一种显示面板及其制造方法和显示器件的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示器制造领域，尤其涉及一种显示面板及其制造方法和显示器件。
【背景技术】
[0002]在液晶显示器制造工程中，传统的取向层摩擦方法都是同一基板取向相同，因此显示器件具有只能显示一种显示模式的优势，同时也显示出了该模式的劣势，将各种模式的优劣情况综合起来成为显示领域的目标。半透半反模式显示就是一种将透射与反射结合起来的显示模式，提高了应用产品的性能，扩大了应用产品的应用领域，所以研发的热度也在与日俱增，纵观显示领域的发展现状，在户外应用的显示产品，半透半反模式已备受关注。
[0003]光敏高分子作为活泼的高分子材料，其应用的范围也在日益扩大，使用过程中，主要是利用光照来进行光敏高分子的稳定和降解，旋涂工艺可在塑料基板或者添加粘合剂后在玻璃基板上进行，挥发掉有机溶剂后，进行取向工艺，而后进行紫外光照射使得光敏高分子稳定以达到取向效果。
[0004]发明人发现传统工艺中半透半反传统的取向工艺是使用树脂材料先做好阶梯状的层状结构，然后摩擦取向rubbing工艺在阶梯状的基板上进行，这样的工艺结果使得阶梯交界处发生工艺不良，进而影响画面的整体品质。
【发明内容】
[0005]本发明的实施例提供的显示面板及其制造方法和显示器件，能够避免半透半反的液晶显示器的摩擦工艺不良发生，提高画面整体品质。
[0006]为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案:
[0007]—方面，提供一种显示面板的制造方法，在基板上形成像素单元层，所述像素单元层包括:由栅线和数据线围成的像素单元及开关单元和覆盖所述像素单元的钝化层，其特征在于，
[0008]在所述像素单元层上形成第一光敏高分子层；
[0009]对所述第一光敏高分子层进行第一方向的摩擦取向；
[0010]对所述第一光敏高分子层进行干燥和光照固化形成第一取向层；
[0011]在所述第一取向层上对应反射区的位置形成一层反射层；
[0012]在所述第一取向层和所述金属反射层上形成第二光敏高分子层；
[0013]对所述第二光敏高分子层进行第二方向的摩擦取向；
[0014]对所述第二光敏高分子层进行干燥处理并通过掩膜板对所述反射层上方的第二光敏高分子层进行光照固化处理形成第二取向层，得到阵列基板；
[0015]将所述阵列基板与制作成型的彩膜基板对盒并注入液晶。
[0016]所述光敏高分子层包括:光敏高分子材料和易挥发有机溶剂。
[0017]所述光敏高分子材料包括:
[0018]聚乙烯醇肉桂酸酯、聚乙烯氧肉桂酸乙酯、聚对亚苯基二丙烯酸酯、聚乙烯醇肉桂叉乙酸酯、二乙烯苯、N，N-亚甲基双丙烯酰胺、双丙烯酸乙二醇酯、安息香酶酯。
[0019]所述易挥发有机溶剂包括:丙酮、乙醇、环烷烃。
[0020]所述反射层为铝。
[0021]所述第一方向和所述第二方向相同或不同。
[0022]所述光照固化为采用紫外线光照固化。
[0023]所述干燥处理为放置于80°C?100°C的环境中4?6分钟。
[0024]另一方面，提供一种显示面板，包括对盒成型的彩膜基板和阵列基板，其中所述彩膜基板和所述阵列基板之间含有液晶，所述阵列基板包括基板、像素单元层、取向层，其中所述像素单元层包括:由栅线和数据线围成的像素单元及开关单元和覆盖所述像素单元的钝化层，所述取向层包括:
[0025]覆盖所述像素单元层的第一取向层；
[0026]形成在所述第一取向层上对应反射区位置的反射层；
[0027]形成于所述金属反射层上方的第二取向层。
[0028]所述第二取向层的厚度为所述显示面板的液晶盒厚的二分之一。
[0029]所述反射层的面积在所述显示面板的每个像素单元上占二分之一
[0030]
[0031]再一方面，提供一种显示器件，其特征在于，包括上述的显示面板。
[0032]本发明的实施例提供的显示面板及其制造方法和显示器件，采用光敏高分子材料制作取向层，摩擦取向工艺分步进行，能够避免半透半反的液晶显示器的摩擦工艺不良发生，提闻画面整体品质。
【附图说明】
[0033]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0034]图1为本发明实施例提供的一种显示面板的制造方法流程示意图；
[0035]图2为本发明实施例提供的显示面板制造过程中的结构一示意图；
[0036]图3为本发明实施例提供的显示面板制造过程中的结构二示意图；
[0037]图4为本发明实施例提供的显示面板制造过程中的结构三示意图；
[0038]图5为本发明实施例提供的显示面板制造过程中的结构四示意图；
[0039]图6为本发明实施例提供的显示面板制造过程中的结构五示意图；
[0040]图7为本发明实施例提供的显示面板制造过程中的结构六示意图；
[0041]图8为本发明实施例提供的一种显示面板结构示意图。
【具体实施方式】
[0042]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0043]如图1所示，为本发明实施例提供的阵列基板的制造方法，包括以下步骤:
[0044]S101、在基板I上形成像素单元层2 ;
[0045]当然，根据现有技术，这里像素单元层包括纵横交叉的栅线和数据线，以及被数据线和栅线围成的像素单元，像素单元包括开关单元，开关单元一般为TFT(Thin FilmTransistor,薄膜场效应晶体管)开关，TFT开关包括:源极、漏极、栅极和有源层，当然在制造的TN和IPS模式的显示面板中该像素单元层还包括与TFT开关漏极相连的像素电极，在FFS模式的显示面板中该像素单元层还包括公共电极层；
[0046]此外，该像素单元层还包括一层覆盖在其上方的钝化层用来保护像素单元层中的电学器件。
[0047]S102、在像素单元层2上形成第一光敏高分子层50 ；
[0048]S103、对第一光敏高分子层50进行第一方向的摩擦取向；
[0049]结合图2，该第一光敏高分子层50包括光敏高分子材料和易挥发溶剂；
[0050]其中可选的，光敏高分子材料包括:聚乙烯醇肉桂酸酯、聚乙烯氧肉桂酸乙酯、聚对亚苯基二丙烯酸酯、聚乙烯醇肉桂叉乙酸酯、二乙烯苯、N，N-亚甲基双丙烯酰胺、双丙烯酸乙二醇酯、安息香酶酯；易挥发有机溶剂包括:丙酮、乙醇、环烷烃。
[0051]S104、对第一光敏高分子层50进行干燥和光照固化形成第一取向层5 ；
[0052]结合图3所示，可选的将阵列基板置于80°C?100°C的环境中4?6分钟对第一光敏高分子层50进行干燥，以便挥发掉第一高敏光分子层50中的易挥发溶剂，然后采用紫外线照射对第一光敏高分子层50进行光固化进而形成第一取向层5。