本发明涉及光学技术领域，更具体地说，特别涉及一种曝光光源。
背景技术：
曝光显影包括曝光与显影两个工序，曝光的物理含意是指光线使感光层面(涂了感光化学物)产生潜影。显影为曝光后的工序，显影为使潜影显现并固化。工业上很多设备都应用了曝光的原理，用以将图文信号转移到需要的材料上，而显影则是常用于印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。显影包括正显影和反转显影，正显影时，显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性相反。显影时，在感光鼓表面静电潜像是场力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。静电潜像电位越高的部分，吸附色粉的能力越强；静电潜像电位越低的部分，吸附色粉的能力越弱。对应静电潜像电位(电荷的多少)的不同，其吸附色粉量也就不同。多用在模拟复印机中。反转显影中，感光鼓与色粉电荷极性相同，显影时，通过感光鼓和显影辊之间的电场作用，碳粉被吸到感光鼓曝光区域，其中曝光部位电位低于显影辊表面电位低于感光鼓未曝光部位电位，多用在数码复合机与激光打印机中。
曝光显影工艺是3D镜片产品装饰中常选用的一种后制程装饰方案。在玻璃、有机玻璃、蓝宝石、注塑件等3D产品(如前盖、嵌件、装饰件等)德加工过程中，一般都会涉及到曝光显影工艺，且该工艺可适用于多种高厚度多曲面要求的3D产品的装饰。目前而言，常用的曝光光源一般为汞灯光源或LED曝光光源，但是汞灯光源能量低、能耗高，效率低下，而LED曝光光源能量高，效率高，因此，大部分产品一般都使用LED曝光光源。实际操作中，由于不同的波长一般与不同的感光材料相对应，而LED曝光光源只能提供单一波长，如此，产品一旦更换感光材料则会造成先前LED曝光光源无法适应，导致生产通用匹配性不足，严重影响了生产作用过程的顺利进行。
技术实现要素：
本发明要解决的技术问题为提供一种曝光光源，该曝光光源通过其结构设计，可有效解决因更换感光材料导致光源匹配性不足的问题，确保正常的生产作业。
一种曝光光源，包括灯箱体，所述灯箱体的侧壁上设置有第一光源体与第二光源体，所述第一光源体与所述第二光源体用于光束的发射，所述灯箱体的侧壁上设置有光阑，所述第一光源体及所述第二光源体与所述光阑位于所述灯箱体的不同侧壁，所述光阑用于光束发射方向与形状的限制，所述灯箱体的内腔设置有合束镜，所述合束镜用于将所述第一光源体与所述第二光源体发射的光束合并射向所述光阑，所述光阑下方的光束发射方向上设置有扩束镜，所述扩束镜用于光束发射面积的扩大。
优选地，所述第一光源体与所述第二光源体发射的光束波长不同。
优选地，所述第一光源体与所述第二光源体均由至少两个LED灯珠组合而成，所述LED灯珠呈圆形排布或矩阵排布。
优选地，所述第一光源体发射的光束波长范围为280nm～450nm。
优选地，所述第二光源体发射的光束波长范围为280nm～450nm。
优选地，所述灯箱体为方形箱体，所述光阑设置在所述方形箱体的底端侧壁上，所述第一光源体设置在所述方形箱体的顶端侧壁上，所述第二光源体设置在所述方形箱体的边端侧壁上。
优选地，所述合束镜设置在由所述灯箱体内两平行对角线构成的平面上。
优选地，所述灯箱体下方设置有支撑架，所述扩束镜安装在所述支撑架上。
本发明的有益效果是：本发明提供的该曝光光源通过其结构设计，在灯箱体内设置第一光源体与第二光源体两个光束发射机构，根据欲曝光工件的需要，选用不同波长的第一光源体与第二光源体进行组合，再利用合束镜将光束集中导向光阑，最后通过扩束镜将光束覆盖欲曝光工件进行曝光，可有效解决因更换感光材料导致光源匹配性不足的问题，确保正常的生产作业。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例一种曝光光源的整体结构示意图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请中的技术方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。
基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。
