99]接下来，对第7实施方式进行说明。本实施方式中，对于与上述的实施方式相同的结构，赋予相同的附图标记并简化或者省略其说明。图17是简要地表示本实施方式的曝光装置EX的图。
[0200]图2等中说明的曝光装置EX在弯曲的投影区域PR进行投影曝光，但图17的曝光装置EX在平面状的投影区域PR进行投影曝光。图17中，基板P以架设于搬运辊61a和搬运辊61b的方式被支承。投影区域PR被设定俯视时在搬运辊61a与搬运辊61b之间被搬运的基板P上。
[0201]在本实施方式中，设有对基板P中在投影区域PR通过的部分进行支承的支承部件62。支承部件62具有气垫面62a，该气垫面62a例如排列有吹出气体的吹出口、和吸引来自吹出口的气体的吸引口。支承部件62以在投影区域PR内平面状地保持基板P的方式用气垫面62a非接触地支承基板P。
[0202]此外，图17中，基板P架设于搬运辊6 Ib和搬运辊61c，相对于中心面13对称地搬运基板P。对于曝光装置EX而言，通过在搬运棍61b与搬运棍61c之间的搬运路径上追加投影系统PL (投影模块PM)，也能够成为多透镜方式曝光装置。
[0203]并且，搬运辊61b与搬运辊61c之间的搬运路径也可以相对于中心面13而不和搬运辊61a与搬运辊61b之间的搬运路径对称。此时，追加的投影模块PM的光轴的倾斜、X轴方向的位置等能够根据投影区域PR的倾斜而适当设定。
[0204]这样，曝光装置EX也可以是对平面状地被支承的基板P进行曝光的结构。
[0205]并且，上述的实施方式中，对掩模图案M以圆筒面状地弯曲的状态保持而进行曝光处理的结构进行了说明，但也可以构成为，掩模图案M平面状地保持，基板P以圆筒面状地弯曲的状态被支承而进行曝光处理。该结构中，对于第2投影光学系统PL2而言，通过使中间像IM的切面IMa和投影区域PR的切面PRa满足向甫鲁条件而成为共轭关系，能够精度良好地对第I投影光学系统PLl所形成的中间像进行投影。
[0206]器件制造方法
[0207]接下来，对器件制造方法进行说明。图18是表示本实施方式的器件制造方法的流程图。
[0208]图18所示的器件制造方法中，首先，进行例如液晶显示面板、有机EL显示面板等器件的功能?性能设计(步骤201)。接下来，基于器件的设计，来制作掩模图案M(步骤202)。并且，通过购入或制造等预先准备作为器件的基材的透明薄膜、薄片、或者极薄的金属箔等基板(步骤203)。
[0209]接下来，将准备的基板投入辊式、精细(patch)式生产线，并在基板上形成构成器件的电极、布线、绝缘膜、半导体膜等TFT背板层、成为像素部的有机EL发光层(步骤204)。步骤204中，典型地包括在基板上的膜上形成抗蚀剂图案的工序、和将该抗蚀剂图案作为掩模而对上述膜进行蚀刻的工序。
[0210]抗蚀剂图案的形成中，实施如下工序:在基板表面一样地形成抗蚀剂膜的工序；根据上述的各实施方式、而利用经由掩模图案M图案化后的曝光用光L2对基板的抗蚀剂膜进行曝光的工序；以及利用该曝光使形成有掩模图案的潜像的抗蚀剂膜显影的工序。
[0211]在同时采用了印刷技术等的柔性.器件制造的情况下，实施如下工序等:以涂覆方式在基板表面形成功能性感光层(感光性硅烷耦合材料等)的工序；根据上述的各实施方式、而向功能性感光层照射经由掩模图案M而图案化后的曝光用光L2、并在功能性感光层上与图案形状对应地形成亲水化的部分和疏水化的部分的工序；以及在功能性感光层的亲水性较高的部分涂布镀敷基底液等、并通过化学镀析出形成金属性的图案的工序。
[0212]接下来，与制造的器件对应地，例如实施切割或切断基板、或者使在其它工序中制造的其它基板、例如具有密封功能的片状的彩色滤光器或较薄的玻璃基板等贴合的工序，从而组装器件(步骤205)。接下来，对器件进行检查等后处理(步骤206)。如上所述，能够制造器件。
[0213]此外，本发明的技术范围不限定于上述的实施方式。例如，可以省略上述的实施方式中说明的要素中的一个以上。并且，能够适当地组合上述的实施方式中说明的要素。
[0214]附图标记的说明:
[0215]M…掩模图案;P…基板;23…中间成像面;23a…切面;24…场镜;47、48…光学部件；49…光阑部;55…透镜阵列;56a、56b…透镜要素；DM…旋转鼓(掩模保持部件);DP...旋转鼓(基板支承部件)；DPa…外周面(支承面)；EX…曝光装置；IM…中间像；Ma…切面;IR…照明区域;IRa…切面;IU…照明系统;LL...照明光;L2…曝光用光;PL1…第I投影光学系统(中间像形成光学系统)；PL2…第2投影光学系统(投影光学系统)；PM…投影模块；PR...投影区域；PRa…切面；U3…处理装置。
【主权项】
1.一种处理装置，其将形成于掩模图案的图案投影曝光于基板，其特征在于，具备: 掩模保持部件，其将上述掩模图案保持为弯曲的状态； 基板支承部件，其支承上述基板； 照明系统，其对上述掩模图案的一部分进行照明； 中间像形成光学系统，其利用上述照明系统形成与在上述掩模图案上形成的照明区域对应的中间像，并且使上述中间像的切面和上述掩模图案上的照明区域的切面满足向甫鲁条件而成为共轭关系；以及 投影光学系统，其向支承于上述基板支承部件的基板上的投影区域投影上述中间像。
