显示面板及显示面板制备方法与流程

本揭示涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示面板制备方法。

背景技术：

液晶显示器件(liquidcrystaldisplay，lcd)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，被广泛的应用在液晶电视、移动电话、计算机屏幕等领域。

现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组。随着lcd逐渐向大尺寸、高解析度、高色饱和度等方向的发展，大尺寸液晶显示面板也更倾向于使用一层透明有机绝缘平坦层(polymerfilmonarray，pfa)，以防止模组内电场之间的互相干扰，从而有效的改善由于地形因素而造成的显示色差，降低寄生电容，提高显示品质。但是，现有的显示面板中，做为平坦化层，在成型pfa之前，其本身会面对不同底层的各种复杂的地形，如下层各层金属的堆叠，尤其是对于金属膜厚更厚技术的产品，导致在成型pfa之前的地形更加的复杂，同时还需要在这种复杂的地形中开孔等工艺，使得pfa成膜后，在模组金属线宽的边缘处，由于应力的作用而导致pfa层在此处出现剥离，而影响产品的电性和良率。

综上所述，现有的显示面板存在着显示面板内的平坦化层在金属线宽的边缘处，由于应力的作用而出现剥离，进而影响产品的电性和良率的问题。

技术实现要素：

本揭示提供一种显示面板及显示面板的制备方法，能够在显示面板中降低金属线宽边缘处的应力问题，避免平坦层剥离。

为解决上述技术问题，本揭示实施例提供的技术方案如下：

根据本揭示实施例的第一方面，提供了一种显示面板，包括：

基板、设置在所述基板上的器件层以及

设置在所述器件层上的平坦层，

其中，所述显示面板还包括色阻层，所述色阻层设置在所述器件层与所述平坦层之间。

根据本揭示一实施例，所述色阻层为红色色阻、绿色色阻或者蓝色色阻。

根据本揭示一实施例，所述器件层为薄膜晶体管，包括第一金属层、栅极绝缘层、第二金属层以及钝化层，所述第一金属层设置在所述基板之上，所述栅极绝缘层设置在所述基板之上并覆盖所述第一金属层，所述第二金属层设置在所述栅极绝缘层之上，所述钝化层设置在所述栅极绝缘层之上并覆盖所述第二金属层。

根据本揭示一实施例，所述第一金属层为所述薄膜晶体管的栅极。

根据本揭示一实施例，所述第二金属层还包括所述薄膜晶体管的源极和漏极。

根据本揭示一实施例，所述第一金属层和所述第二金属层上设置有通孔。

根据本揭示一实施例，所述第二金属层设置在所述第一金属层的正上方，形成一叠加结构。

根据本揭示的第二方面，还提供了一种显示面板的制备方法，包括以下步骤，

s100：在基板上设置薄膜晶体管阵列结构及各膜层，并在所述薄膜晶体管阵列上形成钝化层；

s101：在所述钝化层上设置一色阻层；

s102：在所述色阻层上设置平坦层，并在所述平坦层相对应的位置上设置通孔；

s103：采用刻蚀工艺，对所述通孔区域进行刻蚀。

根据本揭示一实施例，所述步骤s101中，所述色阻层为红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻中的任意一个。

根据本揭示一实施例，所述步骤s103中，采用干法刻蚀工艺，对所述通孔区域上的所述色阻及所述钝化层进行刻蚀。

综上所述，本揭示实施例的有益效果为：

本揭示提供一种新的显示面板及显示面板的制备方法，通过将显示面板显示区域的红色阻、绿色阻或者蓝色阻延伸到周围的栅极驱动区，即在平坦层和钝化层之间设置一色阻，由于色阻的铺垫使得地势更加的平坦，进而在平坦化制程中，形成的膜层在金属线宽的边缘处的应力大大降低，解决平坦层在此处出现剥离的问题，提高产品的电性和良率。

附图说明

为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是揭示的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有产品设计中显示面板各层结构示意图；

图2为本揭示实施例中的显示面板各层结构示意图；

图3为本揭示另一种实施例的显示面板结构示意图；

图4为本揭示实施例中的显示面板的周边区域与显示区域结构示意图；

图5为本揭示实施例的显示面板制备流程图。

具体实施方式

下面将结合本揭示实施例中的附图，对本揭示实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本揭示一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本揭示中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本揭示保护的范围。

随着lcd显示面板向大尺寸、高解析度等方向发展，在设计时，面板内部会使用一层透明的有机绝缘平坦层，以防止内部电场的相互干扰。但是，做为平坦化层，需要面对各种不同复杂的底层地形。具体的，如图1中所示，图1为现有产品设计中显示面板各层结构示意图。显示面板的各层包括基板100，设置在基板100之上的栅极绝缘层101和第一金属层105，还包括第二金属层104、钝化层102以及平坦层103。上述各层在基板100上设置完成后，经过刻蚀等工艺基板100表面会形成多种台阶状的凸凹复杂结构，尤其是在金属线宽的边缘处，即第一金属层105或者第二金属层104的凸起“肩膀”处。而最后将平坦层103设置在其上时，由于第一边缘区106和第二边缘区107处存在较大的应力作用，平坦层103很容易出现剥离的情况，而影响产品的电性和良率。

