隔垫物、显示装置以及彩膜基板制造方法与流程

文档序号:12818092阅读:402来源:国知局
隔垫物、显示装置以及彩膜基板制造方法与流程

本公开涉及液晶显示技术领域,具体而言,涉及一种隔垫物、显示装置以及彩膜基板制造方法。



背景技术:

为了保持液晶盒的盒厚在各个位置的均一性,通常采用的方式可以包括:参考图1所示,在阵列基板102和彩膜基板101之间设置具有弹性回复力的隔垫物(postspacer,ps)103,当隔垫物103处于压缩状态并起到支撑液晶盒的作用时,可以使得液晶盒的盒厚保持稳定和均一。

但是在实际使用过程中,当彩膜基板101和阵列基板102受力形变发生错位时,会出现隔垫物103恢复非压缩状态;由于柱状隔垫物处于压缩状态时,是处于阵列基板上枕垫(pillow)104的上方的,因此当外力去除时,隔垫物103由于阵列基板上枕垫104的阻挡无法再次回到枕垫104的上方(参考图2所以),从而使得液晶盒的盒厚不能保持稳定和均一,降低了显示器的质量。

需要说明的是,在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。



技术实现要素:

本公开的目的在于提供一种隔垫物、显示装置以及彩膜基板制造方法,进而至少在一定程度上克服由于相关技术的限制和缺陷而导致的一个或者多个问题。

根据本公开的一个方面,提供一种隔垫物,所述隔垫物设置在显示装置的阵列基板和彩膜基板之间,所述隔垫物的材质包括光致形变材料。

在本公开的一种示例性实施例中,所述光致形变材料包括光致形变液晶弹性体。

在本公开的一种示例性实施例中,所述光致形变液晶弹性体包括含偶氮染料的醋酸纤维素。

在本公开的一种示例性实施例中,所述隔垫物为柱状隔垫物。

根据本公开的一个方面,提供一种显示装置,包括对盒的彩膜基板、阵列基板以及设置在所述彩膜基板和所述阵列基板之间的隔垫物,所述隔垫物为根据上述任意一项所述的隔垫物。

根据本公开的一个方面,提供一种彩膜基板制造方法,包括:

在一衬底基板上涂覆第一颜色光刻胶,并通过构图工艺形成第一颜色滤过区图案;

在所述衬底基板上涂覆第二颜色光刻胶,并通过构图工艺形成第二颜色滤过区图案;

在所述衬底基板上涂覆第三颜色光刻胶,并通过构图工艺形成第三颜色滤过区图案;

在所述衬底基板上涂覆第四颜色光刻胶,并通过构图工艺形成第四颜色滤过区图案;

在所述第一颜色、第二颜色、第三颜色以及第四颜色滤过区图案上形成保护层;

在所述保护层上涂覆包括光致形变材料的第五光刻胶,并通过构图工艺形成隔垫物。

在本公开的一种示例性实施例中,所述第一颜色、第二颜色以及第三颜色分别为红色、绿色以及蓝色。

在本公开的一种示例性实施例中,所述光致形变材料为光致形变液晶弹性体。

在本公开的一种示例性实施例中,所述光致形变液晶弹性体为含偶氮染料的醋酸纤维素。

在本公开的一种示例性实施例中,所述隔垫物为柱状隔垫物。

本公开一种隔垫物,通过在隔垫物的材质中添加光致形变材料,当使得彩膜基板和阵列基板形变发生错位的外力去除时,隔垫物受到光照发生形变,避免了阵列基板上枕垫的阻挡并回到枕垫的上方;当隔垫物回到枕垫上方后,恢复原本的形状,从而使得液晶盒的盒厚可以保持稳定和均一。

应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本公开的实施例,并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1示意性示出一种显示基板示意图。

图2示意性示出一种彩膜基板偏移示意图。

图3示意性示出另一种彩膜基板偏移示意图。

图4示意性示出一种隔垫物收缩示意图。

图5示意性示出另一种彩膜基板偏移示意图。

图6示意性示出一种隔垫物恢复压缩状态示意图。

图7示意性示出一种彩膜基板制备方法的流程图。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而,示例实施方式能够以多种形式实施,且不应被理解为限于在此阐述的范例;相反,提供这些实施方式使得本公开将更加全面和完整,并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下面的描述中,提供许多具体细节从而给出对本公开的实施方式的充分理解。然而,本领域技术人员将意识到,可以实践本公开的技术方案而省略所述特定细节中的一个或更多,或者可以采用其它的方法、组元、装置、步骤等。在其它情况下,不详细示出或描述公知技术方案以避免喧宾夺主而使得本公开的各方面变得模糊。

