精度，降低液晶面板漏光、串色等不良现象的发生。为达到上述目的，本发明提供以下技术方案:一种液晶面板的制备方法，包括:在阵列基板和/或彩膜基板的背面形成覆盖液晶面板显示区的以阻挡紫外光的遮挡层；在所述阵列基板和所述彩膜基板的四周涂覆封框胶并对盒，其中所述封框胶涂覆区域位于所述遮挡层之外；对所述封框胶进行紫外光照固化； 通过构图工艺去除所述遮挡层。优选地，所述遮挡层的材料为金属。优选地，所述在阵列基板和/或彩膜基板的背面形成覆盖液晶面板显示区的以阻挡紫外光的遮挡层具体包括:在所述阵列基板和/或所述彩膜基板背面形成镀膜；对所述镀膜进行曝光；对所述镀膜进行刻蚀，形成所述遮挡层。优选地，所述通过构图工艺去除所述遮挡层具体包括:采用酸液对所述遮挡层进行刻蚀，以去除所述遮挡层。优选地，所述酸液为盐酸、硝酸、磷酸中的一种或几种。优选地，通过构图工艺去除所述遮挡层具体包括:
采用刻蚀液对所述遮挡层进行过刻蚀，以实现去除所述遮挡层并薄化所述阵列基板和/或所述彩膜基板的基板。优选地,所述刻蚀液的组分包括:质量分数为10% 50%的氢氟酸、质量分数为1% 10%的磷酸、质量分数为0.1% 1%的硝酸和质量分数为0.1% 1%的醋酸。本发明提供了一种液晶面板的制备方法，包括:在阵列基板和/或彩膜基板的背面形成覆盖液晶面板显示区的以阻挡紫外光的遮挡层；在所述阵列基板和所述彩膜基板的四周涂覆封框胶并对盒，其中所述封框胶涂覆区域位于所述遮挡层之外；对所述封框胶进行紫外光照固化；通过构图工艺去除所述遮挡层。本发明提供的液晶面板的制备方法，阵列基板和/或彩膜基板背面的遮挡层能够防止紫外光对液晶盒中的液晶造成损伤，因此，液晶面板在对盒设备中涂覆封框胶之后可直接在对盒设备中进行紫外线曝光，实现对液晶面板的固化，从而无需再将液晶面板移动到单独的紫外曝光设备中进行曝光固化，避免上述背景技术中提到在将液晶面板从对盒设备搬运至紫外曝光设备的移动过程中，彩膜基板和阵列基板错位现象的发生；而且，液晶面板紫外曝光固化完成后，通过构图工艺去除遮挡层可以将阵列基板和/或彩膜基板背面的遮挡层去除，避免遮挡层对显示面板显示效果的影响。所以，本发明提供的液晶面板的制备方法，提高了液晶面板中基板的对位精度，降低液晶面板漏光、串色等不良现象的发生。另外，由于本发明提供的液晶面板的制备方法，无需单独的紫外曝光设备，降低了制备过程中所需设备的成本，简化了工艺流程，同时减少了流屏时间，提高了生产效率。
图1为本发明提供的液晶面板为对盒前的结构示意图；图2为本发明提供的液晶面板制备流程图。图中:1.阵列基板11.遮挡层2.彩膜基板21.显示区域
具体实施例方式下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。实施例一如图1和图2所示，其中:图1为本发明提供的液晶面板为对盒前的结构示意图；图2为本发明提供的液晶面板制备流程图。本发明实施例提供了一种液晶面板的制备方法，包括:步骤301:在阵列基板I和/或彩膜基板2的背面形成覆盖液晶面板显示区21的以阻挡紫外光的遮挡层11;步骤302:在阵列基板I和彩膜基板2的四周涂覆封框胶并对盒，其中所封框胶涂覆区域位于遮挡层11之外；步骤303:对封框胶进行紫外光照固化；步骤304:通过构图工艺去除遮挡层11。本发明提供的液晶面板的制备方法，阵列基板I和/或彩膜基板2背面的遮挡层11能够防止紫外光对液晶盒中的液晶造成损伤，因此，液晶面板在对盒设备中涂覆封框胶之后可直接在对盒设备中进行紫外线曝光，实现对液晶面板的固化，从而无需再将液晶面板移动到单独的紫外曝光设备中进行曝光固化，避免上述背景技术中提到在将液晶面板从对盒设备搬运至紫外曝光设备的移动过程中，彩膜基板和阵列基板错位现象的发生；而且，液晶面板紫外曝光固化完成后，通过步骤304可以将阵列基板I和/或彩膜基板2背面的遮挡层去除，避免遮挡层11对显示面板显示效果的影响。所以，本发明实施例提供的液晶面板的制备方法，提高了液晶面板中基板的对位精度，降低液晶面板漏光、串色等不良现象的发生。