在本揭示实施例中，如图2所示，图2为本揭示实施例中的显示面板的各层结构示意图。显示面板的各层结构主要分为基板、器件层以及器件层上的平坦层。具体的，所述器件层为薄膜晶体管阵列，显示面板结构包括基板200、设置在基板200上的栅极绝缘层201和第一金属层203、设置在栅极绝缘层201之上的钝化层202和第二金属层204、色阻层203以及平坦层206。其中，所述栅极绝缘层201覆盖第一金属层203，钝化层202覆盖第二金属层204，色阻层203设置在钝化层202与平坦层206之间。

所述第一金属层203为所述薄膜晶体管的金属栅极，第二金属层204中还包括薄膜晶体管的金属源极和金属漏极。

在本揭示实施例的显示面板中，色阻层203可以为红色(r)色阻、绿色(g)色阻以及蓝色(b)色阻中的任意一个，由于在钝化层202上设置了色阻层203，色阻层203将钝化层202与第一金属层203、第二金属层204之间形成的凸凹结构填充平整，再在所述平整的色阻层203的上表面上设置平坦层206，这样，图1中的金属线宽的第一边缘区域106、第二边缘区域107就不存在了，同时，平坦层206与基底之间的地形也变得平坦，与基底之间的接触也更加牢固。

在设置器件层时，由于薄膜晶体管中包括不同的结构，因此第一金属层203与第二金属层204在布线时，存在着单层金属结构，以及双层金属的叠加结构，双层金属叠加结构即将第二金属层204设置在第一金属层203的正上方。

如图3所示，图3为本揭示另一种实施例的显示面板结构示意图。所述显示面板包括设置在第一金属层上的栅极绝缘层301，设置在栅极绝缘层301之上的钝化层302，设置在钝化层302之上的色阻层303以及设置在最上层的平坦层304。由于在制作平坦层304之前先设置了色阻层303，色阻层303使得地势更加的平坦，因此，在制作平坦层304时，避免了平坦层304直接与金属边缘处相接触，进而有效的改善了平坦层出现剥离的情况。

在平坦层304的黄光制程显影工艺中，还需要在各膜层上设置开孔结构。具体的，在第一金属层与第二金属层之上开设通孔305，通孔305可开设在第一金属层、第二金属层的正中间位置处，以方便后续布置的电路的导通。各膜层结构经过涂胶、曝光、显影及刻蚀等工艺制得。

在具体的产品设计时，如图4所示，图4为本揭示实施例的显示面板的周边区域与显示区域结构示意图。其中，显示面板的主要结构包括钝化层402、设置在钝化层402之上的色阻层403以及设置在色阻层403之上的平坦层404。在本揭示的实施例中，在制备色阻层403时，不仅仅在显示面板的显示区域405内设置色阻层403，同时还在面板的周边区域406，即水平扫描线的栅极驱动区域内也设置所述色阻层403。这样，由于存在着色阻层403的铺垫，使得线路的地势更加的平坦，从而避免了金属边缘处应力对平坦层404的影响，进而改善平坦层404剥离的情况。

本揭示还提供本揭示实施例的显示面板的制备方法。所述制备方法主要为各膜层的制备工艺流程，工艺流程图如图5所示，图5为本揭示实施例显示面板制备流程图。包括如下步骤：

s100：在基板上设置薄膜晶体管阵列结构及各膜层，并在所述薄膜晶体管阵列上形成钝化层。

具体的，薄膜晶体管包括了第一金属栅极、栅极绝缘层、有源层、欧姆接触层、第二金属层(金属源极与金属漏极)，上述各结构按照薄膜晶体管的布置结构分别设置。在薄膜晶体管阵列设置完成后，再设置一钝化层；

s101：在所述钝化层上设置一色阻层。

所述色阻层为r色阻、g色阻、b色阻中的任意一个，其中色阻层延伸至显示面板周围的栅极驱动区。

s102：在色阻层上设置平坦层，并在所述平坦层相对应的位置上设置通孔。

s103：最后，在采用刻蚀工艺，对所述通孔区域进行刻蚀。

刻蚀工艺可为干法刻蚀工艺，对通孔区域上的所述色阻层及钝化层甚至栅极绝缘层按照所需结构进行刻蚀，形成过孔。最终，再形成透明像素电极层。

以上对本揭示实施例所提供的一种显示面板及显示面板的制备方法进行了详细介绍，以上实施例的说明只是用于帮助理解本揭示的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本揭示各实施例的技术方案的范围。