层和TAC膜与之间的界面。
[0205](实施例3)
[0206]作为基材，除了取代HC - TAC膜而使用丙烯酸膜之外，与实施例1同样地制作实施例3的防反射膜。
[0207]图42和图43是实施例3的防反射膜的截面的SEM照片。
[0208]如图42所示，在实施例3的防反射膜中，也在树脂层中观察到多个空洞。另外，如图43所示，在实施例3的防反射膜中，在丙烯酸膜与树脂层之间能清楚地确认出界面。
[0209](实施方式2)
[0210]本实施方式除了含溶剂树脂不同之外，与实施方式I实质上相同。因此，在本实施方式中，主要对本实施方式特有的特征进行说明，对与实施方式I重复的内容省略说明。
[0211]在本实施方式中，使用与溶剂的相溶性不充分的树脂固体成分。由此，在含溶剂树脂中，能更主动地使溶剂成分的浓度变化。
[0212]图44是实施方式2的防反射膜的制造工序(曝光时)中的各构件的截面示意图。图45是实施方式2的防反射膜的制造工序(干燥时)中的各构件的截面示意图。
[0213]如图44所示，在树脂固体成分218即含溶剂树脂中的树脂组合物和溶剂成分的相溶性不充分的情况下，在夹在模版214和基材216之间的含溶剂树脂215中，树脂固体成分218不均匀地分散，溶剂成分不均匀地分布。因此，如图45所示，根据部位，挥发的溶剂成分222的量不同，其结果是，树脂层219的厚度根据部位而不同。与溶剂成分的浓度分布对应地产生树脂层219的膜厚分布。因此，本实施方式的防反射膜成为能产生干涉纹样的防反射构件。
[0214]作为树脂固体成分218，能使用例如含各种添加剂的丙烯酸系树脂组合物，作为溶剂，能使用例如重量比为5:5的甲基一乙基甲酮(MEK)和甲苯的混合溶剂。树脂固体成分:溶剂的比例(重量比)能设为例如4:6。
[0215](实施方式3)
[0216]本实施方式除了使溶剂成分的浓度不均匀的方式不同之外，与实施方式I实质上相同。因此，在本实施方式中，主要对本实施方式特有的特征进行说明，对与实施方式I重复的内容省略说明。
[0217]在本实施方式中，采用更特意地产生树脂层的厚度偏差的方法。
[0218]图46是实施方式3的防反射膜的制造工序(曝光时)中的各构件的截面示意图。图47是实施方式3的防反射膜的制造工序(干燥时)中的各构件的截面示意图。
[0219]首先，如图46所示，预先在模版314上形成结构物318。结构物318是与模版314、含溶液树脂315以及基材316不同的物体的一种。并且，当含溶剂树脂315与模版314以及结构物318接触时，如图46所示，溶剂成分局部集中于结构物318附近。因为结构物318与模版314不同，所以认为在模版314和结构物318中，通常它们的表面状态(例如表面能量)相互不同。模版314的表面如上所述为疏水性，但是认为结构物318相对于水的亲和性的程度与模版314的表面相对于水的亲和性的程度不同。其结果是，与结构物318的配置部位对应地产生溶剂成分的浓度分布。因此，如图47所示，在结构物318附近挥发的溶剂成分322的量相对地增多，其结果是，树脂层319的厚度与结构物318的配置部位对应地变化。详细地，在结构物318周边，越是靠近结构物318的部位，树脂层319的厚度越小。换言之，在包含结构物318的区域(任意的区域)内，离结构物318越远的部位，树脂层319的基础部的厚度越大。因此，在本实施方式中，能容易控制干涉纹样。此外，上述区域的大小没有特别限定，但是基础部的厚度也可以在离结构物318大致Icm以内的区域内逐渐增大。
[0220]结构物318只要能使树脂层319的厚度具有偏差则没有特别限定，但是优选可局部地聚集溶剂成分，优选与模版314和基材316相比相对于溶剂的亲和性更高。
[0221]结构物318的形成方法没有特别限定。结构物318能利用例如纳米印刷技术、其它的各种蚀刻技术、基于喷墨、喷雾的涂敷技术等形成。除此之外，也可以使指纹附着于模版314，在该情况下，能利用手的脂肪形成结构物318。
[0222]结构物318可以形成为点状，也可以形成为线状，还可以形成为片状。结构物318的大小没有特别限定，但是当考虑干涉纹样的大小时，在点状的情况下，在俯视防反射膜时，优选为500nm以上且1mm以下，更优选为I μπι以上且Imm以下。从同样的观点出发，在片状的情况下，结构物318的大小在俯视防反射膜时优选Iym以上且Imm以下，更优选5 μ m以上且500 μ m以下，在线状的情况下，结构物318的宽度在俯视防反射膜时优选5 μ m以上且10mm以下，更优选50 μ m以上且50mm以下。防反射膜的厚度方向上的结构物318的大小即结构物318的高度在考虑蛾眼结构的各突起部的高度和结构物318的上述平面尺寸时，在点状的情况下优选50nm以上且1mm以下，更优选100nm以上且Imm以下，在片状的情况下优选50nm以上且Imm以下，更优选100nm以上且500 μ m以下，在线状的情况下，优选50nm以上且10mm以下，更优选100nm以上且50mm以下。
