技术特征：
技术总结
提供一种掩模及其制造方法。此方法包含形成反射多膜层于遮罩基板的前侧表面之上。此方法还包含形成盖层于此反射多膜层之上。此方法还包含形成牺牲多膜层于此盖层之上。此方法还包含形成开口于此牺牲多膜层之中以暴露出此盖层。此方法还包含形成第一吸收层于此牺牲多膜层之上，并覆盖此开口中的盖层。此方法还包含移除此牺牲多膜层中的开口外的第一吸收层，以形成第一吸收图案于此盖层的一部分上。
技术研发人员：林云跃;李信昌
受保护的技术使用者：台湾积体电路制造股份有限公司
技术研发日：2018.10.10
技术公布日：2019.05.21