掩模板检测装置及方法、掩模板清洗装置制造方法

掩模板检测装置及方法、掩模板清洗装置制造方法
【专利摘要】本发明提供了一种掩模板检测装置及方法、掩模板清洗装置，通过设置用于对掩模板进行残留物检测并生成检测信息的检测模块；用于基于检测信息，确定检测结果的控制模块，所述检测结果用于标识所述掩模板的清洁度。从而可自动实现掩模板清洁度的检测，提高掩模板清洗效果检测效率、准确性和安全性。
【专利说明】掩模板检测装置及方法、掩模板清洗装置

【技术领域】
[0001]本发明涉及显示【技术领域】，具体可以一种掩模板检测装置及方法、掩模板清洗装置。

【背景技术】
[0002]在显示基板，例如薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor LiquidCrystal Display，简称TFT-1XD)、有机发光二极管显示器(又称为有机电激光显示器，Organic Light-Emitting D1de,简称0LED)等基板制作过程中，需要利用掩模板(MASK)进行工艺处理。在使用掩模板后，可以利用掩模板清洗装置对掩模板进行清洗，以去除附着在掩模板上的有机材料残留物。为了确保掩模板可以被再次使用，需要对掩模板清洗效果进行检测，以便确定清洗后的掩模板是否存在有机材料的残留。
[0003]现有掩模板清洗效果检测，通常是由人工操作完成，此一作法不仅仅对于操作人员会有长期暴露在紫外光(UV)射中的危险，对于一个量产规划的产线而言，更是难以接受。导致判断清洗有机物完成与否，变得十分困难，尤其在掩模板尺寸越来越大的趋势下针对安全性以及效率而言，人为判定方法将成为量产线的一大隐忧。


【发明内容】

[0004]本发明提供一种掩模板检测装置及方法、掩模板清洗装置，可提高掩模板清洗效果检测效率、准确性和安全性。
[0005]本发明提供方案如下:
[0006]本发明实施例提供了一种掩模板检测装置，包括:
[0007]用于对掩模板进行残留物检测并生成检测信息的检测模块；
[0008]用于基于检测信息，确定检测结果的控制模块，所述检测结果用于标识所述掩模板的清洁度。
[0009]优选的，所述检测模块包括:
[0010]用于向掩模板发射紫外光的照射单元；
[0011]用于侦测掩模板残留物在所述照射单元照射下激发的光线的侦测单元；
[0012]用于基于所述侦测单元的侦测结果，生成检测信息的检测信息生成单元。
[0013]优选的，所述检测信息中包括掩模板残留物的位置信息。
[0014]优选的，所述控制模块包括:
[0015]用于对检测信息进行判断，以确定侦测单元所侦测的光线是否为掩模板残留物在所述照射单元照射下激发的光线的判断单元。
[0016]优选的，所述控制模块还用于在所述检测结果标识掩模板清洁度符合预设要求时，生成第一控制指令，所述第一控制指令用于控制第一器件对掩模板进行搬运；或者
[0017]所述控制模块还用于在所述检测结果标识掩模板清洁度不符合预设要求时，生成第二控制指令，所述第二控制指令用于控制第二器件将掩模板传输至掩模板清洗装置。
[0018]优选的，所述装置设置于一暗房内。
[0019]本发明实施例还提供了一种掩模板检测方法，包括:
[0020]对掩模板进行残留物检测并生成检测信息；
[0021]基于检测信息，确定检测结果，所述检测结果用于标识所述掩模板的清洁度。
[0022]优选的，所述对掩模板进行残留物检测并生成检测信息包括:
[0023]向掩模板发射紫外光；
[0024]侦测掩模板残留物在所述紫外光照射下激发的光线；
[0025]基于侦测结果，生成检测信息。
[0026]优选的，所述基于检测信息，确定检测结果包括:
[0027]对检测信息进行判断，以确定侦测到的光线是否为掩模板残留物在紫外光照射下激发的光线。
[0028]优选的，所述方法在基于所述检测信息，确定检测结果之后还包括:
[0029]在所述检测结果标识掩模板清洁度符合预设要求时，生成第一控制指令，所述第一控制指令用于控制第一器件对掩模板进行搬运；或者
[0030]在所述检测结果标识掩模板清洁度不符合预设要求时，生成第二控制指令，所述第二控制指令用于控制第二器件将掩模板传输至掩模板清洗装置。
[0031 ] 本发明实施例还提供了一种掩模板清洗装置，该掩模板清洗装置具体可以包括上述本发明实施例提供的掩模板检测装置。
[0032]优选的，所述掩模板清洗装置还包括:第一器件，用于在接收到第一控制指令时，对掩模板检测装置中的掩模板进行搬运；
[0033]第二器件，用于在接收到第二控制指令时，将掩模板检测装置中的掩模板传输至掩模板清洗装置中。
[0034]从以上所述可以看出，本发明提供的掩模板检测装置及方法、掩模板清洗装置，通过设置用于对掩模板进行残留物检测并生成检测信息的检测模块；用于基于检测信息，确定检测结果的控制模块，所述检测结果用于标识所述掩模板的清洁度。从而可自动实现掩模板清洁度的检测，提高掩模板清洗效果检测效率、准确性和安全性。

