4b所示，所述第一刻度标尺21可以为两个，其分别位于与每个第一边11对应的非显示区域中。
[0035]相应的，所述第二刻度标尺22可以用于测量所述上偏光片01中一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离，S卩，如图4a所示，所述第二刻度标尺22可以为一个，其可以位于与该一个第二边12对应的非显示区域中，在此情况下，另一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离便可通过计算得到，即:在已知两个第二边12之间的距离、彩膜基板02的与该第二边平行的两个边之间的距离、一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离的基础上，便可以计算出另一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离。
[0036]当然，所述第二刻度标尺22也可以用于测量所述上偏光片01中两个第二边12到分别靠近的所述彩膜基板02边缘的距离，即，如图4b所示，所述第二刻度标尺22可以为两个，其分别位于与每个第二边12对应的非显示区域中。
[0037]对于所述阵列基板04，所述第三刻度标尺41可以用于测量所述下偏光片03中一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离，S卩，如图5a所示，所述第三刻度标尺41可以为一个，其可以位于与该一个第三边31对应的非显示区域中，在此情况下，另一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离便可通过计算得到，即:在已知两个第三边31之间的距离、阵列基板04的与该第三边平行的两个边之间的距离、一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离的基础上，便可以计算出另一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离。
[0038]当然，所述第三刻度标尺41也可以用于测量所述下偏光片03中两个第三边31到分别靠近的所述阵列基板04边缘的距离，即，如图5b所示，所述第三刻度标尺41可以为两个，其分别位于与每个第三边31对应的非显示区域中。
[0039]相应的，所述第四刻度标尺42可以用于测量所述下偏光片03中一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离，S卩，如图5a和5b所示，所述第四刻度标尺42可以为一个，其可以位于与该一个第四边32对应的非显示区域中，在此情况下，另一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离便可通过计算得到，即:在已知两个第四边32之间的距离、阵列基板04的与该第四边平行的两个边之间的距离、一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离的基础上，便可以计算出另一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离。
[0040]当然，所述第四刻度标尺42可以用于测量所述下偏光片03中两个第四边32到分别靠近的所述阵列基板04边缘的距离，即，所述第四刻度标尺42可以为两个，其分别位于与每个第四边32对应的非显示区域中。
[0041 ] 需要说明的是，第一，根据上述对彩膜基板02和阵列基板04中相应刻度标尺的说明，在将所述彩膜基板02和阵列基板04对盒形成液晶显示面板时，可以将所述彩膜基板的几种结构和阵列基板04的几种结构自由进行组合，只要能通过设置在所述彩膜基板02和阵列基板04中相应的刻度标尺得到上偏光片01中每一边到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离，下偏光片03中每一边到靠近的所述阵列基板04边缘的距离即可。
[0042]第二，在彩膜基板02上，不对所述第一刻度标尺21和第二刻度标尺22具体位于哪一层进行限定，只要能通过其测得上偏光片01中至少一个第一边11到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离以及至少一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离即可。
[0043]同理，在阵列基板04上，不对所述第三刻度标尺41和第四刻度标尺42具体位于哪一层进行限定，只要能通过其测得下偏光片03中至少一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离以及至少一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离即可。
[0044]第三，不对所述刻度标尺的长度以及每个刻度进行限定，只要通过其能测得希望的偏光片的精度偏差即可。
[0045]第四，不对所述彩膜基板02和所述阵列基板04的具体结构进行限定。
[0046]本发明实施例提供了一种液晶显示装置，通过设置在所述彩膜基板02上的第一刻度标尺21和第二刻度标尺22可以直接读取或在直接读取的基础上再计算得到上偏光片01各边到相应的彩膜基板02边缘的距离，通过设置在阵列基板04上的第三刻度标尺41和第四刻度标尺42可以直接读取或在直接读取的基础上再计算得到下偏光片03各边到相应的阵列基板04边缘的距离，从而得到上偏光片01贴附在彩膜基板02上的精度以及下偏光片03贴附在阵列基板04上的精度；相比现有技术中通过手动拿直尺测量偏光片贴附精度，本发明实施例可以避免手拿直尺导致偏差的产生，从而可以提升检测偏光片的精度，此外，由于不再需要借助直尺而可以直接读取，有效提高了生产效率。
[0047]通过上述描述可知，在通过一个所述第一刻度标尺21测得上偏光片01的一个第一边11到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离，通过一个所述第二刻度标尺22测得上偏光片01的一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离的情况下，通过计算便可得到另一个第一边11到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离以及另一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离，因而，如图4a所示，优选在彩膜基板02上设置一个所述第一刻度标尺21，一个所述第二刻度标尺22。这样可以减少制作工艺的复杂度。
[0048]同理，在通过一个所述第三刻度标尺41测得下偏光片03的一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离，通过一个所述第四刻度标尺42测得下偏光片03的一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离的情况下，通过计算便可得到另一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离以及另一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离，因而，如图5a所示，优选在阵列基板04上设置一个所述第三刻度标尺41，一个所述第四刻度标尺42。这样可以减少制作工艺的复杂度。
[0049]这里需要说明的是，由于阵列基板04上设置有pad(焊盘)，因此，优选将所述第三刻度标尺41和第四刻度标尺42设置在非显示区域的不设置pad的区域。
[0050]优选的，所述第一刻度标尺21和所述第二刻度标尺22与设置在彩膜基板02上的黑矩阵层同层设置，即可以通过一次构图工艺既形成黑矩阵层又形成所述第一刻度标尺21和所述第二刻度标尺22，从而可以避免构图工艺次数的增加，节省成本。
[0051]优选的，所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42与设置在阵列基板04上的金属层同层设置且绝缘，即可以通过一次构图工艺既形成金属层又形成所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42，从而可以避免构图工艺次数的增加，节省成本。
[0052]其中，所述金属层可以是包括栅极的栅金属层，包括源极和漏极的源漏金属层，或是其他金属层，具体不做限定。
[0053]进一步优选的，在所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42所在的区域，除所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42外，均为透明材料。
[0054]这样，由于在所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42所在的区域，只有所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42是不透明的，因而可以很容易读取相应的数值，不会由于该区域还设置有其他金属图案而影响读数，进一步提升了检测下偏光片03的精度。
[0055]基于上述，优选的，如图4a所示，沿刻度方向，所述第一刻度标尺21和所述第二刻度标尺22的一边与所述彩膜基板02的边缘齐平；如图5a所示，沿刻度方向，所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42的一边与所述阵列基板04的边缘齐平。
[0056]这样可以降低制作刻度标尺的复杂度，且可以保证刻度标尺本身与相应彩膜基板02和阵列基板04边缘之间的精度。
[0057]进一步优选的，所述第一刻度标尺21、所述第二刻度标尺22、所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42的中心刻度均处于刻度标尺的中间位置。
[0058]其