光片03的精度。
[0092]基于上述，优选的，如图4a所示，沿刻度方向，所述第一刻度标尺21和所述第二刻度标尺22的一边与所述彩膜基板02的衬底基板边缘齐平；如图5a所示，沿刻度方向，所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42的一边与所述阵列基板04的衬底基板边缘齐平。
[0093]这样可以降低制作刻度标尺的复杂度，且可以保证刻度标尺本身与相应彩膜基板02和阵列基板04边缘之间的精度。
[0094]进一步优选的，所述第一刻度标尺21、所述第二刻度标尺22、所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42的中心刻度均处于刻度标尺的中间位置。其中，所述第一刻度标尺21的中心刻度与所述第一边11的预定位置重合，所述第二刻度标尺22的中心刻度与所述第二边12的预定位置重合，所述第三刻度标尺41的中心刻度与所述第三边31的预定位置重合，所述第四刻度标尺42的中心刻度与所述第四边32的预定位置重合。
[0095]需要说明的是，以所述第一刻度标尺21为例，所述第一刻度标尺21的中心刻度处于第一刻度标尺21的中间位置，即为:如图6所示，所述第一刻度标尺21的起始刻度O处于所述第一刻度标尺21的中间位置，并且以该起始刻度O为起点，向左向右对称的进行刻度设置。
[0096]上述图6仅示意的绘示了一些刻度，具体可根据实际情况进行设定。
[0097]进一步优选的，所述第一刻度标尺21、所述第二刻度标尺22、所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42的长度为100-400 μπι之间。
[0098]其中，所述第一刻度标尺21、所述第二刻度标尺22、所述第三刻度标尺41和所述第四刻度标尺42的长度可以相同，也可不同，在此不做限定。
[0099]对于每个刻度标尺的精度可以根据实际的精度需求进行设置，例如可以设置为20 μ m-50 μ m0
[0100]由于目前上偏光片01距离彩膜基板02边缘，下偏光片03距离阵列基板04边缘一般都小于200 μ m，因此优选采用刻度标尺的长度为200 μ m，刻度精度为20 μ m对偏光片精度的测量。
[0101] 以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
【主权项】
1.一种液晶显示装置，包括:彩膜基板、阵列基板、位于所述彩膜基板一侧的上偏光片和位于所述阵列基板一侧的下偏光片；其特征在于， 所述彩膜基板包括第一刻度标尺和第二刻度标尺；所述阵列基板包括第三刻度标尺和第四刻度标尺； 其中，所述第一刻度标尺、第二刻度标尺、第三刻度标尺和第四刻度标尺均位于非显示区域； 所述第一刻度标尺用于测量所述上偏光片中相互平行的第一边中至少一个第一边到靠近的所述彩膜基板边缘的距离，所述第二刻度标尺用于测量所述上偏光片中相互平行的第二边中至少一个第二边到靠近的所述彩膜基板边缘的距离； 所述第三刻度标尺用于测量所述下偏光片中相互平行的第三边中至少一个第三边到靠近的所述阵列基板边缘的距离，所述第四刻度标尺用于测量所述下偏光片中相互平行的第四边中至少一个第四边到靠近的所述阵列基板边缘的距离。
2.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，所述第一刻度标尺为一个；所述第二刻度标尺为一个。
3.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，所述第三刻度标尺为一个；所述第四刻度标尺为一个。
4.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，所述第一刻度标尺和所述第二刻度标尺与所述彩膜基板中的黑矩阵层同层设置。
5.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，所述第三刻度标尺和所述第四刻度标尺与所述阵列基板中的金属层同层设置且绝缘。
6.根据权利要求5所述的液晶显示装置，其特征在于，在所述第三刻度标尺和所述第四刻度标尺所在的区域，除所述第三刻度标尺和所述第四刻度标尺外，均为透明材料。