【专利附图】

【附图说明】
[0035]图1为本发明实施例提供的掩模板检测装置结构示意图一；
[0036]图2为本发明实施例提供的检测模块结构示意图；
[0037]图3为本发明实施例提供的控制模块结构示意图；
[0038]图4为本发明实施例提供的掩模板检测装置运作示意图二；
[0039]图5为本发明实施例提供的掩模板检测方法流程示意图一；
[0040]图6为本发明实施例提供的掩模板检测方法流程示意图二。

【具体实施方式】
[0041]为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0042]除非另作定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明专利申请说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也相应地改变。
[0043]本发明实施例提供了一种掩模板检测装置，如图1所示，该装置具体可以包括:
[0044]用于对掩模板进行残留物检测并生成检测信息的检测模块I;
[0045]用于基于检测信息，确定检测结果的控制模块2，所述检测结果用于标识所述掩模板的清洁度。
[0046]本发明实施例所提供的掩模板检测装置，利用检测器件代替人工进行掩模板清洁度检测，可实现自动化的掩模板检测，减少人为判定的误差与安全性隐忧，可提高掩模板清洗效果检测效率、准确性和安全性。
[0047]掩模板所残留的物质通常为显示面板制备各图层所需的有机材料，而这些有机材料在例如紫外光等光线的照射下会激发出光线，因此，本发明实施例所提供的检测装置可通过对掩模板残留物在紫外光照射下所激发的光线的侦测，来判定掩模板是否存在残留物，从而实现掩模板清洁度的检测。
[0048]那么，在一具体实施例中，如图2所示，本发明实施例所涉及的检测模块I具体可以包括:
[0049]用于向掩模板发射紫外光的照射单元11 ；
[0050]用于侦测掩模板残留物在照射单元11照射下激发的光线的侦测单元12 ；
[0051]用于基于侦测单元12的侦测结果，生成检测信息的检测信息生成单元13。
[0052]在具体实现时，本发明实施例所涉及的照射单元11，可在距离掩模板一预设高度的一位置固定设置，以实现照射单元11对掩模板的固定照射。
[0053]而在另一实施例中，照射单元11也可以设置于一可移动的器件上，该可移动器件可按预设高度、预设移动速度、预设移动方向等参数，在掩模板上方进行移动，以实现照射单兀11对掩模板的扫描照射。
[0054]本发明实施例所涉及的照射单元11具体可为一紫外线照射灯。
[0055]本发明实施例所涉及的侦测单元12，同样可设置于一固定位置或者一可移动的器件上，以实现其侦测功能。并且，该侦测单元12的设置位置可靠近照射单元11。
[0056]本发明实施例所涉及的侦测单元12，具体可为一感光器件。
[0057]本发明实施例所涉及的检测信息生成单元13，可基于侦测单元12的侦测结果，生成对应的检测信息，例如掩模板是否存在残留物等信息。
[0058]当侦测单元12的侦测结果显示掩模板存在残留物时，检测信息生成单元13生成的检测信息中，还可以包括光线信息(便于控制模块2对侦测单元12所侦测到的光线是否为残留物所激发的光线进行判断)、掩模板残留物的位置信息(便于后续重新清洗掩模板时，精确确定残留物的位置信息，提高清洗的效果)等信息。
[0059]为了实现对检测信息的判断，如图3所示，本发明实施例所涉及的控制模块2内具体可以包括:
[0060]用于对检测信息进行判断，以确定侦测单元12所侦测的光线是否为掩模板残留物在照射单元11照射下激发的光线的判断单元21。
[0061]当本发明实施例所涉及的控制模块2接收到检测信息生成单元13生成的检测信息时，可基于该检测信息，确定一检测结果。例如，当检查信息表明掩模板没有残留物，或者掩模板残留物较低不会影响掩模板的下一次使用时，控制模块2可确定此次检测的检查结果为掩模板清洁度符合预设要求；当检查信息表明掩模板存在残留物时，控制模块2可确定此次检测的检查结果为掩模板清洁度不符合预设要求。