参见图1，图1提供了本发明一种曝光光源的具体实施例，其中，图1为本发明实施例一种曝光光源的整体结构示意图。
如图1所示，本发明提供了一种曝光光源，用于感光材料的曝光，既可以发射一种单一波长的光束，也可以发射两种不同波长的光束。该曝光光源包括灯箱体1，第一光源体2，第二光源体3，光阑4，合束镜5与扩束镜6。
本方案中，该曝光光源包括灯箱体1，灯箱体1用于给第一光源体2，第二光源体3，光阑4与合束镜5的安装提供空间。灯箱体1的具体形状根据实际需要选择，以不影响实际操作为准。本方案选用了正方体形状的灯箱体1。
灯箱体1的侧壁上设置有第一光源体2与第二光源体3，第一光源体2与第二光源体3用于光束的发射。
灯箱体1的侧壁上设置有光阑4，第一光源体2及第二光源体3与光阑4位于灯箱体1的不同侧壁，光阑4用于光束发射方向与形状的限制。也就是说，第一光源体2及第二光源体3可以位于灯箱体1的不同侧壁，第一光源体2及第二光源体3也可以位于灯箱体1的相同侧壁，但光阑4布置的侧壁与第一光源体2及第二光源体3均不相同。光阑4中可以设置圆形的透光孔或方形的透光孔来控制光束发射形状。
灯箱体1的内腔设置有合束镜5，合束镜5用于将第一光源体2与第二光源体3发射的光束合并射向光阑4。具体的，合束镜5的主要作用是光束传导方向的控制转换。
光阑4下方的光束发射方向上设置有扩束镜6，扩束镜6用于光束发射面积的扩大。通过扩束镜6，可以将光束转换成面发射，从而覆盖至欲曝光的感光材料上。
下面对该曝光光源发射单一波长光束情况与两不同波长光束情况分别举例说明。
例1：
通过本发明提供的曝光光源对一种需求365nm波长的感光材料进行曝光操作：
首先，根据规定的涂布工艺，将需求365nm波长的感光材料涂布至工件表面；
其次，根据产品感光材料波长365nm要求，选用可发射波长365nm光束的第一光源体2，开启第一光源体2，关闭第二光源体3，此时该曝光光源仅仅提供365nm光谱；
再次，根据感光材料需求能量设定曝光能量；
最后，利用规定的显影工艺，得到需求图案。
例2：
通过本发明提供的曝光光源对一种同时需求365nm波长与405nm波长的感光材料进行曝光操作：
首先，根据规定的涂布工艺，将同时需求365nm波长与405nm波长的感光材料涂布至工件表面；
其次，根据产品感光材料365nm波长，405nm波长要求，选用可发射波长365nm光束的第一光源体2，开启第一光源体2，同时选用可发射波长405nm光束的第二光源体3，开启第二光源体3，此时该曝光光源同时提供365nm、405nm波长光谱；
再次，根据感光材料需求能量设定曝光能量；
最后，利用规定的显影工艺，得到需求图案。
整体来说，本发明提供的该曝光光源通过其结构设计，在灯箱体1内设置第一光源体2与第二光源体3两个光束发射机构，根据欲曝光工件的需要，选用不同波长的第一光源体2与第二光源体3进行组合，再利用合束镜5将光束集中导向光阑4，最后通过扩束镜6将光束覆盖欲曝光工件进行曝光，可有效解决因更换感光材料导致光源匹配性不足的问题，确保正常的生产作业。
本实施例中，为方便该曝光光源对需求两者不同波长光束感光材料的曝光操作，第一光源体2与第二光源体3发射的光束波长不同。
本实施例中，为进一步方便第一光源体2与第二光源体3光束的发射，第一光源体2与第二光源体3均由至少两个LED灯珠组合而成，所述LED灯珠呈圆形排布或矩阵排布。
本实施例中，为更好地方便感光材料的曝光需求，优选地，所述第一光源体2发射的光束波长范围为280nm～450nm。优选地，所述第二光源体3发射的光束波长范围为280nm～450nm。
本实施例中，为进一步方便光束的转换处理，所述灯箱体1为方形箱体，所述光阑4设置在所述方形箱体的底端侧壁上，所述第一光源体2设置在所述方形箱体的顶端侧壁上，所述第二光源体3设置在所述方形箱体的边端侧壁上。所述合束镜5设置在由所述灯箱体1内两平行对角线构成的平面上。
本实施例中，为方便扩束镜6的安装固定，灯箱体1下方设置有支撑架7，所述扩束镜6安装在所述支撑架7上。
以上对本发明所提供的一种曝光光源进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。