感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的元件的制作方法

文档序号:2711816阅读:177来源:国知局
感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的元件的制作方法
【专利摘要】一种感光性聚硅氧烷组合物,其包括含氮的杂环化合物(A)、聚硅氧烷(B)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(C)以及溶剂(D),其中含氮的杂环化合物(A)选自由式(1)至式(4)所表示的化合物所组成的族群。
【专利说明】感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的元件

【技术领域】
[0001] 本发明是有关于一种聚硅氧烷组合物,且特别是有关于一种感光性聚硅氧烷组合 物。

【背景技术】
[0002] 近年来,随着半导体工业、液晶显示器(liquid crystal display, LCD)以及有机 电激发光显示器(organic electro-luminescence display, 0ELD)的发展,伴随而来对 于尺寸缩小化的需求,使得微影(Photolithography)制程成为非常重要的议题。在微影 (photolithography)制程中,必须将所需的图案(pattern)的微细化(finer),以达到尺 寸缩小化的目的。一般而言,微细化的图案是由对具有高解析(resolution)及高感光性 (photosensitivity)的正型感光性组合物(positive photosensitive composition)进行 曝光及显影来形成。值得一提的是,正型感光性组合物通常是以聚硅氧烷(polysiloxane) 为主要成分。
[0003] 日本特开2008-107529号揭示一种可形成高透明度(transparency)固化膜 (hardened film)的感光性组合物。所述感光性组合物包括聚娃氧烧(polisiloxane), 其中上述聚硅氧烷是由含有环氧丙烷基(oxetanyl)或丁二酸酐基(即氧基二羰基 (oxydicarbonyl group))的娃烧单体经共聚合(copolymerize)来形成。值得一提的是,所 述的感光性组合物因具有亲水性结构而在稀薄碱性显影剂(alkali developer)中具有高 溶解度(solubility)。然而,以所述的感光性树脂组合物来形成的保护膜与被保护元件之 间的密合性却不佳,因此不利于应用。
[0004] 于是,亟需发展一种感光性组合物,其所形成的保护膜与被保护元件之间具有良 好密合性(adhesion property)。


【发明内容】

[0005] 本发明提供一种感光性(photosensitive)聚娃氧烧组合物,其所形成的保护膜 与被保护元件之间具有良好密合性。
[0006] 本发明提供一种感光性聚硅氧烷组合物,其包括含氮的杂环化合物 (nitrogen-containing heterocyclic compound) (A)、聚娃氧烧(B)、邻萘醌二叠氮磺酸酯 (o_naphthoquinonediazidesulfonate)(C)以及溶剂(D)。含氮的杂环化合物(A)选自由 式(1)至式(4)所表示的化合物所组成的族群:
[0007]

【权利要求】
1. 一种感光性聚硅氧烷组合物,其特征在于,其包括: 含氮的杂环化合物(A); 聚硅氧烷(B); 邻萘醌二叠氮磺酸酯(C);以及 溶剂(D), 其中所述含氮的杂环化合物(A)选自由式(1)至式(4)所表示的化合物所组成的族 群,
式(1)至式(4)中,XI与X2各自独立表示氢原子、酰基或烷基;R1至R9各自独立表示 氧原子、轻基、竣酸基、横酸基、烧基、氣基、齒素原子或疏基;m、n、q、s各自独立表不选自0、 1、2、3的整数;p、r各自独立表示选自0、1、2的整数;t、u各自独立表示选自0、1、2、3、4的 整数。
2. 如权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组合物,其中所述聚硅氧烷(B)是由式(5)所 示的化合物聚合来形成, Si(R10)W(ORn)4_ff 式(5) 式(5)中,R1(l表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、碳数为6至 15的芳香基、含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基;R11各自独立 表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基;w表示 选自0、1、2、3的整数。
3. 如权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组合物,其中基于所述聚硅氧烷(B) 100重量 份,所述含氮的杂环化合物(A)的含量是0.005重量份至5重量份,所述邻萘醌二叠氮磺酸 酯(C)的含量是1重量份至50重量份,所述溶剂(D)的含量是50重量份至1200重量份。
4. 一种保护膜,其特征在于,其包括如权利要求1至3中任一项所述的感光性聚硅氧烷 组合物。
5. -种具有保护膜的元件,其特征在于,其包括元件以及如权利要求4所述的保护膜, 其中所述保护膜覆盖在所述元件上。
【文档编号】G03F7/008GK104122753SQ201410145384
【公开日】2014年10月29日 申请日期:2014年4月11日 优先权日:2013年4月26日
【发明者】吴明儒, 施俊安 申请人:奇美实业股份有限公司
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