7.根据权利要求1至6任一项所述的液晶显示装置，其特征在于，沿刻度方向，所述第一刻度标尺和所述第二刻度标尺的一边与所述彩膜基板的边缘齐平； 沿刻度方向，所述第三刻度标尺和所述第四刻度标尺的一边与所述阵列基板的边缘齐平。
8.根据权利要求7所述的液晶显示装置，其特征在于，所述第一刻度标尺、所述第二刻度标尺、所述第三刻度标尺和所述第四刻度标尺的中心刻度均处于刻度标尺的中间位置； 所述第一刻度标尺的中心刻度与所述第一边的预定位置重合，所述第二刻度标尺的中心刻度与所述第二边的预定位置重合，所述第三刻度标尺的中心刻度与所述第三边的预定位置重合，所述第四刻度标尺的中心刻度与所述第四边的预定位置重合。
9.根据权利要求8所述的液晶显示装置，其特征在于，所述第一刻度标尺、所述第二刻度标尺、所述第三刻度标尺和所述第四刻度标尺的长度在100-400 μπι之间。
10.一种液晶显示装置的制备方法，包括:形成对盒成型的彩膜基板和阵列基板、位于所述彩膜基板一侧的上偏光片和位于所述阵列基板一侧的下偏光片；其特征在于， 形成所述彩膜基板包括:形成包括第一刻度标尺和第二刻度标尺的所述彩膜基板； 形成所述阵列基板包括:形成包括第三刻度标尺和第四刻度标尺的所述阵列基板； 其中，所述第一刻度标尺、第二刻度标尺、第三刻度标尺和第四刻度标尺均位于非显示区域； 所述第一刻度标尺用于测量所述上偏光片中相互平行的第一边中至少一个第一边到靠近的所述彩膜基板边缘的距离，所述第二刻度标尺用于测量所述上偏光片中相互平行的第二边中至少一个第二边到靠近的所述彩膜基板边缘的距离； 所述第三刻度标尺用于测量所述下偏光片中相互平行的第三边中至少一个第三边到靠近的所述阵列基板边缘的距离，所述第四刻度标尺用于测量所述下偏光片中相互平行的第四边中至少一个第四边到靠近的所述彩膜基板边缘的距离。
11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述第一刻度标为一个；所述第二刻度标尺为一个。
12.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述第三刻度标尺为一个；所述第四刻度标尺为一个。
13.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述第一刻度标尺和所述第二刻度标尺与所述彩膜基板中的黑矩阵层通过一次构图工艺形成。
14.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述第三刻度标尺和所述第四刻度标尺与所述阵列基板中的金属电极通过一次构图工艺形成，且所述第三刻度标尺和所述第四刻度标尺与所述金属电极绝缘。
15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，在所述第三刻度标尺和所述第四刻度标尺所在的区域，除所述第三刻度标尺和所述第四刻度标尺外，均为透明材料。
【专利摘要】本发明实施例提供了一种液晶显示装置及其制备方法，涉及显示技术领域，可有效提升检测偏光片贴附的效率以及精度。该液晶显示装置包括：彩膜基板、阵列基板、上偏光片和下偏光片；彩膜基板包括第一刻度标尺和第二刻度标尺；阵列基板包括第三刻度标尺和第四刻度标尺，且均位于非显示区域；第一刻度标尺用于测量上偏光片中相互平行的至少一个第一边到靠近的彩膜基板边缘的距离，第二刻度标尺用于测量上偏光片中相互平行的至少一个第二边到靠近的彩膜基板边缘的距离；第三刻度标尺用于测量下偏光片中相互平行的至少一个第三边到靠近的阵列基板边缘的距离，第四刻度标尺用于测量下偏光片中相互平行的至少一个第四边到靠近的阵列基板边缘的距离。
【IPC分类】G02F1-13, G02F1-1335, G02F1-1333
【公开号】CN104597642
【申请号】CN201510085533
【发明人】王辉, 郭远辉, 王春, 陈俊生, 李小和, 车春城
【申请人】合肥京东方光电科技有限公司, 京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2015年5月6日
【申请日】2015年2月16日