[0062]在本发明一具体实施例中，当检测结果标识掩模板清洁度符合预设要求时，本发明实施例所涉及的控制模块2还可以用于生成第一控制指令，该第一控制指令用于控制第一器件(例如搬运机，附图未示出)对掩模板进行搬运，以使掩模板进入下一生产工序中；或者当检测结果标识掩模板清洁度不符合预设要求时，本发明实施例所涉及的控制模块2还可以用于生成第二控制指令，所述第二控制指令用于控制第二器件(例如传送带，附图未示出)将掩模板传输至掩模板清洗装置，以实现对掩模板的再次进行清洗。
[0063]本发明实施例所涉及的第一器件和第二器件，具体可为单独存在的器件，即不属于本发明实施例所提供的掩模板检测装置所包括的器件；或者，第一器件和第二器件，也可以为本发明实施例所提供的掩模板检测装置所包括的器件。
[0064]本发明实施例所提供的掩模板检测装置的具体运作示意图可如图4所示，该实施例中，掩模板检测装置可对经过掩模板清洗装置清洗处理后的掩模板进行残留物检测并生成检测信息(具体可由检测模块I进行操作)，然后，掩模板检测装置可基于检测信息确定此次检测的检测结果，以标识掩模板的清洁度(具体可由控制模块2操作)。当检测结果标识掩模板清洁度符合预设要求(例如掩模板无残留物)时，掩模板检测装置可控制第一器件(图4未示出)对掩模板进行搬运操作，以使掩模板进入下一生产工序中，而当检测结果标识掩模板清洁度不符合预设要求(例如掩模板存在残留物)时，掩模板检测装置可控制第二器件(图4未示出)将掩模板传输掩模板清洗装置的入口处，以实现对掩模板的再次清洗。
[0065]本发明实施例所提供的掩模板检测装置，具体可设置于一暗房内，从而可避免该装置中所使用的紫外光对外界造成危险。
[0066]本发明实施例还提供了一种掩模板检测方法，如图5所示，该方法具体可包括:
[0067]对掩模板进行残留物检测并生成检测信息；
[0068]基于检测信息，确定检测结果，所述检测结果用于标识所述掩模板的清洁度。
[0069]在一具体实施例中，上述对掩模板进行残留物检测并生成检测信息的过程具体可以包括:
[0070]向掩模板发射紫外光；
[0071]侦测掩模板残留物在所述紫外光照射下激发的光线；
[0072]基于侦测结果，生成检测信息。
[0073]在另一具体实施例中，上述基于检测信息，确定检测结果的过程具体可以包括:
[0074]对检测信息进行判断，以确定侦测到的光线是否为掩模板残留物在紫外光照射下激发的光线。
[0075]在另一具体实施例中，该方法在基于所述检测信息，确定检测结果之后还可以包括:
[0076]在检测结果标识掩模板清洁度符合预设要求时，生成第一控制指令，所述第一控制指令用于控制第一器件对掩模板进行搬运，以使掩模板进入下一生产工序中；或者
[0077]在检测信息标识掩模板清洁度不符合预设要求时，生成第二控制指令，所述第二控制指令用于控制第二器件将掩模板传输至掩模板清洗装置。
[0078]下面，以本发明实施例所提供的掩模板检测方法应用于如图4所示的掩模板检测装置为例，对本发明实施例所提供的掩模板检测方法的一个具体实现过程进行详细的描述。
[0079]如图6所示，该过程具体可以包括:
[0080]检测模块I对掩模板清洗装置清洗后的掩模板进行残留物检测，并生成一检测信肩、O
[0081]控制模块2基于检测模块I生成的检测信息，确定检测结果。
[0082]当检测结果标识掩模板清洁度符合预设要求时，控制模块2可控制第一器件例如搬运机对掩模板进行搬运，以使掩模板进入下一生产工序中。
[0083]当检测结果标识掩模板清洁度不符合预设要求时，控制模块2可控制第二器件例如传送带将掩模板传输至掩模板清洗装置中。
[0084]本发明实施例还提供了一种掩模板清洗装置，该掩模板清洗装置具体可以包括上述本发明实施例提供的掩模板检测装置。
[0085]在一具体实施例中，本发明实施例所提供的掩模板清洗装置具体还可以包括:
[0086]第一器件，用于在接收到第一控制指令时，对掩模板检测装置中的掩模板进行搬运，以使掩模板进入下一生成工序中；