另外，由于本发明实施例提供的液晶面板的制备方法，无需单独的紫外曝光设备，降低了制备过程中所需设备的成本，简化了工艺流程，同时减少了流屏时间，提高了生产效率。进一步地，上述遮挡层11的材料为金属。例如:钥和铝等，这里就不再一一赘述，当然，上述遮挡层11还可以为:有两种或两种以上的金属与非金属经一定方法所合成的具有金属特性的合金。上述遮挡层11通过镀膜、曝光和刻蚀形成和液晶面板显示区域21相对应的图案。上述液晶面板对盒和紫外曝光后，需要通过构图工艺去除遮挡层11，构图工艺去除遮挡层11的方式有多种:方式一通过酸液腐蚀去除。在遮挡层11上滴加酸液，通过酸液的腐蚀去除遮挡层11。优选地，上述酸液为盐酸、硝酸、磷酸中的一种或几种。方式二采用刻蚀液对遮挡层11进行过刻蚀，以实现去除遮挡层11并薄化阵列基板I和/或彩膜基板2的基板，所述基板一般为玻璃基板。液晶面板固化后，需要对液晶面板打薄处理，可更改打薄刻蚀液的配比，将去除遮挡层11和打薄液晶面板同时进行。优选地,刻蚀液的组分包括:质量分数为10% 50%的氢氟酸、质量分数为质量分数为1% 10%的磷酸、质量分数为0.1% 1%的硝酸和质量分数为0.1% 1%的醋酸。其中，氢氟酸主要刻蚀玻璃和金属，磷酸和硝酸主要刻蚀金属，醋酸主要是提高酸液、金属及玻璃基板的浸润性。显然，本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
权利要求
1.一种液晶面板的制备方法，其特征在于，包括: 在阵列基板和/或彩膜基板的背面形成覆盖液晶面板显示区的以阻挡紫外光的遮挡层； 在所述阵列基板和所述彩膜基板的四周涂覆封框胶并对盒，其中所述封框胶涂覆区域位于所述遮挡层之外； 对所述封框胶进行紫外光照固化； 通过构图工艺去除所述遮挡层。
2.根据权利要求1所述的液晶面板的制备方法，其特征在于，所述遮挡层的材料为金属。
3.根据权利要求1所述的液晶面板的制备方法，其特征在于，所述在阵列基板和/或彩膜基板的背面形成覆盖液晶面板显示区的以阻挡紫外光的遮挡层具体包括: 在所述阵列基板和/或所述彩膜基板背面形成镀膜； 对所述镀膜进行曝光； 对所述镀膜进行刻蚀，形成所述遮挡层。
4.根据权利要求1所述的液晶面板的制备方法，其特征在于，所述通过构图工艺去除所述遮挡层具体包括: 采用酸液对所述遮挡层进行刻蚀，以去除所述遮挡层。
5.根据权利要求4所述的液晶面板的制备方法，其特征在于，所述酸液为盐酸、硝酸、磷酸中的一种或几种。
6.根据权利要求1所述的液晶面板的制备方法，其特征在于，所述通过构图工艺去除所述遮挡层具体包括: 采用刻蚀液对所述遮挡层进行过刻蚀，以实现去除所述遮挡层并薄化所述阵列基板和/或所述彩膜基板的基板。
7.根据权利要求6所述的液晶面板的制备方法，其特征在于，所述刻蚀液的组分包括:质量分数为10% 50%的氢氟酸、质量分数为1% 10%的磷酸、质量分数为0.1% 1%的硝酸和质量分数为0.1% 1%的醋酸。
全文摘要
本发明公开了一种液晶面板的制备方法，包括在阵列基板和/或彩膜基板的背面形成覆盖液晶面板显示区的以阻挡紫外光的遮挡层；在阵列基板和彩膜基板的四周涂覆封框胶并对盒，其中封框胶涂覆区域位于遮挡层之外；对封框胶进行紫外光照固化；通过构图工艺去除遮挡层。上述液晶面板的制备方法，阵列基板和/或彩膜基板背面的遮挡层能够防止紫外光对液晶盒中的液晶造成损伤，因此，液晶面板在对盒设备中涂覆封框胶之后可直接在对盒设备中进行紫外线曝光，实现对液晶面板的固化，从而无需再将液晶面板移动到单独的紫外曝光设备中进行曝光固化。所以，上述液晶面板的制备方法，提高了液晶面板中基板的对位精度，降低液晶面板漏光、串色等不良现象的发生。
文档编号G02F1/1339GK103197472SQ20131008854
公开日2013年7月10日 申请日期2013年3月19日 优先权日2013年3月19日
发明者程凌志 申请人:北京京东方光电科技有限公司