虽然本说明书中使用相对性的用语,例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系,但是这些术语用于本说明书中仅出于方便,例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是,如果将图标的装置翻转使其上下颠倒,则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。其他相对性的用语,例如“高”“低”“顶”“底”等也作具有类似含义。当某结构在其它结构“上”时,有可能是指某结构一体形成于其它结构上,或指某结构“直接”设置在其它结构上,或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。

用语“一个”、“一”、“该”、“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等;用语“包含”、“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等;用语“第一”、“第二”等仅作为标记使用,不是对其对象的数量限制。

此外,附图仅为本公开的示意性图解,并非一定是按比例绘制。图中相同的附图标记表示相同或类似的部分,因而将省略对它们的重复描述。附图中所示的一些方框图是功能实体,不一定必须与物理或逻辑上独立的实体相对应。可以采用软件形式来实现这些功能实体,或在一个或多个硬件模块或集成电路中实现这些功能实体,或在不同网络和/或处理器装置和/或微控制器装置中实现这些功能实体。

本示例实施方式首先提供了一种隔垫物。参考图3所示,隔垫物305设置在显示装置的阵列基板302和彩膜基板301之间;隔垫物305的材质包括光致形变材料。

在本示例实施方式中,上述光致形变材料是一种在特定波长光(例如可以包括紫外光以及可见光等)的照射下,材料本体发生形变(例如可以包括伸缩或者弯曲等)现象的材料,光致形变材料可以包括光致伸缩铁电陶瓷(例如可以包括plzt(锆钛酸铅镧)陶瓷)等,也可以包括光致形变聚合物等,本示例实施方式对此不做特殊限制。

在本示例实施方式中,上述光致形变聚合物可以包括光致形变液晶弹性体,光致形变弹性液晶体结合了弹性和液晶性,可以包括以下特点:一方面,光致形变弹性液晶体具有远程可控性、无须导线;另一方面,光致形变弹性液晶体具有形变量大的特点(光致伸缩的实验值可以达到20%,理论值可以达到400%);再一方面,光致形变弹性液晶体可以不受电磁干扰;最后,光致形变弹性液晶体的材料易成型,并且可以加工成柔性薄膜。

在本示例实施方式中,上述光致形变液晶弹性体可以包括含偶氮染料的醋酸纤维素,也可以包括其他含偶氮染料的热塑性树脂,或者包括其他具有染色性能且具有形变特征的材质,本示例实施方式对此不做特殊限制。其中,上述含偶氮染料的醋酸纤维素具有形变量大、软化温度低以及染色性能突出等特点,使得使得隔垫物的形变范围较大,可以更好的避免枕垫的阻挡。

在本示例实施方式中,上述隔垫物的形状可以包括柱状隔垫物,也可以包括棱台、圆台等其他形状的隔垫物。其中,相对于其它形状的隔垫物而言,柱状隔垫物可以具有较好的稳定性,使得彩膜基板和阵列基板在未受到外力的作用时,可以使得液晶盒的盒厚始终保持稳定和均一,提升了显示装置的质量。

本示例实施方式还提供了一种显示装置。参考图3所示,该显示装置包括对盒的彩膜基板301、阵列基板302以及设置在彩膜基板301以及阵列基板302之间的隔垫物305。

在本示例实施方式中,参考图3所示,上述彩膜基板301可以包括彩色图案层以及黑矩阵(blackmatrix,黑矩阵图案层)303;其中,彩色图案层可以包括红色图案层、绿色图案层以及蓝色图案层,也可以包括白色等其他颜色图案层,本示例实施方式对此不做特殊限制。

在本示例实施方式中,参考图3所示,上述阵列基板302可以包括导电层304以及枕垫307。

在本示例实施方式中,为了避免由于黑矩阵与彩色图案层在搭接过程中产生凸起进而导致在后续形成取向膜时出现涂覆不均的情况以造成显示器显示不良的现象,上述显示装置还可以包括设置在彩色图案层以及黑矩阵上层的平坦层。其中,平坦层可以由含有极性键的树脂材料形成。

在本示例实施方式中,当彩膜基板和阵列基板受到外力形变发生错位(彩膜基板相对于阵列基板向右滑动,也可以向左滑动、向前滑动或者向后滑动等,本示例实施方式对此不做特殊限制)时,隔垫物恢复非压缩状态;参考图4所示,当上述外力去除时,柱状隔垫物处于光照区域中(参考图4所示的虚线区域),由于隔垫物的材质包括光致形变材料,因此当隔垫物受到光照时,发生参考图4所示的形变(缩短);避免了阵列基板上枕垫的阻挡并回到枕垫的上方(参考图5所示);当隔垫物回到枕垫的上方时,隔垫物处于暗区(参考图6所示的虚线区域),因此可以恢复原始的压缩状态,从而使得液晶盒的盒厚可以保持稳定和均一,提升了显示装置的质量。