[0087]第二器件，用于在接收到第二控制指令时，将掩模板检测装置中的掩模板传输至掩模板清洗装置中。
[0088]从以上所述可以看出，本发明提供的掩模板检测装置及方法、掩模板清洗装置，通过设置用于对掩模板进行残留物检测并生成检测信息的检测模块；用于基于检测信息，确定检测结果的控制模块，所述检测结果用于标识所述掩模板的清洁度。从而可自动实现掩模板清洁度的检测，提高掩模板清洗效果检测效率、准确性和安全性。
[0089]以上所述仅是本发明的实施方式，应当指出，对于本【技术领域】的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
【权利要求】
1.一种掩模板检测装置，其特征在于，包括: 用于对掩模板进行残留物检测并生成检测信息的检测模块； 用于基于检测信息，确定检测结果的控制模块，所述检测结果用于标识所述掩模板的清洁度。
2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述检测模块包括: 用于向掩模板发射紫外光的照射单元； 用于侦测掩模板残留物在所述照射单元照射下激发的光线的侦测单元； 用于基于所述侦测单元的侦测结果，生成检测信息的检测信息生成单元。
3.如权利要求2所述的装置，其特征在于，所述检测信息中包括掩模板残留物的位置信息。
4.如权利要求2所述的装置，其特征在于，所述控制模块包括: 用于对检测信息进行判断，以确定侦测单元所侦测的光线是否为掩模板残留物在所述照射单元照射下激发的光线的判断单元。
5.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述控制模块还用于在所述检测结果标识掩模板清洁度符合预设要求时，生成第一控制指令，所述第一控制指令用于控制第一器件对掩模板进行搬运；或者 所述控制模块还用于在所述检测结果标识掩模板清洁度不符合预设要求时，生成第二控制指令，所述第二控制指令用于控制第二器件将掩模板传输至掩模板清洗装置。
6.如权利要求1至5任一项所述的装置，其特征在于，所述装置设置于一暗房内。
7.—种掩模板检测方法，其特征在于，包括: 对掩模板进行残留物检测并生成检测信息； 基于检测信息，确定检测结果，所述检测结果用于标识所述掩模板的清洁度。
8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述对掩模板进行残留物检测并生成检测信息包括: 向掩模板发射紫外光； 侦测掩模板残留物在所述紫外光照射下激发的光线； 基于侦测结果，生成检测信息。
9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述基于检测信息，确定检测结果包括: 对检测信息进行判断，以确定侦测到的光线是否为掩模板残留物在紫外光照射下激发的光线。
10.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述方法在基于所述检测信息，确定检测结果之后还包括: 在所述检测结果标识掩模板清洁度符合预设要求时，生成第一控制指令，所述第一控制指令用于控制第一器件对掩模板进行搬运；或者 在所述检测结果标识掩模板清洁度不符合预设要求时，生成第二控制指令，所述第二控制指令用于控制第二器件将掩模板传输至掩模板清洗装置。
11.一种掩模板清洗装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的掩模板检测装置。
12.如权利要求11所述的装置，其特征在于，还包括:第一器件，用于在接收到第一控制指令时，对掩模板检测装置中的掩模板进行搬运； 第二器件，用于在接收到第二控制指令时，将掩模板检测装置中的掩模板传输至掩模板清洗装置中。
【文档编号】G03F1/84GK104391427SQ201410789147
【公开日】2015年3月4日 申请日期:2014年12月17日 优先权日:2014年12月17日
【发明者】黄俊淞, 叶岚凯 申请人:合肥鑫晟光电科技有限公司, 京东方科技集团股份有限公司