2.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于， 上述投影光学系统使上述中间像的上述切面和上述投影区域的切面满足向甫鲁条件而成为共轭关系。
3.根据权利要求2所述的处理装置，其特征在于， 上述基板支承部件具备以使上述基板弯曲成圆筒面状的状态支承上述基板的支承面， 上述投影区域沿上述基板支承部件的支承面弯曲。
4.根据权利要求1?3中任一项所述的处理装置，其特征在于， 上述照明系统从不与上述照明区域的上述切面垂直的方向对上述照明区域进行照明。
5.根据权利要求4所述的处理装置，其特征在于， 上述掩模图案是透射型掩模图案， 上述照明系统在上述掩模保持部件的内侧配置。
6.根据权利要求5所述的处理装置，其特征在于， 上述掩模保持部件以使上述掩模图案在中心线的周围弯曲成旋转对称的圆筒面状的状态保持上述掩模图案， 在与上述圆筒面的中心线垂直的面中，对于上述掩模图案中在离上述基板最近的接近点通过的上述圆筒面的径向而言，相对于上述中心线而在上述接近点的相反侧，与来自上述照明系统的光的射出方向相交。
7.—种处理装置，其将形成于掩模图案的图案投影曝光于基板，其特征在于，具备: 掩模保持部件，其保持上述掩模图案； 基板支承部件，其将上述基板支承为弯曲的状态； 照明系统，其对上述掩模图案的一部分进行照明； 中间像形成光学系统，其利用上述照明系统形成与在上述掩模图案上形成的照明区域对应的中间像；以及 投影光学系统，其向支承于上述基板支承部件的基板上的投影区域投影上述中间像，并且使上述中间像的切面和上述投影区域的切面满足向甫鲁条件而成为共轭关系。
8.根据权利要求1?7中任一项所述的处理装置，其特征在于， 具有在形成上述中间像的位置或者其附近配置的场镜。
9.根据权利要求8所述的处理装置，其特征在于， 上述场镜使来自上述中间像形成光学系统的光偏转而朝向上述投影光学系统。
10.根据权利要求8或9所述的处理装置，其特征在于， 上述场镜具备: 第I光学部件，其相对于上述中间像的切面配置在与上述照明区域相同的一侧； 第2光学部件，其相对于上述中间像的切面配置在与上述照明区域相反的一侧；以及 光阑部，其被上述第I光学部件和上述第2光学部件夹持。
11.根据权利要求1?10中任一项所述的处理装置，其特征在于， 上述处理装置包括多个上述中间像形成光学系统和多个上述投影光学系统，还具备: 移动装置，其使上述基板和上述掩模图案移动； 第I投影模块，其包括第I中间像形成光学系统及第I投影光学系统；以及第2投影模块，其相对于上述移动装置的移动方向而在与上述第I投影模块不同的位置配置，并包括第2中间像形成光学系统及第2投影光学系统， 上述第I投影模块和上述第2投影模块在与上述移动装置的上述移动方向垂直的方向上配置于不同的位置，以使随着上述移动装置的移动而在上述第I投影模块的投影区域通过的上述基板上的区域的一部分、和随着上述移动装置的移动而在上述第2投影模块的投影区域通过的上述基板上的区域的一部分重叠。
12.根据权利要求11所述的处理装置，其特征在于， 具备遍及上述第I投影模块的成像面和上述第2投影模块的成像面设置的场镜。
13.根据权利要求11或12所述的处理装置，其特征在于， 上述第I投影模块在与上述移动装置的上述移动方向垂直的上述方向上配置多个， 并具备遍及上述多个第I投影模块的成像面设置的场镜。
14.根据权利要求11?13中任一项所述的处理装置，其特征在于， 具备透镜阵列，其遍及上述第I投影模块的光路和上述第2投影模块的光路配置， 且排列有上述第I投影模块的透镜要素和上述第2投影模块的透镜要素。
15.根据权利要求11?14中任一项所述的处理装置，其特征在于， 上述第I投影模块在与上述移动装置的上述移动方向垂直的上述方向上配置多个，并具备遍及上述多个上述第I投影模块的光路配置、且配置有上述多个上述第I投影模块的透镜要素的透镜阵列。
16.一种器件制造方法，其特征在于，包括: 一边使具有感应层的基板和掩模图案移动、一边利用权利要求1?15中任一项所述的处理装置来将形成于上述掩模图案的图案投影曝光于上述基板的步骤；和 利用上述投影曝光后的上述基板的上述感应层的变化来实施后续的处理的步骤。
【专利摘要】本发明提供将形成于掩模图案(M)的图案投影曝光于基板(P)的处理装置(EX)。具备：将掩模图案保持为弯曲的状态的掩模保持部件(DM)；支承基板的基板支承部件(DP)；对掩模图案的一部分进行照明的照明系统(IU)；利用照明系统形成与在掩模图案上形成的照明区域(IR)对应的中间像(IM)、并且使中间像的切面(IMa)和掩模图案上的照明区域的切面(IRa)满足向甫鲁条件而成为共轭关系的中间像形成光学系统(PL1)；以及向支承于基板支承部件的基板上的投影区域(PR)投影中间像的投影光学系统(PL2)。
【IPC分类】G03F7-20, G03F7-24
【公开号】CN104520771
【申请号】CN201380041430
【发明人】小松宏一郎
【申请人】株式会社尼康
【公开日】2015年4月15日
【申请日】2013年6月26日
【公告号】WO2014024594A1