中，所述第一刻度标尺21的中心刻度与所述第一边11的预定位置重合，所述第二刻度标尺22的中心刻度与所述第二边12的预定位置重合，所述第三刻度标尺41的中心刻度与所述第三边31的预定位置重合，所述第四刻度标尺42的中心刻度与所述第四边32的预定位置重合。
[0059]需要说明的是，以所述第一刻度标尺21为例，所述第一刻度标尺21的中心刻度处于第一刻度标尺21的中间位置，即为:如图6所示，所述第一刻度标尺21的起始刻度O处于所述第一刻度标尺21的中间位置，并且以该起始刻度O为起点，向左向右对称的进行刻度设置。
[0060]这里，还是以所述第一刻度标尺21为例，通过将所述第一刻度标尺21的中心刻度与所述第一边11的预定位置重合，可以很方便且直观的读取贴附后上偏光片01的第一边11偏离了预定位置多少。
[0061]上述图6仅示意的绘示了一些刻度，具体可根据实际情况进行设定。
[0062]进一步优选的，所述第一刻度标尺21、所述第二刻度标尺22、所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42的长度为100-400 μπι之间。
[0063]其中，所述第一刻度标尺21、所述第二刻度标尺22、所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42的长度可以相同，也可不同，在此不做限定。
[0064]对于每个刻度标尺的精度可以根据实际的精度需求进行设置，例如可以设置为20 μ m-50 μ m0
[0065]由于目前上偏光片01距离彩膜基板02边缘，下偏光片03距离阵列基板04边缘一般都小于200 μ m，因此优选采用刻度标尺的长度为200 μ m，刻度精度为20 μ m对偏光片精度的测量。
[0066]本发明实施例还提供了一种液晶显示装置的制备方法，包括:形成对盒成型的彩膜基板02和阵列基板04、位于所述彩膜基板02 —侧的上偏光片01和位于所述阵列基板04 一侧的下偏光片03 ;形成所述彩膜基板02包括:形成包括第一刻度标尺21和第二刻度标尺22的所述彩膜基板02 ;形成所述阵列基板04包括:形成包括第三刻度标尺41和第四刻度标尺42的所述阵列基板04。
[0067]其中，所述第一刻度标尺21、第二刻度标尺22、第三刻度标尺43和第四刻度标尺44均位于非显示区域。
[0068]所述第一刻度标尺21用于测量所述上偏光片01中相互平行的第一边11中至少一个第一边11到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离，所述第二刻度标尺22用于测量所述上偏光片01中相互平行的第二边12中至少一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离。
[0069]所述第三刻度标尺41用于测量所述下偏光片03中相互平行的第三边31中至少一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离，所述第四刻度标尺42用于测量所述下偏光片03中相互平行的第四边32中至少一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离。
[0070]具体的，对于所述彩膜基板02，如图4a所示，所述第一刻度标尺21可以为一个，其可以形成在与该一个第一边11对应的非显示区域中，在此情况下，另一个第一边11到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离可被计算。
[0071]如图4b所示，所述第一刻度标尺21也可以为两个，其分别形成在与每个第一边11对应的非显示区域中。
[0072]如图4a所示，所述第二刻度标尺22可以为一个，其可以形成在与该一个第二边12对应的非显示区域中，在此情况下，另一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离可被计算。
[0073]如图4b所示，所述第二刻度标尺22也可以为两个，其分别形成在与每个第二边12对应的非显示区域中。
[0074]对于所述阵列基板04，如图5a所示，所述第三刻度标尺41可以为一个，其可以位于与该一个第三边31对应的非显示区域中，在此情况下，另一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离可被计算。
[0075]如图5b所示，所述第三刻度标尺41也可以为两个，其分别位于与每个第三边31对应的非显示区域中。
[0076]如图5a和5b所示，所述第四刻度标尺42可以为一个，其可以位于与该一个第四边32对应的非显示区域中，在此情况下，另一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离可被计算。
[0077]当然，所述第四刻度标尺42也可以为两个，其分别位于与每个第四边32对应的非显示区域中。
[0078]需要说明的是，第一，根据上述对彩膜基板02和阵列基板04中相应刻度标尺的说明，在将所述彩膜基板02和阵列基板04对盒形成液晶显示面板时，可以将所述彩膜基板的几种结构和阵列基板04的几种结构自由进行组合，只要能通过形成在所述彩膜基板02和阵列基板04中相应的刻度标尺得到上偏光片01中每一边到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离，下偏光片03中每一边到靠近的所述阵列基板04边缘的距离即可。
[0079]第二，在彩膜基板02上，不对所述第一刻度标尺21和第二刻度标尺22具体形成在哪一层进行限定，只要能通过其测得上偏光片01中至少一个第一边11到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离以及至少一个第二边12到靠近的所述彩膜基板02边缘的距离即可。
[0080]同理，在阵列基板04上，不对所述第三刻度标尺41和第四刻度标尺42具体形成在哪一层进行限定，只要能通过其测得下偏光片03中至少一个第三边31到靠近的所述阵列基板04边缘的距离以及至少一个第四边32到靠近的所述阵列基板04边缘的距离即可。
[0081]第三，不对所述刻度标尺的长度以及每个刻度进行限定，只要通过其能测得希望的偏光片的精度偏差即可。
[0082]第四，不对所述彩膜基板02和所述阵列基板04的除刻度标尺之外的图案层的形成顺序进行限定。
[0083]本发明实施例提供了一种液晶显示装置，通过形成在所述彩膜基板02上的第一刻度标尺21和第二刻度标尺22可以直接读取或在直接读取的基础上再计算得到上偏光片01各边到相应的彩膜基板02边缘的距离，通过形成在阵列基板04上的第三刻度标尺41和第四刻度标尺42可以直接读取或在直接读取的基础上再计算得到下偏光片03各边到相应的阵列基板04边缘的距离，从而得到上偏光片01贴附在彩膜基板02上的精度以及下偏光片03贴附在阵列基板04上的精度；相比现有技术中通过手动拿直尺测量偏光片贴附精度，本发明实施例可以避免手拿直尺导致偏差的产生，从而可以提升检测偏光片的精度，此外，由于不再需要借助直尺而可以直接读取，有效提高了生产效率。
[0084]如图4a所示，对于所述彩膜基板02，优选形成在其上的所述第一刻度标尺21为一个，所述第二刻度标尺22为一个。
[0085]如图5a所示，对于阵列基板04，优选形成在其上的所述第三刻度标尺41为一个，所述第四刻度标尺42为一个。
[0086]这样，可以减少制作工艺的复杂度。
[0087]这里需要说明的是，由于阵列基板04上设置有pad，因此，优选将所述第三刻度标尺41和第四刻度标尺42设置在非显示区域的不设置pad的区域。
[0088]为了避免构图工艺次数的增加，优选所述第一刻度标尺21和所述第二刻度标尺22与所述彩膜基板02中的黑矩阵层通过一次构图工艺形成；优选所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42与所述阵列基板04中的金属电极通过一次构图工艺形成，且所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42与所述金属电极绝缘。
[0089]所述金属电极可以是栅极，或者源极和漏极等，具体不做限定。
[0090]进一步优选的，在所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42所在的区域，除所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42外，均为透明材料。
[0091]这样，由于在所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42所在的区域，只有所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42是不透明的，因而可以很容易读取相应的数值，不会由于该区域还设置有其他金属图案而影响读数，进一步提升了检测下偏