本示例实施方式还提供了一种彩膜基板制造方法。参考图7所示,该彩膜基板制造方法可以包括步骤s710至步骤s760。其中:

在步骤s710中,在一衬底基板上涂覆第一颜色光刻胶,并通过构图工艺形成第一颜色滤过区图案。

在本示例实施方式中,上述第一颜色光刻胶例如可以是红色(red)光刻胶,也可以是其他颜色光刻胶,例如可以是蓝色或者黄色等等;本示例实施方式对此不做特殊限制。详细而言:

在衬底基板上涂覆红色光刻胶,然后通过掩膜版(mask)经过曝光、显影形成第一颜色滤过区图案(红色图案层)。

在步骤s720中,在所述衬底基板上涂覆第二颜色光刻胶,并通过构图工艺形成第二颜色滤过区图案。

在本示例实施方式中,上述第二颜色光刻胶例如可以是绿色(green)光刻胶,也可以是其他颜色光刻胶,例如可以是红色或者黄色等等;本示例实施方式对此不做特殊限制。详细而言:

在衬底基板上涂覆绿色光刻胶,然后通过掩膜版(mask)经过曝光、显影形成第二颜色滤过区图案(绿色图案层)。

在步骤s730中,在所述衬底基板上涂覆第三颜色光刻胶,并通过构图工艺形成第三颜色滤过区图案。

在本示例实施方式中,上述第三颜色光刻胶例如可以是蓝色(blue)光刻胶,也可以是其他颜色光刻胶,例如可以是红色或者黄色等等;本示例实施方式对此不做特殊限制。详细而言:

在衬底基板上涂覆蓝色光刻胶,然后通过掩膜版(mask)经过曝光、显影形成第三颜色滤过区图案(蓝色图案层)。

在步骤s740中,在所述衬底基板上涂覆第四颜色光刻胶,并通过构图工艺形成第四颜色滤过区图案。

在本示例实施方式中,上述第四颜色光刻胶例如可以是bm(blackmatrix,黑矩阵)光刻胶,也可以是其他颜色光刻胶,例如可以是红色或者黄色等等;本示例实施方式对此不做特殊限制。详细而言:

在衬底基板上涂覆bm光刻胶,然后通过掩膜版(mask)经过曝光、显影形成第一颜色滤过区图案(黑矩阵)。

在步骤s750中,在所述第一颜色、第二颜色、第三颜色以及第四颜色滤过区图案上形成保护层。详细而言:

在彩色图案层以及黑矩阵上通过涂覆氮化硅(也可以是其他结构陶瓷材料,例如氧化铝等,本示例实施方式对此不做特殊限制)然后固化形成保护层(平坦层)。

在步骤s760中,在所述保护层上涂覆包括光致形变材料的第五光刻胶,并通过构图工艺形成隔垫物。

在本示例实施方式中,上述光致形变材料可以包括光致伸缩铁电陶瓷(例如可以包括plzt(锆钛酸铅镧)陶瓷)等,也可以包括光致形变液晶弹性体,本示例实施方式对此不做特殊限制。其中,光致形变液晶弹性体可以包括含偶氮染料的醋酸纤维素,也可以包括其他含偶氮染料的热塑性树脂,或者包括其他具有染色性能且具有形变特征的材质,本示例实施方式对此不做特殊限制。详细而言:

在上述保护层(平坦层)上涂覆包括含偶氮染料的醋酸纤维素的ps光刻胶,然后可以通过掩膜版(mask)经过多次曝光、显影形成柱状隔垫物,也可以通过半灰阶掩膜版(halftonemask)经过一次曝光、显影形成柱状隔垫物(ps,postspacer),本示例实施方式对此不做特殊限制。

此外,尽管在附图中以特定顺序描述了本公开中方法的各个步骤,但是,这并非要求或者暗示必须按照该特定顺序来执行这些步骤,或是必须执行全部所示的步骤才能实现期望的结果。附加的或备选的,可以省略某些步骤,将多个步骤合并为一个步骤执行,以及/或者将一个步骤分解为多个步骤执行等。

容易理解的是,上述显示装置还可以选择性的包括背光模组、栅极驱动器、源极驱动器等其他组件,本示例实施方式中对此不做特殊限定。此外,在本示例实施例中,上述显示装置可以为:显示面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相机等任何具有显示功能的产品或部件,本公开对此不进行特殊限定。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后,将容易想到本公开的其它实施例。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化,这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的,本公开的真正范围和精神由权利要求指出。

应当理解的是,本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构,并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。

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