[0223]图48是实施方式3(变形例)的防反射膜的制造工序(曝光时)中的各构件的截面示意图。图49是实施方式3 (变形例)的防反射膜的制造工序(干燥时)中的各构件的截面示意图。
[0224]如图48所示，结构物318也可以预先形成于基材316上。由此也如图49所示，能控制树脂层319的膜厚。
[0225]在上述的实施方式和实施例中，对使用具有光固化性的树脂组合物的情况进行说明，但是也可以取代上述具有光固化性的树脂组合物，而使用具有热固化性的树脂组合物或者具有光固化性和热固化性的树脂组合物。
[0226]另外，实施方式I?3也可以适当地相互组合，例如也可以使用异物和结构物两者。
[0227]附图标记说曰月
[0228]10、12、16、216、316:基材
[0229]11:凸透镜
[0230]13、19、33、43、53、219、319:树脂层
[0231]14、214、314:模版
[0232]15、215、315:含溶剂树脂
[0233]18:异物
[0234]20:蛾眼结构
[0235]21:突起部
[0236]22、222、322:溶剂成分
[0237]23:基础部
[0238]24:金刚石刀具
[0239]25:针孔
[0240]30,40,50:黑色丙烯酸板
[0241]31,41:防反射膜
[0242]32、42:HC — TAC 膜
[0243]34、44:浆料
[0244]35:液晶显不器
[0245]36、53:HC 层
[0246]37、57:混合层
[0247]38、52:TAC 膜
[0248]51:楽料层
[0249]55:AR 层
[0250]218:树脂固体成分
[0251]318:结构物
【主权项】
1.一种防反射膜，具备基材和上述基材上的树脂层，上述防反射膜的特征在于， 在上述树脂层内存在多个空洞， 上述树脂层的折射率与上述基材的折射率不同， 上述树脂膜包含基础部和上述基础部上的多个突起部， 上述多个突起部与上述基础部一体地形成， 在有的区域内，上述基础部的厚度至少在一个方向上变化。
2.根据权利要求1所述的防反射膜，其中， 上述防反射膜进一步具备与上述树脂层和上述基材不同的物体， 上述物体与上述树脂层接触， 在包含上述物体的区域内，离上述物体越远的部位的上述厚度越大。
3.根据权利要求2所述的防反射膜，其中，上述物体包含异物。
4.根据权利要求2或3所述的防反射膜，其中，上述物体包含结构物。
5.根据权利要求1?4中的任一项所述的防反射膜，其中，上述基材在表面具有凹部和/或凸部。
6.一种显示装置，其特征在于，具备权利要求1?5中的任一项所述的防反射膜。
7.一种防反射膜的制造方法，其特征在于，包含: 准备基材的步骤； 准备含有固化性树脂组合物和溶剂的溶液的步骤； 准备设有多个孔的模版的步骤； 在上述基材和上述模版中的至少一方上涂敷上述溶液的步骤； 将上述模版按压到上述基材而将已涂敷的上述溶液配置于上述模版和上述基材之间的步骤； 在上述溶液被上述模版和上述基材夹着的状态下使上述固化性树脂组合物固化的步骤； 从上述基材和上述固化性树脂组合物的固化物的层叠体剥离上述模版的步骤；以及 在上述固化性树脂组合物固化后使上述溶剂挥发的步骤。
8.根据权利要求7所述的防反射膜的制造方法，其中，上述溶液在上述模版被按压的状态下与和上述模版、上述溶液以及上述基材不同的物体接触。
9.根据权利要求8所述的防反射膜的制造方法，其中，上述物体包含异物。
10.根据权利要求8或9所述的防反射膜的制造方法，其中，上述物体包含结构物。
11.根据权利要求7?10中的任一项所述的防反射膜的制造方法，其中，在上述基材和/或上述模版的表面形成有凹部和/或凸部。
【专利摘要】本发明提供能赋予低反射性能和图案设计性的防反射膜及其制造方法、以及显示装置。本发明是具备基材和上述基材上的树脂层的防反射膜，该防反射膜在上述树脂层内存在多个空洞，上述树脂层的折射率与上述基材的折射率不同，上述树脂膜包含基础部和上述基础部上的多个突起部，上述多个突起部与上述基础部一体地形成，在有的区域内，上述基础部的厚度至少在一个方向上变化。
【IPC分类】G02F1-1335, G02B1-118, B32B7-02, B32B27-00
【公开号】CN104620138
【申请号】CN201380046884
【发明人】三成千明, 箕浦洁
【申请人】夏普株式会社
【公开日】2015年5月13日
【申请日】2013年9月13日
【公告号】US20150241604, WO2014046021A1